「target pattern」を含む例文一覧(874)
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 17 18 次へ＞- To reduce an error from a target pattern using a main pattern and an auxiliary pattern.
主パターン及び補助パターンを用いて目標パターンからの誤差を低減する。 - 特許庁 - A measuring-target patterning device controller adjusts the measuring target pattern separately from the product pattern.
計測ターゲット・パターン化デバイス・コントローラが、製品パターンとは別個に計測ターゲット・パターンを調整する。 - 特許庁 - There are three matoe (pattern of a mato face) types: Kasumi-mato (which literally means "mist target"), hoshi-mato (which literally means "star target"), and iro-mato (also referred as tokuten-mato, which literally means "color [points] target").
的絵（的の模様）には霞的と星的と色（得点）的の3種類がある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR SUPPORTING REGISTRATION OF TARGET PATTERN
加工装置及びターゲットパターンの登録支援方法 - 特許庁 - METHOD OF IMAGING PATTERN ON TARGET OF SUBSTRATE
基板のターゲット部分にパターンをイメージングするための方法 - 特許庁 - In S102, a pattern parameter for defining the shape of a virtual pattern corresponding to a target pattern is set.
Ｓ１０２で、目標パターンに対応する仮パターンの形状を規定するためのパターンパラメータを設定する。 - 特許庁 - An expanding means 14 provides the translated result in the target language by expanding the converted original language pattern into target language pattern corresponding to combination with the converted original language pattern.
展開手段１４は、変換された原言語パターンの組合せで目的言語パターンに展開し、目的言語の翻訳結果を得る。 - 特許庁 - The measured target spectrum is generated by inducing radiation beam into the target pattern.
測定ターゲットスペクトルは放射ビームをターゲットパターンに誘導することによって生成される。 - 特許庁 - The precursor pattern has a light transmittance distribution corresponding to a thickness distribution of the inspection target pattern 2.
原版パターンは、被検査パターン２の厚み分布に応じた光透過率分布を有する。 - 特許庁 - AUTOMATED ANALYSIS OF MULTIPLEXED PROBE-TARGET INTERACTION PATTERN: PATTERN MATCHING AND ALLELE IDENTIFICATION
多重プローブターゲット相互作用パターンの自動分析：パターンマッチング及び対立遺伝子同定 - 特許庁 - When the target trajectory pattern exists, the target trajectory pattern determination section 14 discriminates whether or not the movement detected by a target information acquisition section 20 is identical or similar to the target trajectory pattern.
物標軌跡パターンがある場合、物標軌跡パターン判断部１４は、物標情報取得部２０で検出されている物標の動きが、その物標軌跡パターンに一致又は類似する動きであるかを判定する。 - 特許庁 - To provide a pattern inspection method and its device by which a target pattern is easily detected even if the size of the target pattern is small.
目的とするパターンのサイズが小さくなっても、目的とするパターンを容易に検出することが可能なパターン検出方法及びその装置を提供する。 - 特許庁 - Alignment is conducted to attain matching between the reference coordinates of alignment for alignment pattern and the center coordinates of the target pattern (S16), to thereby detect the target pattern (S17).
そのアライメント・パターンのアライメント基準座標と、ターゲット・パターンの中心座標とが一致するように位置合わせし（S16）、ターゲット・パターンを検出する（S17）。 - 特許庁 - SYSTEM FOR DETECTING TWO-DIMENSIONAL ABSOLUTE POSITION USING TARGET PATTERN
ターゲットパターンを使用して、二次元の絶対位置を感知するシステム - 特許庁 - To improve the formation accuracy of a pattern with respect to a target position.
目標位置に対するパターンの形成精度を向上する。 - 特許庁 - To prepare a pattern on a target object using an inkjet printing method, the target object having a nonflat surface.
非平坦な表面を有する対象物体にインクジェット印刷法でパターンを設けること。 - 特許庁 - A three-times-magnification pattern, an adjacent-left-sub-pixel pattern, and an adjacent-right-sub-pixel pattern are determined on the basis of a reference pattern consisting of eight pixels surrounding a center target pixel.
中心の注目画素を取り囲む８画素の参照パターンに従って、３倍パターン及び左右隣接サブピクセルパターンを決定する。 - 特許庁 - The feature appropriate to the target pixel is discriminated to be a complicated pattern, a longitudinal line pattern, a flat pattern, or a corner pattern or the like on the basis of the resulting value.
これらの結果値に基づき注目画素のあるべき特徴を、複雑な絵柄，縦線絵柄，フラット絵柄，角の絵柄などと判定する。 - 特許庁 - A sensor (102) captures the image (312) of the first subset of this target pattern.
センサ(102)は、該ターゲットパターンの第１のサブセットの画像(312)を捕捉する。 - 特許庁 - To prevent a contour pattern other than a recognition target including contour patterns similar to the pattern of the recognition target from being erroneously recognized.
認識対象のパターンに類似する輪郭パターンを含む認識対象外の輪郭パターンが誤認識されることがないようにする。 - 特許庁 - To form a resist pattern of a predetermined target dimension on a substrate.
基板上に所定の目標寸法のレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - METHOD FOR MEASURING MEASUREMENT TARGET PATTERN USING ELECTRON MICROSCOPE DEVICE
電子顕微鏡装置を用いた計測対象パターンの計測方法 - 特許庁 - The system which detects the absolution position in two-dimension is included, having a target of the two-dimensional target pattern (106).
二次元における絶対位置を感知するシステムは、二次元のターゲットパターン(106)を有するターゲットを含む。 - 特許庁 - A compiler device for detecting a previously determined substitution target pattern having a plurality of instructions from a target program to be optimized and replacing the detected substitution target pattern into a substitution destination instruction string determined correspondingly to the substitution target pattern to optimize the target program is provided.
最適化対象の対象プログラムの中から、予め定められた複数の命令を有する置換対象パターンを検出し、検出した置換対象パターンを、置換対象パターンに対応して定められた置換先命令列に置換して最適化するコンパイラ装置を提供する。 - 特許庁 - FINE PATTERN FORMING MATERIAL, STACKED STRUCTURE AND SPUTTERING TARGET
微細パターン形成材料、および積層構造体、ならびにスパッタリングターゲット - 特許庁 - To facilitate operation for stopping a target picture pattern at a target position concerning a game machine for aiming at a jackpot by stopping the scrolling picture pattern.
スクロールする図柄を停止させて当たり役を狙う遊技機において、狙った図柄を狙った位置に停止させる操作を容易にすること。 - 特許庁 - A target variation pattern setting part 52 sets a target variation pattern PAOBJ of the heat generation rate ROHR in accordance with an engine operation state.
目標変化パターン設定部５２は、熱発生率ＲＯＨＲの目標変化パターンＰＡＯＢＪを、機関運転状態に応じて設定する。 - 特許庁 - The conductor pattern and bonding layer are peeled from the conductive pattern holding substrate and are then transferred to the target substrate.
導電パターンと接着層とを導電パターン保持基板から剥離し、目的基板に転写する。 - 特許庁 - The controller asks for the absolute two-dimensional position of the first subset to the origin position of the target pattern, based on the first and second imaging vectors and the target vector representing the target pattern.
コントローラは、該第１および第２の画像ベクトルと、該ターゲットパターンを表すターゲットベクトルとに基づいて、ターゲットパターンの原点に対する第１のサブセットの二次元絶対位置を求める。 - 特許庁 - The three-times-magnification pattern is allocated to the three sub-pixels constituting the target pixel, and the adjacent-left-sub-pixel pattern and adjacent- right-sub-pixel pattern are allocated to the left and right sub-pixels adjacent to the target pixel respectively.
この３倍パターンは、注目画素を構成する３つのサブピクセルに割り当てられ、左右隣接サブピクセルパターンは、注目画素の左右に隣接するサブピクセルに割当てられる。 - 特許庁 - The above amount of corrections is variable rectangular beam size data corresponding to the difference of a target pattern size, a resist pattern size formed by specifying the amount of the reference light exposure, and the target pattern size.
前記補正量は、目標パターンサイズと基準露光量を指定して形成したレジストパターンサイズと目標パターンサイズとの差分に対応する可変矩形ビームサイズデータである。 - 特許庁 - Thus the measured target spectrum is compared with the second series calibration spectrum to derive the structure parameter value of the target pattern.
測定ターゲットスペクトルと第二系列の較正スペクトルを比較し、ターゲットパターンの構造パラメータの値を導出する。 - 特許庁 - To perform stable distance measurement regardless of a direction of a pattern of a target.
対象物の模様の方向に寄らずに安定した距離計測を行う。 - 特許庁 - To provide a method of forming a minute pattern having a target critical dimension.
目標臨界寸法を有する微細パターンを形成方法を提供する。 - 特許庁 - The target has at least one prescribed pattern on the surface.
目標物は、その表面に少なくとも１つの所定のパターンを有する。 - 特許庁 - An imaging apparatus (18) generates image data of the pattern of an integrated circuit formed from the target pattern.
撮像装置（１８）は、ターゲットパターンに基づき形成された半導体装置のパターンの画像データを生成する。 - 特許庁 - A matching pattern generation means 30 generates a matching pattern related to a target content part based on the classification.
マッチング・パターン生成手段３０は該分類に基づいてターゲット・コンテンツ部分に係るマッチング・パターンを生成する。 - 特許庁 - An expanding means 14 expands the original language pattern converted by the converting means 13 into target language pattern.
展開手段１４は、変換手段１３で変換された原言語パターンを目的言語パターンに展開する。 - 特許庁 - To estimate a feature pattern corresponding to an observation from a pattern of an observation target at extremely reduced calculation costs.
観測対象のパターンから、観測に対応する特徴パターンを格段に少ない計算コストで推定すること。 - 特許庁 - A monitoring target identification part 22 registers monitoring target patterns and identifies the monitoring target from a photographed image by using a pattern matching technique.
監視対象識別部２２は、監視対象物パターンを登録し、撮影された映像からパターンマッチング技法を用いて監視対象物を識別処理する。 - 特許庁 - A target pixel unit and a comparison pixel unit are defined based on the feature of the pattern.
パターンの特徴により、目標画素ユニットと比較画素ユニットを定義する。 - 特許庁 - To provide a system for lighting a target area with a desired lighting pattern.
ターゲット領域を所望の照明パターンで照明するシステムを提供する。 - 特許庁 - A projection system projects the radiation beam with a pattern to a target of the substrate.
投影システムが、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する。 - 特許庁 - A projection system projects the beam subjected to pattern formation on the target portion of a substrate.
投影システムは、パターン形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する。 - 特許庁 - A target trajectory pattern determination section 14 determines, based on vehicle information acquired from a vehicle information acquisition section 30, whether or not the target trajectory pattern from a current position to a traveling direction of a vehicle is included in the target trajectory pattern stored in the trajectory pattern information storage section 12.
物標軌跡パターン判断部１４は、車両情報取得部３０から取得する車両情報に基づいて、軌跡パターン情報記憶部１２に記憶されている物標軌跡パターンの中に車両の現在位置から進行方向に関する物標軌跡パターンがあるか判断する。 - 特許庁 - To efficiently detect a target in a radar by forming a correct antenna pattern corresponding to the kind of the target.
レーダ装置において、目標の種別に対応した的確なアンテナパターンを形成して、効率的な目標検出を行う。 - 特許庁 - In an approximate pattern calculation step, a lithographic target having the same corresponding relationship as an approximate value of the above corresponding relationship is calculated as an approximate pattern.
前記対応関係の近似値と同じ対応関係を有したリソグラフィターゲットを近似パターンとして算出する。 - 特許庁 - Thereafter, the density of each pattern is measured, and an optimum pattern is selected in accordance with a target density value (step S4).
その後、各パターンについて濃度を測定し、狙いとする濃度値に合わせて最適なパターンを選択していく（ステップＳ４）。 - 特許庁 - Then, a beam with a second pattern is irradiated to a second target portion of the substrate to form the second pattern on the substrate.
その後、基板の第２ターゲット部分に、第２パターン付きビームが照射されて、基板上に第２パターンを形成する。 - 特許庁 - A target smell is detected by a first sensor array and a first response pattern is recorded.
対象臭を第１のセンサアレイで検出し、第１の応答パターンを記録する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
- Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
- 本サービスで使用している「Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス」はWikipediaの日本語文を独立行政法人情報通信研究機構が英訳したものを、Creative Comons Attribution-Share-Alike License 3.0による利用許諾のもと使用しております。詳細はhttp://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/ および http://alaginrc.nict.go.jp/WikiCorpus/ をご覧下さい。
