This is an X-ray mask which has an X-ray absorber made selectively on an X-ray transmitting film 2, and as this X-ray absorber 1, amorphous structure of TaSiAl, TaSiTi, TaSiCr, TaSiMo, TaSiCu, TaGeAl, TaGeTi, TaGeCr, TaSiMo, or TaGeCu is used. X線透過膜2上に選択的に形成されたX線吸収体1を有するX線マスクであって、このX線吸収体1として、アモルファス構造のTaSiAl、TaSiTi、TaSiCr、TaSiMo、TaSiCu、TaGeAl、TaGeTi、TaGeCr、TaSiMo、TaGeCuを用いる。 - 特許庁