「thin layer method」を含む例文一覧(2066)

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  • To provide a composite thermoelectric material having an MNiSn-based half Heusler compound (M=Ti, Zr, Hf) as a parent phase in which the periphery of the parent phase is coated with a thin and uniform oxide layer consisting of a predetermined metal oxide, and to provide a method of producing the same.
    MNiSn系ハーフホイスラー化合物(M=Ti、Zr、Hf)を母相とし、母相の周囲が所定の金属酸化物からなる薄くかつ均一な酸化物層で被覆された複合熱電材料及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • In the pattern forming method in which the surface layer of a substrate 1 is patternwise etched using a resist pattern as a mask, the pattern forming region of the surface of the substrate 1 is divided into a dense first region 2a and a thin second region 2b in accordance with pattern forming density.
    基板1の表面層に対して、レジストパターンをマスクに用いたパターンエッチングを施すパターン形成方法において、基板1表面のパターン形成領域を、パターンの形成密度に応じて密な第1領域2aと疎な第2領域2bとに分割する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a thin-film solar cell for setting layers of compounds formed between a metal back electrode surface to which Mo is applied and a light absorption layer to an appropriate thickness and uniformly forming the layers of compounds in a CIGS-type solar cell.
    CIGS型の太陽電池において、Moが適用された金属裏面電極層と光吸収層との間に形成される化合物の層を適切な厚さにするとともに均一に形成する薄膜太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a semiconductor device at a low cost with high reliability, wherein the semiconductor device is manufactured by peeling an element forming layer formed on a substrate and having a thin film transistor or the like from the substrate.
    本発明では、基板上に設けられた薄膜トランジスタ等を有する素子形成層を当該基板から剥離することにより半導体装置を作製する方法であって、低コストで信頼性の高い半導体装置の作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • A method of producing catalyst carrier for a gasoline engine exhaust emission control system includes the processes of: preparing the substrate of the catalyst carrier by using a porous body made by sintering layered material of a plurality of metal nets; and forming an alumina thin layer in which the catalytic substance is dispersed and carried, on the surface of the substrate.
    本発明は、複数枚の金網を積層した素材を焼結した多孔体を触媒担持体の基材とし、この基材の表面に、触媒物質を分散担持したアルミナ薄層を形成して、排気ガス浄化装置の触媒担持体を製造する。 - 特許庁
  • To provide a thin-film transistor capable of blocking irradiation of external light to an oxide semiconductor layer, and preventing degradation of a semiconductor characteristic of the same, to provide a method of manufacturing the same, and to provide a display substrate improved in display quality by using the same as a switching element.
    酸化物半導体層に対する外部光の照射を遮断し、その半導体特性の劣化を防止できる薄膜トランジスタ、その製造方法、およびそれをスイッチング素子として利用し、表示品質を向上した表示基板を提供する。 - 特許庁
  • To provide a reproduction method of an elastic developing roller, in which a used elastic developing roller in a cartridge mounted in a nonmagnetic one-component developing machine is subjected to a specific treatment to allow thin layer forming and high charging of toner on the elastic developing roller to be achieved.
    非磁性一成分現像機に搭載したカートリッジにおける使用済の弾性現像ローラに特定の処理を施し、該弾性現像ローラ上におけるトナーの薄層形成化及び高帯電化を可能とする弾性現像ローラの再生方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a decorative article with a metallic thin coating film, which does not have a clearly defined level difference formed between a pictorial pattern part and a pictorial pattern background part, as a decorative layer, and a method for manufacturing this decorative article in a simple operating way.
    加飾層として、絵柄部分と絵柄背景部分の間に明確な段差が形成されていない金属薄膜を有する加飾された物品を提供すること、及びそのような加飾された物品を簡便な操作によって製造する方法を提供すること。 - 特許庁
  • The new inorganic EL element uses zinc oxide thin film obtained by the method as the luminescent layer.
    排気量制御により供給する有機物気体を含む雰囲気ガス中で、塩化亜鉛を加熱して気化させ、基板上に酸化亜鉛を析出させる酸化亜鉛蛍光体の製造方法、および当該方法により得られる酸化亜鉛薄膜を発光層とする新しい無機EL素子。 - 特許庁
  • To provide a coating method capable of making film thickness in a width direction uniform even when coating of a thin layer is performed, capable of suppressing variation in the film thickness in a longitudinal direction and capable of maintaining stable coating by suppressing generation of stripe, or the like, and to prepare an optical film and an anti-reflection film.
    薄層の塗布を行った場合でも、幅方向の膜厚を均一にでき、長手方向の膜厚の変動を抑制でき、スジ等の発生を抑え、安定した塗布を維持できる塗布方法、光学フィルム及び反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁
  • A method of joining silicon wafers includes a step of heating a component member, consisting of two or more silicon wafers, plated with nickel and a thin layer, provided in between the nickel-plated silicon wafers, consisting of one of aluminum, tin, copper and silver under a pressurized condition, and a step of cooling it to join the wafers.
    ニッケルでメッキされた2枚以上のシリコンウェハーと、前記ニッケルメッキされたシリコンウェハーの間に配置されたアルミニウム、錫、銅、および銀のうち1種からなる薄層とからなる構成部材を加圧状態で加熱し、冷却して、シリコンウェハーを接合する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a thin-film magnetic head, capable of forming a plane made flat including the upper surface of an upper return yoke and forming a low thermal expansion material layer having no step on the plane without greatly increasing the number of steps.
    工程数を大幅に増加させることなく、上部リターンヨークの上面を含む平坦化された平面を形成すると共に、該平面上に段差部の無い低熱膨張材層を形成することが可能な薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an electroplating method by which the dissolution of a metal base body can be prevented and electroplating can be performed normally when the electroplating is applied to the surface of the metal base body comprising a metal thin film formed on the surface of a semiconductor layer through an insulating film.
    半導体層の表面に絶縁膜を介して形成された金属薄膜からなる金属基体の表面に電気めっきする際に、金属基体の溶解を防止して正常に電気めっきできるようにした電気めっき方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide an electrode plate for a nonaqueous electrolyte secondary battery formed in a short time and comprising a thin electrode active material layer and a method for manufacturing the same, and to provide a nonaqueous electrolyte secondary battery using the electrode plate as a positive electrode plate.
    短時間で形成され且つその厚みが薄い電極活物質層から構成される非水電解液二次電池用電極板及びその製造方法、並びに当該電極板を正極板として用いて構成される非水電解液二次電池を提供する。 - 特許庁
  • To provide an oxidation film forming method, capable of adjusting oxidation condition according to the state of the surface and/or the surface layer of a silicon wafer before oxidation film formation, thereby being capable of forming with proper precision, for example, even an ultra thin oxidation film.
    酸化膜形成前のシリコンウェーハの表面、及び/又は、表面層の状態によって酸化条件を調整することができ、それにより例えば極薄の酸化膜でも精度良く形成することができる酸化膜形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide a thin film deposition method by which a film is uniformly deposited, e.g. on the surface of an insulating film with tight adhesion regardless of the material of a base layer, and, even in the case of the inside of a fine recessed part, the same can securely be buried therein and to provide a system therefor.
    下地層の材質に拘わらず、例えば絶縁膜の表面に密着性良く均一に成膜して、微細な凹部の内部であっても、この内部に確実に埋込むことができるようにした薄膜形成方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a thin film forming method, and a plasma CVD(chemical vapor deposition) system, for fabricating a highly reliable element by enhancing step coverage while suppressing corrosion of underlying Si layer at the time of forming a titanium film and a titanium silicide film by plasma CVD using TiCl4 as a material.
    TiCl_4 を原料としたプラズマCVDでチタン膜とチタンシリサイド膜を形成するとき、段差被覆性が良くかつ下地Si層の浸食を抑制し、信頼性の高い素子を製造する薄膜形成方法とプラズマCVD装置を提供する。 - 特許庁
  • To improve uniformity of a dielectric film by eliminating incubation time when forming the dielectric film by Chemical Vapor Deposition (CVD) method on a silicon (Si) substrate surface covered with a thin molecular layer of an insulator and to control composition of the dielectric film in the thickness direction.
    薄い絶縁物の分子層で覆われたSi基板表面にCVD法により誘電体膜を形成する際のインキュベーション時間をなくし、得られる誘電体膜の均一性を向上させると同時に、誘電体膜の膜厚方向の組成を制御する。 - 特許庁
  • To provide an organic thin film transistor which can operate with low voltage and which is easy to commercialize by forming a gate dielectric layer on a plastic or glass substrate, in a low-temperature process with a thickness of several nanometers, and to provide a fabrication method thereof.
    プラスチック基板やガラス基板などに低温工程で形成するものの、数nmの厚みでゲート絶縁膜を形成することによって、低電圧で動作が可能であり、且つ商用化が容易な有機薄膜トランジスタ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a thin separator for an electrochemical element having excellent ion permeability and mechanical strength, by reducing an internal resistance of the electrochemical element such as an electric double-layer capacitor or the like, and by preventing self-discharge and short-circuiting thereof; and to provide an apparatus and a method for manufacturing the same separator.
    電気二重層キャパシタなどの電子化学素子の内部抵抗を低減させ、自己放電や短絡を防ぎ、かつ、薄膜で、イオン透過性や機械的強度に優れた電気化学素子用セパレータおよびその製造装置と製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a thin semiconductor and a method for manufacturing it wherein a material cost is reduced by effectively reducing the total thickness and thinning a substrate and it is possible to reduce the cost by providing a substrate which does not require a solder mask layer.
    全体厚さを有効的に低減し、基板の厚さを薄型化することによって、材料原価の低減を行い、ソルダマスク層を敷設不要な基板を提供することによって、コストの低減が可能な薄型半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Such a thin-film water-catching material layer 5 can not be formed by filling a powder-like water-catching material, by applying water-catching material paste prepared by mixing a water-catching material in inactive oil, or by attaching an adhesive sheet containing a water-catching material, like a conventional water-catching material formation method.
    このような薄膜の捕水材層5は、従来の捕水材形成方法のように、パウダー状の捕水材を封入したり、捕水材を不活性オイルに混合した捕水材ぺ一ストを塗布したり、捕水材を含む粘着シートの貼着などでは形成できない。 - 特許庁
  • To provide method and a device for forming contact holes of low resistance with proper productivity, even with respect to an insulating film on a thin active layer Si film of a number of irregularities.
    活性層としてのSi膜をエキシマレーザアニールにより結晶化させる際にSi膜表面に凹凸が発生することにより、CHF_3+O_2ガスによるドライエッチング、及びバッファードフッ酸ウェットエッチングを行った後でもSiの凹部内に酸化膜が残留しコンタクト不良となる。 - 特許庁
  • To provide a method for adjusting a gap between rollers in a liquid developing device, wherein the film thickness of the thin layer of liquid developer is properly controlled without being adversely influenced by a fluctuation in temperature and good image quality is always maintained, and to provide the liquid developing device.
    温度の変動による悪影響を受けずに液体現像剤の薄層の膜厚を適正に制御でき、常に良好な画像品質を維持できる液体現像装置におけるローラ間のギャップ調整方法及び液体現像装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a fixing member which is capable of forming a thin rubber layer of ≥0.03 to <1 mm in thickness on a base material, improving fixability and durability and making the time for heating-up time shorter and the energy for heating-up smaller.
    基材上に厚さ0.03mm以上、1mm未満の薄肉のゴム層を形成することができ、定着性および耐久性が良好で、かつ昇温時間の短縮化および昇温エネルギーの低減化を図ることができる定着部材の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a gasket usable for a long period by laminating a thin protecting film layer on the abutment surface of the gasket to be mounted at the inner face peripheral edge of a front opening/closing door of any kind of refrigerator to produce less friction resistance with lighter operation in opening/closing the door, and its manufacturing method.
    各種の冷蔵庫の前面開閉扉の内面周縁に設けるガスケットの当接面の表面に薄保護膜層を重合して開閉扉の摩擦抵抗を小さく軽快に長期間使用できるようにしたガスケットとその製造方法である。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of an EL element in which a luminous layer having a thin and uniform thickness can be formed when manufacturing the EL element having a plurality of luminous layers, and the manufacturing processes can be simplified.
    本発明は、複数の発光層を有するEL素子を製造する際に、薄膜でかつ均一な膜厚の発光層を形成することができ、さらに製造工程を簡略化することが可能なEL素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁
  • To provide a soluble surface treatment method for LaSrAlO_4 single crystal substrate by which a superconductive oxide thin film having a super conductivity transition temperature can be formed with a high yield, by removing a deteriorated layer left on the surface of a substrate by a soluble surface treatment.
    基板表面に存在している劣化層を溶解性表面処理により取り除き、超伝導転移温度の高い超伝導酸化物薄膜を高歩留まりで作製できるLaSrAlO_4単結晶基板の溶解性表面処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a simple film thickness measuring method and a thin film measuring device, capable of continuously and accurately finding the thickness of one layer of a strip specimen in front and in the rear of a connecting part, when the strip specimen formed by longitudinally connecting plural layered products longitudinally travels.
    積層体を長手方向に複数接続した帯状試料が、長手方向に走行する際に、該帯状試料の1層の厚さを、接続部の前後で連続的且つ正確に求め得る、簡便な膜厚測定方法および膜厚測定装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a technology which enables an even coat with a thin film that is an upper film on a continuously travelling web having a layer which consists of a coating liquid applied in a first coating process without bubbles entering both ends after coating in a method that multilayer coats the coating liquid.
    塗工液を多層塗布する方法において、第1の塗布工程で塗工液が塗布された層が設けられた連続して走行するウェブに、塗工後に気泡が両端部より進入することなく上層である薄膜を均一塗布する技術を提供する。 - 特許庁
  • To provide an inorganic substrate with a silica based thin layer which has electric insulating property, flexibility and excellent heat resistance, is flattened and is free from alternation, deterioration or deformation even when exposed at a high temperature, a method of manufacturing the same, a coating agent for the same and a semiconductor device.
    電気絶縁性と可撓性と優れた耐熱性を有し平坦化され高温に曝されても変質、劣化、変形することのないシリカ系ガラス薄層付き無機質基板、その製造方法、そのためのコーテイング剤および半導体装置を提供する。 - 特許庁
  • The semiconductor thin film 15 can be manufactured, by developing the solvent where the semiconductor colloidal nanodots 30 are dispersed in the solvent on the surface of water, and then transferring single particle layer film, arranged regularly on the occasion of vaporizing the solvent to the substrate with the horizontal adhering method.
    半導体薄膜15は、半導体コロイダルナノドット30を溶媒中に分散させた溶液を水の表面に展開し、溶媒を蒸発させてその際に規則配列となった単粒子層膜を水平付着法により基板に移し採ることで作製する。 - 特許庁
  • A translucent semi-reflective inorganic thin film layer having 3-50% transmittance and 50-97% reflectance is formed by a dry film forming method on a substrate comprising a plastic film provided with light scattering property to obtain the objective translucent semi-reflective diffusible film.
    光散乱加工されたプラスチックフイルムからなる基材の上に、乾式製膜法によって形成した透過率が3〜50%で、反射率が50〜97%の範囲にある半透過性で半反射性の無機薄膜層を設けた半透過半反射拡散性フイルム。 - 特許庁
  • To provide an integrated thin film solar cell which prevents an intermediate junction layer between a plurality of laminated photoelectric conversion layers from short-circuiting with a contact region and lowering F.F., and also to provide a manufacturing method thereof.
    積層された複数の光電変換層の相互間に生じる中間接合層がコンタクト領域と短絡してF.F.を低下させることを防止し、光電変換効率を向上することが可能な集積型薄膜太陽電池およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the thin film transistor substrate comprises the steps of forming a gate electrode 2a of a TFT in the region including a concave part 1a formed on an insulating substrate 1, forming an insulating film layer 5 on it, and arranging a source electrode 3b in the region over the concave part 1a.
    TFT基板を、絶縁性基板1に形成した凹部1aを含む領域にTFTのゲート電極2aを形成し、その上に絶縁膜層5を形成して、その凹部1aの直上の領域にソース電極3bが配置されるようにする。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a thin-film transistor circuit, together with a liquid-crystal display device using it, wherein an electrostatic breakdown in a process is prevented by connecting a gate electrode to a bus wiring after an inter-layer insulating film is formed on the gate electrode.
    ゲート電極上に層間絶縁膜を形成した後に、ゲート電極とバス配線との接続を行うことにより、工程中の静電気破壊を防止できる薄膜トランジスタ回路の製造方法およびそれを用いた液晶表示装置提供する。 - 特許庁
  • To provide an image forming method using an image forming apparatus equipped with a developing device of a touch-down developing system, in which stable image density can be obtained even in long-term printing by controlling a toner thin layer on a toner carrier to a predetermined thickness.
    タッチダウン現像方式の現像装置を具備する画像形成装置を用いた画像形成方法において、トナー担持体上のトナー薄層を所定の厚さに制御して、長期の印刷においても安定した画像濃度が得られる画像形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a fuel cell electrode structure in which occurrence of adhesion defective parts at the border of each layer can be prevented and performance degradation of the ion exchange membrane can be prevented, and in addition, the ion exchange membrane can be made thin.
    それぞれの層の境界に密着不良部分が発生することを防ぐことができ、さらにイオン交換膜の性能低下を防ぐことができ、加えてイオン交換膜を薄くすることができる燃料電池用電極構造の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • A method includes a step of laminating a thin layer which includes silicon and carbon and may include oxygen and/or nitrogen by request on a film to process a patterned low dielectric constant film obtained after removing a photoresist from the film.
    一態様において、方法は、シリコンと、炭素とを含み、所望により酸素及び/又は窒素を含んでもよい薄層を膜上に堆積させることによりフォトレジストが膜から除去された後のパターン形成された低誘電率膜を処理するステップを含む。 - 特許庁
  • To provide a method for producing nano particle dispersion of zinc sulfide (ZnS:Mn) doped with manganese ion, and to provide a thin film inorganic light-emitting diode containing a coating layer containing the improved ZnS:Mn dispersion.
    マンガンイオンが非常に効率的な方法でドーピングされた硫化亜鉛(ZnS:Mn)のナノ粒子分散液の製造方法およびそのような改良されたZnS:Mn分散液を含有するコーテイングされた層を含んでなる薄膜無機発光ダイオードを提供すること。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a thin-film transistor for using, for an active layer, a new oxide semiconductor capable of readily and efficiently performing conversion from a metal oxide precursor to an oxide semiconductor by applying a heat pattern.
    本発明の目的は、熱パターンの適用により、金属酸化物前駆体からの酸化物半導体への転換を、容易にかつ効率よく行うことのできる新しい酸化物半導体を活性層に用いる薄膜トランジスタの製造方法を提供することにある。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a semiconductor device having a thin film transistor with excellent transistor characteristics without the use of an expensive substrate having a monocrystalline silicon layer laminated thereon, or a silicon film which diffuses a catalyst metal, the semiconductor device, and an electrooptical device.
    単結晶シリコン層を貼り付けた高価な基板や、触媒金属を拡散させたシリコン膜を用いなくても、トランジスター特性の優れた薄膜トランジスターを備えた半導体装置の製造方法、半導体装置、および電気光学装置を提供すること。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the photovoltaic device comprises the steps of sequentially laminating a first transparent conductive film 2a, a metal thin film 2b and a second transparent conductive film 2c on an insulating substrate 1 having a transparency to form a rear surface electrode 2, and further laminating a semiconductor layer 3 on the rear surface electrode 2.
    透光性を有する絶縁性基板1に第1透光性導電膜2a、金属薄膜2b、第2透光性導電膜2cを順次積層して裏面電極2を形成し、さらに裏面電極2上に半導体層3を積層する。 - 特許庁
  • The other objective method for producing a flexible board is characterized by comprising the following consecutive steps: a plastic film is laminated with a conductive metallic thin film using the adhesive composition; a specified resist pattern is formed on the surface of the metallic thin film; non-line-drawn parts are etched; and the laminate is irradiated with active energy rays to cure the adhesive composition layer.
    第二の構成は、該接着剤組成物を用いて、導電性金属薄膜とプラスチックフイルムをラミネートする工程、金属薄膜面に所定のレジストパターンを形成する工程、非画線部をエッチングする工程及び活性エネルギー線を照射して接着剤組成物層を硬化させる工程をこの順に有することを特徴とするフレキシブル基板の製造方法。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the optical laminate having an alignment layer of a lyotropic liquid crystal compound, formed on the surface of the rubbed base film includes: a step A of forming a water soluble thin film on the surface of the rubbed base film; and a step B of forming an alignment layer of the lyotropic liquid crystal compound by applying an aqueous solution containing the lyotropic liquid crystal compound on the surface of the water soluble thin film.
    ラビング処理された基材フィルムの表面に、リオトロピック液晶化合物の配向層を形成する光学積層体の製造方法であって、ラビング処理された前記基材フィルムの表面に水溶性薄膜を形成する工程Aと、前記水溶性薄膜の表面にリオトロピック液晶化合物を含む水溶液を塗布し、リオトロピック液晶化合物の配向層を形成する工程Bとを、含むことを特徴とする光学積層体の製造方法。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a color filter array having simplified manufacturing steps, particularly a method for manufacturing the color filter array substrate provided with an overcoat layer having a flat surface, and to provide a thin film patterning apparatus capable of performing the patterning step without using a photolithography step and capable of simplifying the manufacturing step and a method for manufacturing the color filter array substrate utilizing the same.
    本発明は、製造工程を単純化したカラーフィルタアレイ基板の製造方法、特に、平坦面を有したオーバーコート層を備えたカラーフィルタアレイ基板の製造方法、フォトリソグラフィ工程を使用せずにパターニング工程を行えると共に、製造工程の単純化を可能にした薄膜パターニング装置及びそれを利用したカラーフィルタアレイ基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
  • In the method of manufacturing a semiconductor device; a gate insulating film and a gate electrode are provided in this order on the substrate via the semiconductor thin-film layer, a gate electrode 7 is formed on one main surface of a first substrate 1, and a gate insulating film 9 is formed while covering the gate electrode 7.
    基板上に半導体薄膜層を介してゲート絶縁膜とゲート電極とがこの順に設けられた半導体装置の製造方法であって、第1基板1の一主面上にゲート電極7を形成し、これを覆う状態でゲート絶縁膜9を形成する。 - 特許庁
  • In the image forming method, toner is used which includes a resin obtained by a polyaddition or polycondensation reaction and has an average circularity and an average circle-equivalent diameter each in a specified range, and a toner image is fixed with a fixing roller having a release layer on a surface of a thin core metal whose peripheral surface side is partly recessed.
    樹脂が重付加又は重縮合反応で得られ、円形度平均値と円相当径平均値が特定範囲内の値を有するトナーを用い、外周面側の一部が凹んだ薄肉の芯金表面に離型層を有する定着ローラでトナー像を定着する画像形成方法。 - 特許庁
  • The surfaces of the conductor pushing sections 5, 6, 8 at least at the front end are rough-surface machined and carbon ions are physically evaporated on the surfaces of at least the conductor pushing sections by an arc discharge method under a vacuum, and a thin-film layer 9 with a diamond crystal structure is formed.
    少なくとも先端の導線押圧部5、6、8の表面に粗面加工を施し、さらに少なくとも前記導線押圧部の表面に真空下においてアーク放電法によりカーボンイオンを物理蒸着せしめてダイヤモンド結晶構造を有する薄膜層9を形成した。 - 特許庁
  • A film made of polymeric material is formed on the entire surface of a lower electrode connected to a thin transistor by a coating method, and then is etched by etching by plasma, thereby allowing selective forming of a polymeric material layer.
    本発明は、薄膜トランジスタと接続される下部電極上に塗布法により全面に高分子系材料からなる膜を形成した後、プラズマによるエッチングによって高分子系材料からなる膜をエッチングし、高分子系材料層の選択的な形成を可能にするものである。 - 特許庁
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