To provide a radiation-sensitive resin composition that has high radiation-sensitivity, has a developing margin capable of forming a superior pattern shape, even if exceeding the optimum developing time in a developing process and that can easily form a patterned thin film that is superior in adhesiveness. 高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having a developing margin of forming a satisfactory pattern shape even when exceeding the optimum developing time in a developing process, and can form easily a pattern-like thin film excellent in tightness. 高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation, having a development margin allowing formation of a preferable pattern even through development exceeding the optimum developing time in a developing process, and capable of easily forming a patterned thin film having excellent adhesiveness with a substrate. 高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えて現像処理を行ってもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、且つ基板との密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
In the peripheral end part, a thin wall hinge part 24 is formed in the substrate 21, and a winding margin 25 set up in the peripheral part of the hinge part 24 with the hinge part 24 made a folding base point is wound on the inner surface side of the substrate 21 and fixed to improve the appearance and strength of the peripheral part. そして、外周端末部は、発泡樹脂基材21に薄肉ヒンジ部24を形成し、この薄肉ヒンジ部24を折返し基点としてその外周部に設定した巻込みシロ25を発泡樹脂基材21の内面側に巻込み固定することで、外周部の見栄えと強度を向上させる。 - 特許庁
Since the number of gate stages from a time when a start signal is inputted to the shift register 1 till a time when control signals are inputted to analog switches supplying an analog signal to signal lines is minimized in the driving circuit, the driving circuit becomes to be hardly affected by variation of characteristics of TFTs(thin film transistors) constituting the circuit and the operating margin is broadened. シフトレジスタ1にスタート信号が入力されてから、信号線にアナログ画素電圧を供給するアナログスイッチに制御信号が入力されるまでのゲート段数を最小限にするため、回路を構成するTFTの特性のばらつきの影響を受けにくくなり、動作マージンが広がる。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition which has high radiation sensitivity and development margin to form a favorable pattern even when the process time exceeds the optimum developing time in a developing process, and with which a pattern thin film having excellent adhesiveness can be easily formed, and to provide an interlayer insulating film of electronic parts and microlens. 高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物、電子部品の層間絶縁膜およびマイクロレンズの提供。 - 特許庁
The bump 6 where height accuracy on approximately the same level as the copper foil 11 is obtained, and a highly reliable semiconductor package where a load is not applied to a semiconductor part 12 can be provided, and also the margin to be added at decision of the height of the bump can be reduced, and the package can be made thin as a whole. これにより銅箔11とほぼ同等の高さ精度が保証されたバンプ6が得られ、半導体部品12に負荷が加わることのない信頼性の高い半導体パッケージを提供できるとともに、バンプ高さの決定に際し加味すべきマージンを低減でき、パッケージ全体を薄くすることができる。 - 特許庁
In the food vessel for simple wrapping reinforcement, an inner vessel 2 of a thin plastic film is supported by inserting a crosspiece 11 mounted on each inner wall surface of a margin frame 1 in accordance with a partition 21 mounted on the inner vessel 2 into a space 24 on the undersurface of the partition 21 of the integrally formed inner vessel 2 when the vessel is assembled. 内容器2に設けられた仕切21に応じて縁枠1の各内壁面に設けられた補強桟11を、容器の組立に際して、一体成形された内容器2の仕切21の下面の空間24内に挿入し、薄いプラスチックからなる内容器2を支持した簡易包装用食品容器である。 - 特許庁
To provide an active element substrate and a liquid crystal display that can suppress small variation in drain potential during OFF-period of a thin-film transistor due to capacitances, respectively provided at superimposed portions of signal lines and a pixel electrode, while taking a wide process margin, and that can simplify the structure of signal lines, and improve the aperture ratio. プロセスマージンを広くとりながら、信号線と画素電極とを重畳配置したことによる容量に起因する、薄膜トランジスタがOFFしている期間のドレイン電位の変動を小さく抑えることができ、かつ、信号線の構造を簡素化すると共に開口率を向上させ得る能動素子基板と液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide an array substrate, a display device and a method for manufacturing the substrate, which contribute to reduction in cost, increase in yield and expansion of the process margin of forming and processing an intermediate resist film thickness by reducing variation in the intermediate resist film thickness when intermediate exposure is performed on a region where a plurality of types of thin film patterns are formed at the same photo lithography step. 複数種類の薄膜パターンを形成する領域に、同一の写真製版工程で中間的な露光を行う場合、中間レジスト膜厚のばらつきを小さくして、中間レジスト膜厚を形成して加工するプロセスのマージンを拡大して歩留りを上げ、低コストなアレイ基板、表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a laminated electronic component that, when laminating an electrode pattern layer and a margin pattern layer formed so as to fill its clearance onto a thin-layered green sheet, can separate the laminated body unit intact from the support sheet and dispose of flections at the end of the internal electrode layer, thus decreasing a short circuit. 電極パターン層とその隙間を埋めるように形成する余白パターン層とを、薄層化したグリーンシートに対して積層する際に、積層体ユニットを破断することなく支持シートから剥離することを可能にし、内部電極層端部の屈曲を無くし、ショート不良が少ない積層型電子部品を製造する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and a development margin that achieves formation of a preferable pattern feature even a developing time exceeds the optimum developing time in a developing process, and capable of forming a patterned thin film with excellent adhesiveness, and to provide an interlayer insulating film and a microlens formed from the composition. 高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物およびそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供することにある。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and such a development margin as to form a good pattern shape even by development for over an optimum developing time in a developing step, the composition easily forming a patterned thin film excellent in adhesion and being suitable for forming an interlayer dielectric or microlenses. 高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適な感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁
To improve the display characteristic of a liquid crystal display device by making it possible to provide sufficient holding capacitors in the display device and also to improve the productivity at the time of assembling of a substrate on which thin film transistors are formed and a counter substrate by increasing the aligning margin between the substrates. 液晶駆動用の薄膜トランジスタが形成されている基板と同一基板上に、ブラックマトリックスが形成され、薄膜トランジスタのソース側配線が、ブラックマトリックスを兼ね、ソース配線に直交するブラックマトリックが島状に形成され、前記ソース配線と直交するブラックマトリックスが、薄膜トランジスタのドレイン電極と絶縁膜を介して電気的に接続していることを特徴とする。 - 特許庁
A flat reference face 15 is formed to one end of the case main body 11 of a thin box, a separator sheet 14 is adhered to one major side of the case main body 11 via an adhesive member, an edge 17, at the reference face 15 side, of the separator 14 is placed inside from the reference face 15 of the case main body 11 by a margin (m). 薄形箱状のケース本体11の一端部に平坦な基準面15を有すると共に、ケース本体11の一方の主面に接着部材を介してシート状のセパレータ14が貼り付けられており、このセパレータ14の前記基準面15側の縁17は、ケース本体11の基準面15よりマージンm寸法だけケース本体11の内側にある。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition having high radiation sensitivity and a sufficient margin for development, capable of easily forming a patterned thin film excellent in adhesion and suitable for forming an interlayer insulating film and microlenses, to provide a use of the composition for an interlayer insulating film and microlenses and to provide an interlayer insulating film and microlenses formed from the composition. 高い感放射線感度と十分な現像マージンを有し、しかも、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜やマイクロレンズの形成に適する感放射線性樹脂組成物、その組成物の層間絶縁膜およびマイクロレンズ形成への使用、およびその組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁