「total-etch」を含む例文一覧(3)
- This allows the total ion milling etch mask thickness to be well controlled before the ion milling process used to define the sensor side walls.
これにより、イオンミリングプロセスを使用してセンサ側壁を画定する前に、イオンミリングエッチングマスクの合計厚を適切に制御することが可能である。 - 特許庁 - To provide an optical coupling apparatus that forms an etch structure complex having a total reflection surface/an anti-reflection surface within a substrate to improve coupling efficiency with incident light and responsivity of an optical sensing element.
基板の内部に全反射／無反射面を備えるエッチング構造複合体を形成して入射光との結合効率および光検出素子の感度を向上させた光結合装置を提供する。 - 特許庁 - The optical coupling apparatus includes a substrate 10 having a photodetector 30 mounted on a predetermined area thereof; and the etch structure complex formed in the substrate 10 and having the total reflection surface 51 that is total-reflection coated to have a first predetermined angle, and the anti-reflection surface 52 that is anti-reflection coated to have a second predetermined angle.
本発明に係る光結合装置は、所定の領域上に光検出器３０が装着される基板１０と、基板１０の内部に形成され、第１の所定角をもつように全反射コーティングが施された全反射面５１および第２の所定角をもつように無反射コーティングが施された無反射面５２を備えたエッチング構造複合体とを含む。 - 特許庁
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