「type pattern」を含む例文一覧(2287)
＜前へ 1 2 .... 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 次へ＞- To provide a method which can improve the degree of production margin in a phase shift mask manufacturing process and takes the actual width and length of a linear pattern into consideration as a correcting method for photomask data for a drawing device for manufacturing a substrate digging type Levenson phase shift photomask.
基板掘り込みタイプのレベンソン型位相シフトフォトマスクを作製のための、描画装置用フォトマスクデータの補正方法であって、位相シフトマスク製造プロセスの製造余裕度を向上させることができ、且つ、線状パタンの実際の幅と長さを考慮した方法を提供する。 - 特許庁 - On a film sheet 16 on the top surface of the noncontact type memory card 1, an IC chip 13 (sealed with epoxy resin after wire bonding) which stores and processes information and a capacitor electrode 11 are mounted and at their peripheral part, an antenna pattern 15 for transmission and reception is formed.
非接触型メモリカード１の表面のフィルムシート１６上には、情報の記憶および処理を行うＩＣチップ１３（ワイヤボンディング後、エポキシ樹脂で封止）、コンデンサ電極１１が実装されており、その周辺部に送受信用のアンテナパターン１５が形成されている。 - 特許庁 - A vibration element array 10 having a repetitive pattern in a hexagram star type structure, where regular triangular vibration elements 14 are arrayed around regular hexagonal vibration elements 12 or 16, can be formed by appropriately specifying the positional relationship between parallel cutting lines in each cutting direction.
各カット方向の平行なカッティング線同士の位置関係を適切に定めることで、正六角形の振動素子１２又は１６の周囲に正三角形の振動素子１４が配列される、六線星形構造の繰り返しパターンを有する振動素子アレイ１０を形成することができる。 - 特許庁 - As mentioned above, the metal laser holder is connected to the grounding pattern 60 of the drive circuit of the circuit board 57 with the fixing screw 56, so that the electrical stability of the light source device where a semiconductor laser light source of cathode common type in which a laser holder carries 0 V can be improved.
このようにして、金属製のレーザーホルダ４１と回路基板５７の駆動回路の接地パターン６０が固定ねじ５６で接続されるので、レーザーホルダ４１が０Ｖとなるカソードコモンタイプの半導体レーザー光源４０を使用する光源装置の電気的安定性を向上することができる。 - 特許庁 - This mask for reflection type exposure includes: a first layer formed on a support substrate 100 and having a low-reflection processing pattern absorbing exposure light and a reflective multilayer film 101 reflecting exposure light; and a second layer formed on the reflective multilayer film 101 and having an absorber layer 120 absorbing exposure light.
支持基板１００上に形成され、露光光を吸収する低反射加工パターンと露光光を反射する反射多層膜１０１とを有する第１の層と、反射多層膜１０１上に形成され、露光光を吸収する吸収体層１２０を有する第２の層とを備える。 - 特許庁 - To detect misregistration any time even in the case of a test patch pattern formed by any type of toner, and when correcting the misregistration, to reliably detect and correct the misregistration even when detection errors occur due to flapping, an indentation, and scarring in an intermediate transfer body.
どのような種類のトナーで形成されたテストパッチパターンにおいても、随時位置ずれを検出し、これを補正する場合は、中間転写体のばたつきや、打痕、傷による誤検出が発生しても、確実に位置ずれを検出し、位置ずれの補正をすることが可能になる。 - 特許庁 - A formation method of pixel pattern includes steps of: (1) forming a coating film of a colored radiation-sensitive composition containing at least one type selected from the group consisting of a dye and a lake pigment, on a substrate and (2) exposing at least part of the coating film with ultraviolet LED.
（１）基板上に染料及びレーキ顔料よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する着色感放射線性組成物の塗膜を形成する工程、並びに（２）前記塗膜の少なくとも一部に紫外線ＬＥＤを用いて露光する工程を含む画素パターンの形成方法。 - 特許庁 - Before inspecting an inspection object 1, the light quantity of a test pattern 1a is measured with an accumulation type line sensor 7, whether the measurement results are within a predetermined reference value range is judged, calibration is conducted according to the judgment, and then the inspection object 1 is inspected.
検査対象１を検査する前には、テストパターン１ａの光量を蓄積型ラインセンサ７で測定し、測定結果が予め定められている基準値範囲内に入っているかを判断し、それに応じてキャリブレーショウンを行い、その後に検査対象１を検査する。 - 特許庁 - To provide an image data analysis device with which image processing conditions (threshold value or the like) enabling desired pattern edges with good reproductivity can be easily obtained by using image data obtained by using a scanning type microscope (CD-SEM) even if the patterns change structures in a height direction.
高さ方向で構造が変化するようなパターンであっても、走査型顕微鏡（ＣＤ−ＳＥＭ）を用いて取得した画像データを用いて所望のパターンエッジが再現性よく決定できる画像処理条件（閾値等）を、簡便に得ることのできる画像データ解析装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an inline-type vapor deposition apparatus which can control a film thickness with high accuracy and also requires only few sheets of masks for vapor deposition even when continuously conducting the vapor deposition onto articles each having a different vapor deposition pattern; a vapor deposition method using a mask; and a method for manufacturing an organic-electroluminescence device.
膜厚を高い精度で制御できるとともに、蒸着パターンが異なる蒸着を連続して行なう場合でも蒸着用マスクの枚数が少なく済むインライン式蒸着装置、マスク蒸着方法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a circuit forming method which prevents adverse influences of the oscillation of a crystal oscillator piece existing in a horizontal type crystal device, on a multilayer printed board of a portable terminal having vibration sources such as vibrators and speakers, and improves the wiring efficiency of a pattern.
バイブレータやスピーカ等の振動発生源を有する携帯端末の多層プリント基板において、横置き型の水晶デバイス内部に在る水晶振動片の揺れによる悪影響を防止し、且つパターンの配線効率を向上させることができる回路形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive type photosensitive resin composition excelling in PED stability and prifile, significantly improved in the developing faulty problems and free from any shortening on the line pattern end (lengthwise direction), when using far ultraviolet rays, especially ArF excimer laser beam as its exposure illuminant.
露光光源として、遠紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、ＰＥＤ安定性及びプロファイルに優れ、現像欠陥の問題を著しく改善され、更にラインパターン端部（長手方向）のショートニングが生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁 - The wet etching system includes: an exposure means for exposing a copper-containing material having a surface on which a pattern of a positive type photosensitive resist has been formed, to light; and a wet etching means for wet-etching the copper-containing material exposed to light by the exposure means.
本発明は、ポジ型感光性レジストのパターンが表面に形成された銅含有材料を露光する露光手段と、前記露光手段により露光された銅含有材料をウエットエッチングするウエットエッチング手段とを有することを特徴とするウエットエッチングシステムである。 - 特許庁 - The ultraviolet sensor is of the type utilizing photoconductive effect of zinc oxide and is characterized in that the zinc oxide is additive-free zinc oxide and the half bandwidth of a diffraction peak in a (002) surface is not more than 0.5 degrees in an X-ray diffraction pattern of the zinc oxide.
本発明の紫外線センサは、酸化亜鉛の光導電効果を利用した紫外線センサであって、前記酸化亜鉛が無添加の酸化亜鉛からなり、前記酸化亜鉛のＸ線回折パターンにおいて（００２）面における回折ピークの半値幅が０．５度以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - The internal illumination type display plate includes a display panel 4, whereon a translucent and three-dimensionally raised stereoscopic pattern is formed, and an illumination means for illuminating the display panel from the rear side.
透光性を有し立体的に隆起させた立体図柄が施された表示パネル４とともに、表示パネルを裏側から照明するための照明手段が設けられており、該照明手段は、透明部材からなる導光板６とその端面に配置されたLED７とを具備した内照式表示板である。 - 特許庁 - To provide a storage type hot water supply device of high usability, capable of allowing a user to select an operation mode optimum for the user by preventing shortage of hot water storage amount and displaying the operation mode improved in actual use efficiency on a display device according to user's hot water use pattern.
使用者のお湯の使用パターンに応じて、貯湯量不足の回避ならびに実使用効率を向上させた運転モードを表示装置へ表示することによって、使用者にとって最適な運転モードを使用者が選択することができる使用性の高い貯湯式給湯装置を提供すること。 - 特許庁 - The grating pattern 2 of the diffraction type condensing film 1 includes a first surface forming an angle α with respect to a normal, a second surface forming an angle β with respect to the normal, and a third surface forming an angle δ with respect to the second surface to form a second apex and resulting from inclining the second surface by an angle γ.
回折型集光フィルム１の備える格子パターン２は、法線と角αをなす第一の面と、法線と角βをなす第二の面と、前記第二の面と角δをなして第二の頂部を形成する、前記第二の面が角γだけ傾いた第三の面と、を備えている。 - 特許庁 - As a result, a casting product (e.g., angle plate 10) is cast with good appearance, in which a network cast wall (lattice wall 12) formed in the imbedded region in place of the network lost foam pattern 15 is integrated with an ordinary cast wall (square cylinder type body part 11) formed in the cavity 20Z.
これにより、網状消失模型１５に代わってその埋設領域で成形される網状鋳物壁（格子壁１２）をキャビティ２０Ｚで成形される通常鋳物壁（角筒型本体部１１）に一体に備えた鋳物製品（例えば、イケール１０）が見映え良く鋳造される。 - 特許庁 - To provide an external resonator-type wavelength-variable light source capable of securing excellent wavelength selectivity with a small number of parts and taking out light output efficiently over a wide wavelength band range even when using a semiconductor laser having a far field pattern narrow in a horizontal direction.
水平方向のファーフィールドパターンが狭い半導体レーザであっても、少ない部品点数で優れた波長選択性を確保し、広い波長帯域に渡って効率よく光出力を取り出すことができる外部共振器型の波長可変光源を実現すること。 - 特許庁 - In the method of manufacturing a top contact type field effect transistor 10 of this embodiment, after a protection layer 22 is formed on an active layer 18 formed in a semiconductor layer formation step, a photoresist film is formed on the protection layer 22 and it is exposed to a pattern shape in an exposure step.
本実施の形態のトップコンタクト型の電界効果型トランジスタ１０の製造方法によれば、半導体層形成工程で形成した活性層１８上に、防護層２２を形成した後に、該防護層２２上にフォトレジスト膜を形成して露光工程においてパターン状に露光する。 - 特許庁 - In the packet discrimination circuit of a USB device 12, a PID decoder 22 discriminates the type of a received packet on the basis of the data pattern of a PID, and then, a packet length measuring circuit 23 determines whether the discrimination result is correct by measuring the packet length of the received packet.
ＵＳＢデバイス１２のパケット判別回路では、受信したパケットの種類がＰＩＤデコーダ２２によりＰＩＤのデータパターンに基づいて判別された後、その判別結果が正しいか否かがパケット長測定回路２３により該受信したパケットのパケット長を測定して判定される。 - 特許庁 - To provide a method for producing a bottom-up type nano-device, which initiates a reaction from a potential singular point on a substrate, and regularly arranges compound molecules so as to accelerate a chain reaction utilizing the arranging pattern.
本発明は、基板上のポテンシャル特異点から反応を開始させた、ボトムアップ式のナノデバイスの製造方法を提供すること、規則性をもって化合物分子を配列させ、この配列パターンを利用して連鎖反応を促進するナノデバイスの製造方法を提供することなどを目的とする。 - 特許庁 - Electromagnetic relevant information read by the sensor 121 is detected as a signal by a pulse detector 203 through the preamplifier 201 and the filter 202, and its matching with a rhythm pattern stored in the rhythm memory 207 is performed by the rhythm detector 204 to judge what type of operations has been performed.
センサ１２１で読み取った電磁気関連情報をプリアンプ２０１およびフィルタ２０２を介してパルス検出器２０３で信号として検出し、リズム検出器２０４でリズムメモリ２０７に記憶されたリズムパターンとマッチングをとって、どのような動作であるかを判定する。 - 特許庁 - To provide a positive type resist laminate having high resolving power in exposure with light in the far ultraviolet region, giving a resist pattern with little line wave in the case of a time line/space of ≤0.2 μm, nearly free of development defects and having high suitability to production.
遠紫外領域の露光に対応して高い解像力を有し、しかも０．２μｍ以下の微細なライン／スペースにおいて、ラインうねりの少ないレジストパターンを与え、現像欠陥の発生量が少なく、高い製造適性を有するポジ型レジスト積層物を提供すること。 - 特許庁 - In a split type mold for vulcanizing and molding a tire, since the sipe casting part, which flies out of a pattern core of a second shot at the time of second shot casting, interferes with a first piece block 3a when a piece 3 equipped with a sipe 6 is produced, an escape groove 6a is required in the first piece block 3a.
分割型のタイヤ加硫成形用金型において、サイプ６を備えたピース３を製作する場合、第２ショット鋳造時に第２ショットのパターン入れ子から飛び出したサイプ鋳込み部が第１ピースブロック３ａに干渉するので第１ピースブロック３ａに逃がし溝６ａが必要となる。 - 特許庁 - Each of 1608 type chip capacitors 8a, 8b, 8c, 8d is provided with two electrodes, and one of the two electrodes of each chip capacitor is connected to a through-hole 13 connected to a power source plane, and the other of them is connected to the different positions of the arc-shaped conductive portion of the ground pattern 11 mounted with capacitors.
１６０８タイプチップコンデンサ８ａ、ｂ、ｃおよびｄは、２つの電極を備え、各コンデンサの２つの電極のうち一方は、電源プレーン接続スルーホール１３に接続され、他方の各々は、コンデンサ搭載グランドパターン１１の円弧状導体部の異なる位置に接続されている。 - 特許庁 - By this method, a pattern type magnetic recording medium in which, in the second magnetic recording layer 26, a region 40 where the atomic content of the ferromagnetic element becoming a magnetic recording region is relatively large and a region 42 where it is relatively small are present in the intra-substrate plane direction periodically, is manufactured.
この方法により、第二磁気記録層２６において磁気記録領域となる強磁性元素の原子含有率の相対的に大きい領域４０と相対的に小さい領域４２とが基板面内方向に周期的に存在するパターン型磁気記録媒体を作製する。 - 特許庁 - The non-contact type alignment measuring device of a vehicle wheel is provided with a laser light source 4 for radiating the laser beam of a prescribed geometrical pattern to a wheel side face and a laser beam controlling means 6 for controlling the width of the beam for irradiating only the prescribed range of the wheel side face with the laser beam.
非接触式の車両ホイールのアライメント測定装置において、ホイール側面に向けて所定の幾何パターンのレーザビームを放射するレーザ光源４と、レーザビームがホイール側面の所定範囲にのみ照射されるようにビームの幅を制御するレーザビーム制御手段６を具備する。 - 特許庁 - To see to it that a low-beam light distribution pattern with a clear cutoff line at a top end part is formed, so as not to trouble an oncoming vehicle driver with big glare, in case a projector-type lamp tool unit with a light-emitting element as a light source is adopted for a vehicle headlight.
車両用前照灯の灯具ユニットとして、発光素子を光源とするプロジェクタ型の灯具ユニットを採用した場合において、上端部に鮮明なカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成するようにした上で、対向車ドライバに大きなグレアを与えてしまわないようにする。 - 特許庁 - To provide a lamp unit of a vehicle headlight of projection type having a plurality of light source units, in which light distribution pattern formed by light from each light source unit is made to have a clear outline and a nearly uniform brightness or a specific intensity distribution.
複数の光源ユニットを備えたプロジェクタ型の車両用前照灯の灯具ユニットにおいて、その各光源ユニットからの光によって形成される配光パターンを、明瞭な輪郭を有するとともに略均一な明るさあるいは特定の光度分布を有するものとする。 - 特許庁 - To obtain a positive type resist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light (193 nm wavelength) and ensuring superior resolving power and pattern profile even if plenty of time passes until post- heating after exposure.
遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）を使用するミクロフォトファブリケ−ションにあって、十分な感度及び解像力を有し、露光した後の後加熱までに時間が相当経過しても優れた解像力及びパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The coated granular fertilizer has the surface coated with the coating film containing a low density ethylene homopolymer having physical properties of the following (a)-(c) and one or more kinds selected from polysaccharide and its derivatives and has the timed leaching type elution pattern.
表面が被膜によって被覆された被覆粒状肥料であり、被膜が、下記（ａ）〜（ｃ）の物性を有する低密度エチレン単独重合体、及び多糖類ならびにその誘導体から選ばれた１種以上を含有する被膜であり、時限溶出型の溶出パターンを有する被覆粒状肥料。 - 特許庁 - Grid electrodes 2 in plural rows are arranged so that two rows of the anode electrodes 3 may face one row, respective anode electrodes 3 and respective grid electrodes 2 are sectioned into two regions in the row direction, and an anode wiring pattern of a fourfold anode matrix type is formed in each region.
複数列のグリッド電極２は、前記アノード電極３の２列が１列に対応するように設けられ、各アノード電極３および各グリッド電極２は、行方向に２つの領域に区分され、各領域ごとに４重アノードマトリックス方式のアノード配線パターンが形成されている。 - 特許庁 - The drum type game machine such as a slot machine is provided with a CB game role for imparting a CB game in which the range of patterns stoppable after a stop operation until reel stoppage is narrowed and opportunities to stop the pattern relating to a winning role on an effective line are made more than usual to the next game.
スロットマシン等の回胴式遊技機であって、ストップ操作されてからリールを停止するまでに停止可能な図柄の範囲を狭くし、通常よりも入賞役に係る図柄を有効ラインに停止させる機会が増加するＣＢ遊技を次回の遊技に付与するＣＢ遊技役を備える。 - 特許庁 - To provide a positive-type photoresist composition, which ensures improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and has an effect of improving the margin for exposure (particularly a margin for exposure of isolated lines), that is, ensures small changes in the line width of isolated lines when light exposure is varied.
半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - The receptive layer forming material for ink jet comprises a tercopolymer made of a methylmethacrylate, an ethylacrylate and a methacrylic acid in the receptive layer in a method for forming the layer for the ink jet by using an ink jet recording type in an arbitrary pattern entirely or partly on a base material.
基材の全面または部分的に任意のパターンを、インクジェット記録方式を用いてインクジェット用受容層を形成する方法において、該受容層が、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、メタクリル酸よりなる３元共重合体を含むことを特徴とするインクジェット用受容層形成材。 - 特許庁 - To provide a negative type resist composition which has superior storage stability for resist liquid and post-exposure temporal stability as well as high sensitivity and high resolving power in pattern formation by irradiation with an electron beam or EUV in microprocessing of a semiconductor element.
半導体素子の微細加工における性能向上及び技術の課題を解決することであり、電子線又はＥＵＶの照射によるパターン形成において、高い感度及び解像度とともに、レジスト液の保存安定性及び引き置き経時安定性に優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The film type heater 33 includes a heat resistant insulating layer, a heating element 35 formed on one side surface of the heat resistant insulating layer so as to have predetermined pattern shape and generating heat by application of voltage, and a heat transfer layer formed in a surface state on the other side surface of the heat resistant insulating layer.
フィルム状ヒータ３３は、耐熱絶縁層と、所定のパターン形状を有するように耐熱絶縁層の一側の面に形成されるとともに電圧の印加により発熱する発熱体３５と、前記耐熱絶縁層の他側の面に面状に形成される伝熱層と、を含む。 - 特許庁 - By inputting essential term and/or the term code of its low-order concept and the actual measurement value of the foot of a selecting person to a prescribed information processor, a shoe selection type desired by the selecting person is automatically made to be a three-dimensional image to form a desired instep producing paper pattern.
所定の情報処理装置に必須ターム、および／またはその下位概念のタームコードを入力すると共に、選択者の足の実測値を入力して、選択者希望の靴選択型が自動的に立体映像化され、所望する製甲用紙型を形成する方法である。 - 特許庁 - To provide a tire slip ratio measuring system for a construction vehicle allowing the most advantageous tire type to be selected from a plurality of tire types having the same TKPH based on quantitative prediction in a tire abrasion life, and to provide a tire tread pattern selection method for a construction vehicle using this.
同じＴＫＰＨを有する複数のタイヤ種の中から、タイヤ摩耗ライフにおいて、最も有利なタイヤ種を定量的な予測に基づいて選択することを可能にする建設車両用タイヤスリップ率測定システム、および、これを用いた建設車両用タイヤトレッドパターン選定方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition excellent in dry etching resistance, sensitivity, resolution, etc., as a chemical amplification type resist, capable of avoiding a change of the line width of a resist pattern due to a change of the time elapsed from exposure to post-exposure heating and having superior process stability.
化学増幅型レジストとして、ドライエッチング耐性、感度、解像度等に優れるとともに、露光から露光後の加熱処理までの引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変動を回避でき、優れたプロセス安定性を示す感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - In a constitution wherein a bump electrode 16 comes into contact with an electrode pad 13 of a lower layer via an opening part 15 formed in a surface protection film 14, the opening part 15 is a pattern type opening part formed by partially removing the surface protection film 14.
本発明では、表面保護膜１４に形成された開口部１５を介して、バンプ電極１６が下層の電極パッド１３に接触する構成において、上記開口部１５が、表面保護膜１４を部分的に除去して形成されるパターン型開口部となっている。 - 特許庁 - The space light modulator 30 is of the phase modulation type, has a plurality of two-dimensionally arranged pixels, phase modulation in each of the plurality of pixels is possible within a range equal to or more than 4π, and presents the phase pattern for modulating a phase of light in each of the plurality of pixels.
空間光変調器３０は、位相変調型のものであって、２次元配列された複数の画素を有し、これら複数の画素それぞれにおける位相変調が４π以上の範囲で可能であり、複数の画素それぞれにおいて光の位相を変調する位相パターンを呈示する。 - 特許庁 - To form a hard deposit layer in any arbitrary pattern on the surface of a wire tool of fixed abrasive grain type, to suppress a drop of the cutting efficiency resulting from repetitive use and elongate the tool life, and to reduce the labor required to conduct processing and also enhance the productivity easily.
固定砥粒式ワイヤ工具のワイヤ表面に任意のパターンで硬質堆積層を形成することができて、繰り返し使用による切断能率の低下を抑えるとともに工具寿命を延ばすことができ、且つ、加工に手間がかからず、容易に生産性を上げることができるようにする。 - 特許庁 - In the swelling pattern engraving device comprising polygonal seal surface plates, and various type seal surfaces, a magnet is mounted at iron pieces mounted at bottoms of the plates, a cylinder 5 in the engraving device body, and a lower bearer plate 7, and a link lever 3 is interposed between an operating lever 4 and the cylinder 5.
多角形の印面プレート２０，２１と、豊富な印面２２，２３とを含む刻印装装置で、印面プレートの底面に取り付けた鉄片２４，２５と、刻印装置本体内部のシリンダー５と、下部受台プレート７に磁石が取り付けてあり、操作レバー４とシリンダー５の間にリンクレバー３が介在している。 - 特許庁 - To provide printing quality controlling method and device in multiple type page imposed printing in which ink supply and center distances of respective parts can be automatically adjusted in response to the results of measurement obtained through the measurement of the thickness or density of an ink film or the area of a pattern part of a sample printed article.
サンプル印刷物のインキ皮膜厚さ又は濃度や絵柄部の面積を測定し、それらの測定結果に応じてインキ供給量や各部の芯間距離を自動的に調整し得るようにした多面付け印刷における印刷品質管理方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a master plate for a deep-etch plate type offset printing which is excellent in reproducibility and enables attainment of a minute and highly precise image and a manufacturing method thereof and also to provide a forming method of a film circuit having high reproducibility and enabling attainment of a minute and highly precise circuit pattern.
再現性がよく、微細で精度の高い画像が得られる平凹版型のオフセット印刷用マスター版およびその製造方法を提供するとともに、このマスター版を用いて、再現性の高い、微細で高精度の回路パターンが得られる膜回路の形成方法を提供する。 - 特許庁 - In this semiconductor memory test apparatus 1, when a test of a device 20 of a synchronous type to be tested is performed, output data of the device 20 to be tested corresponding to a test pattern is held by an output holding part 11, it is compared with expected value data by an expected value data comparing part 12, and log data are generated.
本発明の半導体メモリ試験装置１は、同期型の被試験デバイス２０の試験を行う際、テストパターンに対応する被試験デバイス２０の出力データを出力保持部１１で保持し、期待値比較部１２にて期待値データと比較してログデータが生成される。 - 特許庁 - A digital display parts 31-36 are arranged in a matrix pattern of 3×3 in which passing type initial prize ports 21-23 arranged in one vertical row is made to form a second line and pseudo display locations in a matrix of 3×3 corresponding thereto are disposed on a liquid crystal display part 60.
縦一列に並べた通過型始動入賞口２１〜２３を第２列とした縦３列横３行の行列形式にデジタル表示部３１〜３６を配置し、これに対応した３×３の行列状の疑似表示箇所を液晶表示部６０上に設ける。 - 特許庁 - The interference type filter layers 31, 32 and 33 for B, R and G are respectively pattern-formed corresponding to a pixel electrode 41b for B, a pixel electrode 41r for R and a pixel electrode 41g for G and laminated each other through light transmissive interlayer films 35, 36 and 37.
Ｂ，Ｒ，Ｇ用の干渉型フィルタ層３１，３２，３３を、それぞれＢ用の画素電極４１ｂ，Ｒ用の画素電極４１ｒ，Ｇ用の画素電極４１ｇに対応してパターン形成し、これらをそれぞれ透光性の層間膜３５，３６，３７を介して互いに積層する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
