「use pattern」を含む例文一覧(1100)

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  • Under a specific state of implementation, the serial data mentioned above are encoded codes, and by deciphering the corresponding encoded algorism in the generator console and supplying a certain response data pattern, the hand-piece is certified for the use by the console.
    特定の実施形態において、上記連続状のデータは暗号化されているコードであり、発生装置コンソール内の対応する暗号化アルゴリズムを解読して一定の応答データ・パターンを供給することによりハンド・ピースはこのコンソールによる使用について認証される。 - 特許庁
  • Since the selector raising cam 2 can be switched for the appearance and disappearance individually instead of being switched according to the fixed appearance pattern in response to the moving direction of the carriage, the machine can deal with various needs for the knitting by changing the combination of the cam system for use.
    セレクタレイジングカム２をキャリッジの走行方向に応じて固定される出没パターンに従って出没させるのではなく、個別に出没を切換えることができるので、使用するカムシステムの組合せを変えることなどで、多様な編成の要求に対応させることができる。 - 特許庁
  • To provide a mold with fine convexo-concave patterns where production can be achieved in a simple manufacturing process with a good repeatability, and both warpage and bending due to repetitive use can be handled, and to provide methods for manufacturing the mold, transcribing a convexo-concave pattern, and manufacturing a material with concaves.
    簡略な作製プロセスにより再現性良く作製することができ、繰り返し使用による反りや曲りに対応することが可能となる微細な凹凸パターンを有するモールドとその製造方法、凹凸パターンの転写方法、凹部を有する部材の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Thereafter, the substrate 101 is subjected to a cleaning treatment where a dilute hydrofluoric acid treatment and an ozone water treatment are carried out alternately and repeatedly by the use of a spin-cleaning device to remove a resist residue 110a composed of silicon oxide and a resist component, and the resist pattern 110 is completely removed from the substrate 101, without leaving residues behind.
    その後、スピン洗浄装置を用いて希フッ酸処理とオゾン水処理とを交互に繰り返す洗浄処理を行い、酸化シリコンやその他のレジスト成分からなるレジスト残渣１１０ａを除去し、残渣を残すことなく基板１０１上から完全にレジストパターン１１０を除去する。 - 特許庁
  • As a clay for the clay molded article with a decorative pattern, any clays including an oil clay, a resin clay, a paper clay or a clay for pottery or the like can be used, allowing use of clays considered to stick on the female mold and be hard to be removed therefrom.
    装飾模様付粘土造形物の粘土は、油粘土、樹脂粘土、紙粘土、陶磁器用粘上等いずれの粘土でも良く、従来、粘土が雌型に付着してしまい容易に離型することができないとされていたいかなる粘土でも使用することを可能としたのである。 - 特許庁
  • The respective Fresnel lenses 3 use a plurality of radiation directions inclined from the optical axis of the light emitting diode 1 as their optical axis directions and form a light distribution pattern F of desired illuminance on the irradiation surface, and are so arranged as to surround the light emitting diode 1 on the front side of the light emitting diode 1.
    各フレネルレンズ３は、発光ダイオード１の光軸から傾いた複数の照射方向それぞれを光軸方向とし照射面へ所望の照度の配光パターンＦを形成するレンズであり、発光ダイオード１の前方側で発光ダイオード１を囲むように配置する。 - 特許庁
  • To form a hard deposit layer in any arbitrary pattern on the surface of a wire tool of fixed abrasive grain type, to suppress a drop of the cutting efficiency resulting from repetitive use and elongate the tool life, and to reduce the labor required to conduct processing and also enhance the productivity easily.
    固定砥粒式ワイヤ工具のワイヤ表面に任意のパターンで硬質堆積層を形成することができて、繰り返し使用による切断能率の低下を抑えるとともに工具寿命を延ばすことができ、且つ、加工に手間がかからず、容易に生産性を上げることができるようにする。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing device and a substrate processing method that use a low-surface-tension solvent such as IPA to dry a substrate surface getting wet with a processing liquid, the substrate processing device and the substrate processing method preventing trouble such as the occurrence of a watermark on the substrate and destruction of a pattern on the substrate surface.
    処理液で濡れた基板表面をＩＰＡなどの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面にウォーターマークが発生したり、基板表面上のパターンが倒壊するなどの不具合を防止する。 - 特許庁
  • To provide a resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light, and to provide a positive resist composition having high inhibition and a high dissolution contrast and excellent in sensitivity and resolving power, and a pattern forming method using the same.
    ２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光の露光光源の使用に好適なレジスト組成物を提供することであり、高インヒビションで溶解コントラストが大きく、なお且つ感度・解像力に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive composition having improved use efficiency of light, high sensitivity to i-line and h-line rays, showing proper pattern features and proper raw preservability, and to provide a photosensitive film containing the photosensitive composition and a method for manufacturing a printed board by using the photosensitive composition.
    光の利用効率を向上させ、ｉ線及びｈ線の感度が高く、パターン形状が良好で、生保存性も良好な感光性組成物、該感光性組成物を含む感光性フィルム、及び、該感光性組成物を用いたプリント基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive siloxane composition which has such properties as high heat resistance, high transparency and a low dielectric constant, and which is for use in formation of a planarizing film for a TFT substrate or an interlayer insulation film having a pattern of good resolution or a core or cladding material of an optical waveguide.
    高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を併せ持ち、かつ良好な解像度のパターンを有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する - 特許庁
  • To provide an exposure apparatus for a large substrate to align a large coating substrate by use of an alignment pin to perform pattern exposure, wherein a local suction unit is disposed for each alignment pin to suck scattered dust (foreign matter) produced on aligning the substrate with the alignment pin.
    アライメントピンを用いて大型塗布基板を位置決めしてパターン露光する大型基板露光装置において、アライメントピン毎に局部吸引ユニットを設けて、アライメントピンで位置決めする際に発生する飛散塵埃（異物）を吸引するようにした大型基板露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The Raman light source unit 111 extracts the frequency band of an OSC signal 129 from the signal light 127, branched by a branch coupler 125, with the use of an OSC filter 128, and judges whether or not the OSC signal 129 is detected as a bit pattern by an OSC error detecting circuit 130.
    ラマン光源ユニット１１１は分岐カプラ１２５で分岐された信号光１２７からＯＳＣフィルタ１２８でＯＳＣ信号１２９の周波数帯を抽出し、ＯＳＣ誤り検出回路１３０でＯＳＣ信号１２９がビットパターンとして検出できるかを判別する。 - 特許庁
  • To provide a negative type radiation sensitive resin composition excellent in suitability to coating particularly on a substrate of a larger diameter by a spin coating method, capable of stably performing microfabrication, excellent in shelf stability and suitable for use as a chemical amplification type resist forming a resist film which gives a good pattern shape.
    特に大口径化された基板へのスピンコート法による塗布性に優れ、微細加工を安定的に行うことができ、保存安定性に優れ、良好なパターン形状を与えるレジスト被膜を形成する化学増幅型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • Consequently, if such a down counter is used instead of a random number counter to use the value of the down counter for big hit determination and a pattern selection of variable display, rendering of individuality different for every Pachinko machine can be created since the value of the down counter is different for every MPU, i.e., for every Pachinko machine.
    よって、かかるダウンカウンタを乱数カウンタに代えて使用し、そのダウンカウンタの値を大当たりの判定や変動表示のパターン選択に用いれば、ダウンカウンタの値はＭＰＵ毎に、即ちパチンコ機毎に異なった値となるので、パチンコ機毎に異なった個性の演出を創出することができる。 - 特許庁
  • To provide a simple standard image pattern for managing a platemaking process that facilitates decision of a platemaking condition for direct platemaking, particularly an active state of developer, and to provide a method of evaluating the developer of a lithographic printing plate and a method of controlling quality of the lithographic printing plate that use the same.
    ダイレクト製版用の製版条件、特に現像液の活性状態を容易に判定する簡易な、製版工程を管理するための標準画像パターン及びそれを用いた平版印刷版の現像液評価方法、平版印刷版の品質管理方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a pipe unit at a low cost, with its heat efficiency improved for a reduction in the running cost by pinching pipes, laid in a specified pattern, in between a pair of soaking members for integration, suitable for use for instance with a heat medium circulation type floor heating panel.
    所定形状に配設されたパイプを一対の均熱部材で挟持一体化することにより、熱効率を向上させて、ランニングコストの低減を図った、例えば、熱媒体循環式の床暖房パネルなどで好適に用いられるパイプユニットを安価に提供すること。 - 特許庁
  • This radiation-sensitive resin composition is used for forming a resist film for use in a resist pattern formation method including a liquid dipping exposure process using bicyclohexyl as a liquid for liquid dipping exposure, and the static contact angle of a formed resist film to the hydroxyl is 30-90°.
    液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法で使用されるレジスト膜の形成に用いられ、形成されたレジスト膜の、ビシクロヘキシルに対する静的接触角が３０〜９０°である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁
  • The vehicle headlamp 100 is provided with a main lamp unit 17 that is arranged fixedly and can secure a light volume of main light distribution and sub-lamp units 19, 21 as auxiliary lamps that use semiconductor light-emitting elements as light sources and can change or form a light distribution pattern.
    車両用前照灯１００は、灯室１５内に、固定配置され主配光の光量を確保できるメインランプユニット１７と、半導体発光素子を光源として配光パターンを変更形成可能とする補助用ランプとしてのサブランプユニット１９，２１とを備える。 - 特許庁
  • A rare node calculation means 84 acquires detailed information on the selected node from a detailed information storage part 83 and uses the detailed information to calculate a node showing a pattern in which use status of resources are different from other fault monitored nodes 6 from among the plurality of fault monitored nodes 6.
    希少ノード計算手段８４は、選択されたノードの詳細情報を詳細情報格納部８３より取得し、この詳細情報を用いて、複数の被障害監視ノード６の中から資源の利用状況が他の被障害監視ノード６とは異なるパターンを示すノードを算出する。 - 特許庁
  • To provide a radiation sensitive refractive index variable composition which can easily vary the refractive index of a material to produce sufficiently large difference in the varied refractive indices and which can give a stable refractive index pattern or an optical material without depending on the conditions for use afterwards.
    材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性屈折率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a UV-curing type ink for a light guide plate capable of obtaining suitable UV-curing characteristics, mechanical characteristics, water resistance or the like at the forming of a light diffusion pattern on the light guide plate, and the light guide plate having high luminance and fewer luminance unevenness at the use of the UV-curing type ink.
    導光板における光拡散パターンの形成において、良好な紫外線硬化特性、機械的特性、および耐水性等が得られる導光板用紫外線硬化型インキ、およびそれを用いてなる高輝度で、輝度ムラ等が少ない導光板を提供する。 - 特許庁
  • To provide a semi-transmissive reflective film free from a print application pattern, not requiring a great capital investment as in metal vapor deposition, applicable easily to a large-sized product, having a low absorbance of visible rays, and optimum as application use for a semi-transmissive type display.
    印刷塗布パターンに制限がなく、また金属蒸着のような莫大な設備投資も要さず、したがって大型製品への適用も容易であり、しかも可視光線の吸収率が低く、半透過型ディスプレイへの用途に最適な半透過反射フィルムを提供する。 - 特許庁
  • A simulation part 104 performs a logical simulation with the use of the assertion description 103, the net list 101, and a test pattern 105, and then outputs a warning message 106 for warning the operation when the operation violating the operation expressed by the assertion description 103 is detected.
    シミュレーション部１０４は、そのアサーション記述１０３、ネットリスト１０１、及びテストパターン１０５を用いて論理シミュレーションを行うことにより、アサーション記述１０３が表す動作に違反する動作を検出した場合に、その動作を警告する警告メッセージ１０６を出力する。 - 特許庁
  • To provide a radiation-sensitive variable refractive index composition for an optical material so that the refractive index of the material can be varied by an easy method, the difference in the varied refractive indices is sufficiently large, and a stable refractive index pattern and optical material can be obtained without depending on the succeeding use conditions.
    材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、屈折率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁
  • Some prominent examples of the influence of court culture are the use of fukusa (a small cloth for wiping tea utensils) in two colors on a skew which refers to the color pattern of juni-hitoe (twelve-layered ceremonial kimono wear) as well as the Kinin-date (the tea ceremony procedure for nobilities) using tato (a folding paper-case) and kokakedai (a small table) which refers to Senko no Kakeban (a small low table made of subtle fragrant wood to place dishes).
    わかりやすいところでは十二単の色目を参考にした斜め二色の袱紗を使用することがあげられ、また畳紙（たとう）と浅香の懸盤を参考にした小掛台とを使った貴人点前も公家文化をよく反映したものである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • Although the crown prince's reifuku was replaced by a red kushofuku in the early Heian period (after choga was abolished in the middle of the Heian period, the crown prince's reifuku fell into disuse), oni no ho was continuously used for chofuku and the use of the eno-maru (a design in which mandarin ducks form a circle) pattern became common practice.
    平安時代前期には皇太子の礼服は赤色の九章服になったが（さらに朝賀の廃止された平安中期以降は、皇太子の礼服の着装例がない）、朝服においてはその後も使用され、文様も鴛鴦丸（えんおうまる）が使われることが一般化した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • First, use the --no-defaults and --no-prune to disable the standard ``include'' and ``exclude'' sets.Second, you might want to force the manifest to be regenerated--forexample, if you have added or removed files or directories that match an existing pattern in the manifest template, you should regenerate the manifest:
    まず、標準の ``include'' および ``exclude'' セットを無効化するには--no-defaults および --no-prune を使います第二に、マニフェストファイルの再生成を強制できます -- 例えば、現在マニフェストテンプレート内に指定しているパターンにマッチするファイルやディレクトリを追加したり削除したりすると、マニフェストを再生成しなくてはなりません: - Python
  • To reliably prevent generation of an organic haze on a photomask, particularly, on the surface where a mask pattern is formed, without inspecting whether an organic haze generates, or without resticking a pellicle film when the haze generates, and to use a photomask without generating an organic haze, even in a conventional exposure environment.
    有機ヘイズの発生有無の検査や発生した際のペリクル膜の再度貼作業を行うことなく、フォトマスクの特にマスクパターン形成面における有機ヘイズの発生を確実に防止し、従来の露光環境でも有機ヘイズを発生させることなく、フォトマスクを使用する。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device wherein a semiconductor chip and an interposer are arranged side by side on a carrier tape and which can provide good electrical characteristics with use of a short wiring pattern substantially symmetrical with respect to the semiconductor chip, can facilitate its manufacturing with a small size, and can improve its heat radiating performance.
    キャリアテープ上に半導体チップおよびインタポーザとを並置するとともに、半導体チップに対してほぼ対称の配線パターンの短い配線を用いて電気的特性を良好にし、製造が容易で、かつ、小型で放熱性が向上できる半導体装置を提供する。 - 特許庁
  • An adaptive equalizer for use in a serial communication link uses timing information, generated by the phase detector of a clock and data recovery circuit of the serial communication link and a frequency pattern of the recovered data, to decide whether the data received in the serial communication link are over-equalized or under-equalized.
    シリアル通信リンクに使用する適応等化器システムは、そのリンクのクロック・データ再生回路の位相検出器及び再生データの周波パターンで生成されるタイミング情報を使用し、シリアル通信リンクで受信するデータが、過剰等化又は過少等化であるかを判断する。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive resin composition, capable of securing flame retardancy without having to use a halogen-based flame retardant and superior in resolution, resistance to electrolytic corrosion, and storage stability, and a photosensitive film that uses the composition, and to provide a method of forming resist pattern, a printed wiring board, and a method of manufacturing the same.
    ハロゲン系難燃剤を用いずに難燃性を確保することができ、更に、解像性、耐電食性及び保存安定性に優れた感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a chemically amplified photoresist composition for a thick film suitable for forming a thick film having high sensitivity, ensuring good developed profile and suitable for use as a connection terminal forming material, and provide a thick film photoresist layered product, a method for producing a resist pattern usng the same and a method for producing a connection terminal.
    高感度で、現像プロファイルが良好である上に、接続端子形成用材料として好適な厚膜形成に適する厚膜用化学増幅型ホトレジスト組成物、厚膜ホトレジスト積層体、これを用いたレジストパターンの製造方法及び接続端子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • The optical system is simplified because a glass-base substrate 100 is cut by making use of a beam pattern after the ejection of the cooling liquid beam 170, and a large tensile force is applied on the scribe line 210, thus a thick non-metallic substrate is completely cut.
    冷却流体ビーム１７０の噴射後、一つのビームパターンを使用してガラス母基板１００を切断するので光学系を単純化させることができ、スクライブライン２１０に大きい引張力を発生させるので、厚い非メタル基板の完全切断を達成することができる。 - 特許庁
  • To provide a low dielectric constant resin composition excellent in pattern accuracy and adhesion to a substrate, developable with water or a dilute alkali solution and suitable for use in the formation of a soldering resist, an interlayey dielectric or the like for a printed wiring board or an IC package and a photosensitive film using the composition.
    パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁
  • An input color of color brush data is determined, and contents of brush data are retrieved to determine a color version after execution of CMYK conversion in the case of CMYK data or RGB data, and pattern expansion processing is performed only for the color version for use.
    カラーブラシデータの入力色を判定し、ＣＭＹＫデータである場合、または、ＲＧＢデータである場合は、ＣＭＹＫ色変換を行なった後に、ブラシデータの中身を検索することで色版の判定を行ない、使用されている色版に対してのみ、パターン展開処理を行なう。 - 特許庁
  • To provide a decorated sheet-like food which causes no error and loss and is rapidly produced in large quantities even if it has a complicated pattern having lots of colors, the decorated sheet-like food taking, in particular, taste and health in consideration and being easy to use; and to provide a method for producing the same.
    多色の色彩を有する複雑な模様であっても、誤差やロスを生じさせず、迅速に量産することのできる加飾シート状食品であって、とりわけ風味や健康に配慮した使い勝手のよい加飾シート状食品およびその製法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a chemically amplified positive radiation-sensitive resin composition that is superior in roughness, etching resistance, sensitivity and resolution, capable of stably forming a fine pattern with high accuracy, and suitable for use as a resin composition for EB or EUV, effectively sensitive to an electron beam or extreme-ultraviolet radiation.
    ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、電子線または極紫外線に有効に感応するＥＢ、ＥＵＶ用として好適な化学増幅型ポジ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • To provide an inexpensive easy authenticating and identifying method which does not use a special device in verification and does not impair the aesthetic aspect and artistry of image, a recording material, and also a silver halide photographic material each having a security pattern in authentication and a base for the recording material.
    検証に特殊な装置を使用せず、かつ、画像の審美性、芸術性を損なわない安価で簡易な認証識別方法並びに該認証におけるセキュリティパターンを有する記録材料、ハロゲン化銀写真材料、更には記録材料用支持体を提供する。 - 特許庁
  • In the scanning charged particle microscope designed for semiconductor tests and measurements, the use of an image after image restoration to perform a pattern size measurement, defect detection, and defect classification or the like enables the improvement of the precision of measurement and the rise in the precision of detection and classification of a defect.
    さらに、半導体検査および半導体計測用の走査型荷電粒子顕微鏡において、画像復元後の画像を用いてパターン寸法計測、欠陥検出、欠陥分類等に用いることにより、計測精度向上や欠陥検出、欠陥分類の高精度化を可能とした。 - 特許庁
  • A similarity calculation device 1 calculates similarities between a plurality of input signals and standard patterns, an entry assignment device 2 translates the similarities into relational strengths between the input signals and entries with the use of a standard pattern/entry correspondence table, and a semantic association calculation device 3 translates the relational strengths into degrees of association between the input signals and concepts with the use of a concept interrelationship table.
    類似度計算装置１により複数の入力信号と標準パタンとの類似度を計算し、見出語割り当て装置２により標準パタン対見出語対応表を用いてこの類似度を入力信号と見出語との関係強度へ変換し、意味関連度計算装置３により概念間関係表を用いてこの関係強度を入力信号と概念との関連度へ変換する。 - 特許庁
  • In the molded die, a rotating central axis of an original pattern of the article can be coincided to a rotating central axis of the molding die, and with the use of the original pattern, the shape of the article is molded and released from the die under half-dried condition with maintaining its shape.
    成形途中での水使用により発生する作品原形の外側部分の原料土表面の泥状層を取り除き略均一な原料土状態にして成形型を使用可能にする陶磁器の成形方法を発明し、該作品原形の回転中心軸と成形型の回転中心軸とを合わせ得る該成形型を発明して、該成形型を使って該作品の形状を成形してその成形品を保持し該成形品が半乾燥後脱型するようにした。 - 特許庁
  • The ink discharge state judging system, the printing apparatus and the ink discharge state judgment method use the printing block pattern for ink discharge state judgment which is equipped with a region adjacent to the periphery of any of printing block patterns of each ink color, or a reference blank region formed by exposing a printing medium surface of a partial region inside the printing block pattern of each ink color.
    本発明に係るインク吐出状態判定システム、印刷装置及びインク吐出状態判定方法は、各インク色の前記印刷ブロックパターンのいずれかの周囲にそれぞれ隣接する領域又は各インク色の前記印刷ブロックパターン内部の一部領域の前記印刷媒体表面を露出させて形成された参照空白領域を備えた本発明に係るインク吐出状態判定用印刷ブロックパターンを使用するものである。 - 特許庁
  • When a resist pattern formed using a photosensitive resin compsn. on the surface of an article is removed from the surface of the article after use, a photosensitive polyimide resin compsn. contg. tetrazoles is used as the photosensitive resin compsn. and an adhesive tape is stuck on the article and peeled off together with the resist pattern from the surface of the article.
    感光性樹脂組成物を用いて形成されたレジストパターンが存在する物品表面からレジストパターンを除去する方法において、感光性樹脂組成物として、テトラゾール類を含有する感光性ポリイミド樹脂組成物を用い、かつ、レジストパターンが存在する物品上に粘着テープを貼り付け、次いで、粘着テープをレジストパターンと共に物品表面から剥離することを特徴とするレジスト除去方法、及びパターン形成方法。 - 特許庁
  • To provide a color filter for use in a multi-domain vertical alignment mode (MVA mode) liquid crystal display device, which has the structure devised to resolve the occurrence of image persistence that a pattern having a certain shape is viewed persistently when overall uniform display is performed after leaving the pattern displayed for a long period of time, and is superior in reliability.
    液晶表示装置で、配向分割垂直配向方式（ＭＶＡ方式）の液晶表示装置において、ある形状の模様を長時間表示しておくと、その後全体に均一な表示をしようとしても先の模様が残って見えてしまう表示焼き付きといった現象が発生する不具合を、その液晶表示装置に用いるカラーフィルタの構造を工夫することで改善する、信頼性に優れたカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁
  • Therefore, surreptitious use of various kinds of parameters in the sound processing, which utilizes the intentional input signals such as impulse being a signal for making the frequency characteristic flat or a regular pattern, a noncorrelation signal such as white noise and a signal with extremely large correlation such as a pulse waveform, can be prevented.
    これにより、周波数特性が平坦又は規則的パターンとなる信号であるインパルスやホワイトノイズのような無相関信号、またはパルス波形のように相関の極端に大きな信号のような作為的入力信号を利用した音響処理の各種パラメータの盗用を防止することが可能になる。 - 特許庁
  • In the method and the device, by the scanning with the charged particle beams, an image on the sample is formed, part of a region of the formed image is selected, part of the region of the selected image is substituted to another image, and dimension of the pattern is measured with the use of the image substituting part of the image to another one.
    当該方法及び装置では、荷電粒子線の走査によって、試料上の画像を形成し、形成された画像の一部の領域を選択し、選択された画像の一部の領域を他の像に置換し、画像の一部が他の像に置換された画像を用いて、パターンの寸法測定を行うようにしている。 - 特許庁
  • Moreover, the controller makes a second unit signal generating part (second drive signal generating part 70B) generate the other second unit signal (driving pulses PS1' and PS3') equivalent to the first unit signal, and makes a second pattern for adjustment printed by dots of a predetermined size formed with the use of the second unit signal and the other second unit signal.
    また、第１単位信号と同等な他の第２単位信号（駆動パルスＰＳ１´，ＰＳ３´）を第２単位信号生成部（第２駆動信号生成部７０Ｂ）に生成させ、第２単位信号及び他の第２単位信号を用いて形成される所定サイズのドットにより、第２調整用パターンを印刷させる。 - 特許庁
  • The quantity of exposure (exposure energy to a sufficiently large opening pattern) at exposure of a photoresist by the use of the photomask 5 is more than four times and less than twenty times of the exposure quantity at the boundary, in which the photoresist reaches insolubility from solubility to a developing solution by exposure, or the exposure quantity at the boundary in which the photoresist reaches solubility from insolubility.
    このフォトマスク５を用いてフォトレジストを露光する際の露光量（十分大きい開口パターンへの露光エネルギ）は、露光によりフォトレジストが現像液に対して溶解性から不溶解性になる境界の露光量または不溶解性から溶解性になる境界の露光量の４倍以上２０倍以下である。 - 特許庁
  • This reticle 10 comprises a multilayer film 12 for an X-ray reflector formed on a substrate 8, and an absorber film 14 formed on the multilayer film 12, wherein the absorber film 14, having a prescribed pattern, is composed of a substance having a large imaginary part in the complex index of refraction at the use wavelength region of the X-ray.
    本発明に係るレチクル１０は、基板８上に形成されたＸ線反射鏡用多層膜１２と、この多層膜１２上に形成された、Ｘ線の使用波長域における複素屈折率の虚部が大きい物質からなり且つ所定のパターンを有する吸収体膜１４と、を具備するものである。 - 特許庁
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