「x-pattern」を含む例文一覧(704)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15- A positive electrode active material is a nickel oxyhydroxide compound including zinc and cobalt, alone or in combination, as eutectic, the surface of particles of which compound is coated with a cobalt high-order oxide, and has a half band width of 0.4 to 0.48 at the diffraction peak near a diffraction angle of 18° in the X-ray diffraction pattern, thereby achieving a battery superior in characteristics.
この発明は、正極材料として、亜鉛及びコバルト単独もしくはこれらを共晶させたオキシ水酸化ニッケル系化合物であって、この粒子の表面がコバルト高次酸化物で被覆され、ｘ線回折パターンにおいて、回折角１８°付近の回折ピークの半値幅が０．４〜０．４８である正極活物質を用いることによって特性の優れた電池を実現する。 - 特許庁 - To provide a high resolution resist material containing acid generation agent of polymer type which is highly sensitive and high resolution to high energy rays particularly to ArF excimer laser, F_2 excimer laser, EUV, X-rays and EB etc., small in line edge roughness and not water soluble, and stable to heat and preservation; and to provide a pattern formation method using the resist material.
レジスト材料であって、高エネルギー線、特にはＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_2エキシマレーザー、ＥＵＶ、Ｘ線、ＥＢ等に対して高感度、高解像でラインエッジラフネスが小さく水への溶解がなく、十分な熱安定性、保存安定性を有するポリマー型の酸発生剤を含有する高解像性レジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The hydrogen-producing catalyst for producing hydrogen from carbon monoxide and water in internal-combustion engine exhaust gas contains: an oxide containing a cerium oxide in which the ratio of (111)-face diffraction peak intensity to background intensity in X-ray diffraction pattern is 4.3 or more; a zirconium oxide; and at least one noble metal selected from Pt, Pd and Rh.
内燃機関排ガス中の一酸化炭素と水から水素を生成する触媒であって、Ｘ線回折パターンにおいて（１１１）面回折ピーク強度とバックグランドの比が４.３ 以上である酸化セリウムを含む酸化物と、ジルコニウム酸化物と、Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｈから選ばれる貴金属の少なくとも１つとを含むことを特徴とする水素製造触媒を用いる。 - 特許庁 - The porous silica aggregate particles are one that are obtained by aggregating porous silica spherical primary particles which exhibit an X-ray diffraction pattern having one or more diffraction lines in a range of diffraction angle (2θ/°) corresponding to a lattice spacing (d) of at least 1 nm, wherein pores are formed in the porous silica spherical primary particles and void layers are formed in the gaps between these porous silica spherical primary particles.
１ｎｍ以上の格子面間隔（ｄ）に対応する回折角（２θ／°）の範囲に１つ以上の回折線を有するＸ線回折パターンを示す多孔質シリカ球状一次粒子を集合してなる多孔質シリカ凝集粒子であり、多孔質シリカ球状一次粒子内に細孔を形成するとともに、これらの多孔質シリカ球状一次粒子間の間隙に空隙層を形成した。 - 特許庁
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