シラノンの英語

絶縁膜用材料として、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルシラノン、ｎ−ブチリデンメチルメトキシシラン、ｎ−ブチリデンシラノン、アリルジメチルメトキシシラン、アリルメチルシラノン、アリリデンメチルメトキシシラン、アリリデンシラノン、ビニルエチルメチルメトキシシラン、ビニルエチルシラノンなどを用い、プラズマＣＶＤ法によって成膜する。例文帳に追加

In the film deposition method, film deposition is carried out according to a plasma CVD process using any material for the insulating film selected from n-butyl dimethyl methoxy silane, n-butyl methyl silane, n-butylidene methyl methoxy silane, n-butylidene silanon, allyl dimethyl methoxy silane, allyl methyl silanon, allylidene methyl methoxy silane, allylidene silanon, vinyl ethyl methyl methoxy silane, vinyl ethyl silanon, etc. - 特許庁