isoamyl etherとは 意味・読み方・使い方

The rinse used for rinsing the resist after development has a composition containing 90-95 wt.% ethylene glycol monoethyl ether and 5-10 wt.% isoamyl acetate.例文帳に追加

また、前記レジストの現像後のリンスに使用するリンス液であって、エチレングリコールモノエチルエーテルを９０〜９５重量％、酢酸イソアミルを５〜１０重量％含有する組成からなる。 - 特許庁

The developer is used for developing a resist comprising a styrene-halobenzoylhydroxypropyl mathecrylate copolymer and has a composition, e.g. containing 60-85 wt.% ethylene glycol monoethyl ether and 15-40 wt.% isoamyl acetate.例文帳に追加

スチレンとハロベンゾイルヒドロキシプロピルメタクリレートとの共重合体からなるレジストの現像に使用する現像液であって、例えば、エチレングリコールモノエチルエーテルを６０〜８５重量％、酢酸イソアミルを１５〜４０重量％、含有する組成からなる。 - 特許庁