「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, AND METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN例文帳に追加

感光性組成物、感光性フィルム、及び、永久パターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物および酸発生剤 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF RESIST PATTERN FORMATION例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

UPPER LAYER FILM-FORMING COMPOSITION, UPPER LAYER FILM, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

上層膜形成組成物、上層膜およびパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、重合体、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER COMPOUND AND COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性重合体組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE COATING MATERIAL, AND MINUTE PATTERN STRUCTURE例文帳に追加

感光性組成物、感光性塗布物および微細パターン構造体 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法 - 特許庁

ALKALINE DEVELOPMENT TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

アルカリ現像型感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIGHT-BLOCKING PATTERN FORMATION OF PLASMA DISPLAY例文帳に追加

プラズマディスプレイの遮光性パターン形成用感光性樹脂組成物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

CURING COMPOSITION FOR TRANSCRIPTION MATERIAL AND METHOD FOR FORMING MINUTE PATTERN例文帳に追加

転写材料用硬化性組成物および微細パターン形成方法 - 特許庁

POLYMER, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

重合体、化学増幅型レジスト組成物、および、パターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性重合体組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レリーフパターンの製造方法、及び電子部品 - 特許庁

POLYMIDE PRECURSOR COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THAT例文帳に追加

ポリイミド前駆体組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, AND METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN例文帳に追加

感光性組成物、感光性フィルム、及び永久パターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PASTE COMPOSITION FOR FORMING HEAT-RESISTANT ELECTROCONDUCTIVE PATTERN ON BASE PLATE例文帳に追加

耐熱性導電パターンを基板に形成するためのペースト組成物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN OBTAINED FROM IT, AND DISPLAY DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これから得られるパターン、及び表示装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, PATTERN PRODUCING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性重合体組成物、パターン製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

PATTERN FORMATION METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM例文帳に追加

パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMATION OF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING ANTIREFLECTION FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁