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ウィキペディア英語版
出典：Wikipedia
Plasma ashing
出典:『Wikipedia』 (2011/02/11 02:27 UTC 版)
英語による解説
ウィキペディア英語版からの引用
- 引用
In semiconductor manufacturing plasma ashing is the process of removing the photoresist from an etched wafer. Using a plasma source, a monatomic reactive species is generated. Oxygen or fluorine are the most common reactive species. The reactive species combines with the photoresist to form ash which is removed with a vacuum pump.
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- Wikipedia
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Weblio英和・和英辞典に掲載されている「Wikipedia英語版」の記事は、WikipediaのPlasma ashing (改訂履歴)の記事を複製、再配布したものにあたり、Creative Commons Attribution-ShareAlike (CC-BY-SA)もしくはGNU Free Documentation Licenseというライセンスの下で提供されています。
