The voltage of a tracking error signal S2 generated on the basis of return light received by an optical pickup 2 from the optical information medium 10 is compared with a preset reference value Vr, and when the voltage V1 of the tracking error signal S2 is equal to or greater than the reference value Vr, it is determined that a defect exists in the optical information medium 10. 光ピックアップ2で受光した光情報媒体10からの戻り光に基づいて生成されるトラッキング誤差信号S2の電圧と予め設定された基準値Vrとを比較して、トラッキング誤差信号S2の電圧V1が基準値Vr以上のときに光情報媒体10に欠陥が存在すると判別する。 - 特許庁
To provide a hermetic scroll compressor solving a defect that an edge part interferes with a chip seal groove wall surface when force acts on a chip seal in a twisting direction due to a rectangular chip seal section shape, floating performance is dropped, and refrigerant leaks into a compression chamber in a lower pressure side by crossing the chip seal to degrade performance. チップシール断面形状が概矩形であることにより、チップシールにねじれ方向の力が働いた時にエッジ部がチップシール溝壁面に干渉して、浮上性能が低下し、チップシールを横断してより低圧側の圧縮室へ冷媒が漏れ込んで性能低下するするという課題を解決した密閉型スクロール圧縮機を提供する。 - 特許庁
The temperature distribution visualizing/imaging display or the defect detecting display includes: a temperature distribution object 1 having a surface applied with a light emitting material 2 for emitting a light in response to infrared rays; the color camera 5 for imaging the temperature distribution object 1; and a display means 7 or 8 for displaying a color distribution image corresponding to a temperature distribution imaged by the color camera 5. 温度分布可視化撮影表示装置あるいは欠陥検出表示装置は、赤外線により発光する発光物質2を表面に塗布した温度分布被写体1と、温度分布被写体1を撮影するカラーカメラ5と、カラーカメラ5で撮影した温度分布に対応するカラー分布像の表示手段7または8とを備えている。 - 特許庁
The defect inspection device of the present invention is equipped with a laser light source 1, emitting optical beam; a one-dimensional diffraction grating converting light into one-dimensional multi-beam; an objective lens 9 for converging multi-beams; a half-mirror 6a separating the optical beam reflected from a sample from the optical beam entering into the sample; and a wedge 17 bifurcating the separated optical beams. 本発明にかかる欠陥検査装置は光ビームを発生するレーザー光源1と、光を1次元のマルチビームに変換する1次元回折格子と、マルチビームを集束する対物レンズ9と、試料で反射した光ビームを試料に入射する光ビームから分離するハーフミラー6aと、分離された光ビームを分岐するウェッジ17を備えている。 - 特許庁
Before an ion injecting process (stage S2) as an object of metal contamination evaluation is performed, an amorphous silicon layer 2 is formed (stage S1) on a silicon substrate surface (a surface of a silicon wafer 1) to suppress a crystal defect induced nearby the surface of the silicon wafer 1 due to injection energy in the silicon injection stage S2. 金属汚染評価対象であるイオン注入処理(工程S2)を行う前に、シリコン基板表面(シリコンウエハ1の表面)に非晶質シリコン層2を形成する(工程S1)ことにより、イオン注入工程S2において注入エネルギーによりシリコンウェハ1の表面近傍に誘発される結晶欠陥を抑制することができる。 - 特許庁
A microcomputer 240 is operated by a defective pixel selecting program stored in a program ROM 250 to execute processing of the defect detection circuit 211 several times while varying the detection level and narrows down detected pixels so that the number of detected pixels may be within the range of the preliminarily prepared maximum value of the number of pixels which can be subjected to correction processing. マイクロコンピュータ240では、プログラムROM250内に格納された欠陥画素の選択プログラムによって動作し、検出レベルを変えながら欠陥検出回路211の処理を何度か実行させ、検出画素数が予め用意された処理可能補正画素数の最大値の範囲内に入るように検出画素の絞り込みを行う。 - 特許庁
This radio frequency ripple signal compensation device is constituted of a radio frequency ripple signal processing circuit 801, a radio frequency signal processing circuit 802, a radio frequency signal peak detector 803, a first analog/digital converter 804, a second analog/digital converter 805, a defect detector 807, and a fingerprint detector 808. 無線周波数リップル信号処理回路801と、無線周波数信号処理回路802と、無線周波数信号ピーク検出器803と、第1のアナログ・デジタル変換器804と、第2のアナログ・デジタル変換器805と、欠陥検出器807と、指紋検出器808と、から無線周波数リップル信号補償装置を構成する。 - 特許庁
To provide a technology which allows recording sheets existing in devices placed upstream of a postprocessing device, to be removed without damaging the devices in the case of the occurrence of a recording sheet carrying defect in the postprocessing device in an image forming apparatus having the postprocessing device for postprocessing of recording sheets having images formed thereon. 画像が形成された記録シートに後処理を施す後処理装置を有する画像形成装置において、後処理装置内で記録シート搬送不良が発生した際に、後処理装置の上流側に設けられている装置内部に存在する記録シートを当該装置に損傷を与えることなく除去することのできる技術の提供を目的とする。 - 特許庁
Substrate splices and defects are detected prior to reaching the coating position such that a feed-forward controller is able to momentarily retract the coating head both avoiding slot die damage and avoiding interruption of the coating process, yet the apparatus is able to return the coating head, with high precision, to its prior position once the splice or defect has passed. 基材スプライス及び欠陥が塗布位置に到達する前に検知されるため、フィードフォーワード制御装置が塗布ヘッドを一時的に格納することにより、スロットダイの損傷を回避しつつ塗布プロセスの中断を避けることができるとともに、この装置によれば、スプライス又は欠陥が通過した後、塗布ヘッドをその元の位置に高精度で戻すことができる。 - 特許庁
To provide a cooling state inspection method and apparatus for a furnace body cooler which enables judgment of a defect part having a leakage of cooling water and a stagnation thereof and post correction of a furnace body cooler easily and accurately measuring a temperature distribution of the cooling water flowing into the furnace body cooler from outside. 炉体冷却装置内を流れる冷却水の温度分布を外部から正確に測定して、冷却水漏れや淀みが発生した欠陥部位を容易かつ正確に判断でき、その後の炉体冷却装置の補修を容易かつ確実に行うことができる炉体冷却装置の冷却状態検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁
The compound represented by general formula (I) or salts thereof exhibits excellent prophylactic and therapeutic effect to keratoconjunctive disorder or the like developing with aging, as an agent in the pharmacological test using SAMP 10 and so they are useful as a prophylactic or therapeutic agent for keratoconjunctive disorders such as dry eye, superficial punctate keratopathy, or keratoconjunctive disorder such as corneal epithelial defect. 一般式(I)で表される化合物又はその塩は、SAMP10を用いた薬理試験において、加齢に伴って発症する角膜障害等に対して優れた予防及び改善効果を発揮するので、ドライアイ、点状表層角膜症、角膜上皮欠損などの角結膜障害の予防又は治療剤として有用である。 - 特許庁
To provide an apparatus and a method for producing a single crystal capable of improving cooling capacity of a cooling cylinder without generating solidification or dislocation on the melt surface, heightening pulling speed at a production time of a defect-free single crystal, thereby improving productively and the yield of the single crystal, and suppressing power consumption. 融液表面における固化や有転位化を生じさせることなく冷却筒の冷却能力を向上させ、無欠陥の単結晶製造時における引上げ速度を高速度とし、それによって単結晶の生産性及び歩留まりを向上させ、かつ消費電力を抑制することができる単結晶の製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a single crystal silicon wafer, which has necessary volume of BMD(Bulk Micro-Defect) in a gettering region, for removing metal impurities in a device formation surface layer of the silicon single crystal wafer by gettering, without causing inconvenience such as strength reduction of the single crystal silicon wafer that has been observed in the prior art IG gettering treatment. 従来のIGゲッタリング実施の際にみられたシリコン単結晶ウエハの強度低下等の不都合を招来することなく、シリコン単結晶ウエハのデバイス形成表層に存在する金属不純物を有効にゲッタリング除去するのに必要な体積量のBMDがゲッタリング領域中に生成されたシリコン単結晶ウエハを提供する。 - 特許庁
To provide a coating liquid for forming an underlayer having high stability, a photoreceptor for electronic photography of high performance and long life hardly generating image defect such as black point or colored point capable of forming high quality images under various living environment, image forming device using the photoreceptor, and an electronic photograph cartridge using the photoreceptor. 高い安定性を有する下引き層形成用塗布液、様々な使用環境下でも高い画質の画像を形成することが可能で、しかも黒点や色点などの画像欠陥が発現し難い高性能で長寿命の電子写真感光体、該感光体を用いた画像形成装置、および前記感光体を用いた電子写真カートリッジを提供する。 - 特許庁
To provide a negative lithographic printing plate precursor which uses a plastic film as a support and has a polymerizable photosensitive layer and a polyvinyl alcohol-based protective layer disposed on the plastic film, and which suppresses adhesion of the protective layer to the backside of the plastic film and prevents blocking, faulty transport and trouble such as a convex defect. 支持体としてプラスチックフィルムを用い、その上に重合系の感光層およびポリビニルアルコール系の保護層を設けたネガ型の平版印刷版原版であって、保護層とプラスチックフィルムの裏面との接着を抑制して、ブロッキングおよび搬送不良の問題の発生、クニック状の欠陥等のトラブルを防止する平版印刷版原版を提供すること。 - 特許庁
A silicon layer 4 as a defect suppressing substance layer is provided between a first nitride-based compound semiconductor layer 3 containing dislocations grown on a substrate 1, and a second nitride-based compound semiconductor layer 5 containing dislocations less than the first nitride-based compound semiconductor layer to manufacture a nitride-based compound semiconductor base material. 基板1上に成長した転位を含む第一の窒化物系化合物半導体層3と、前記第一の窒化物系化合物半導体層よりも少ない転位を含む第二の窒化物系化合物半導体層5との間に、欠陥抑制物質層であるシリコン層4を介在させて窒化物系化合物半導体基材10を製造する。 - 特許庁
To provide a liquid developing device capable of restraining malfunction and an image defect caused by the formation of the aggregation of toner by uniformly stirring a toner liquid in a toner container and a developer in a developer tank all over the container and dispersing toner particles without deteriorating them, and to provide an image forming apparatus in which the liquid developing device is mounted. トナーコンテナ内のトナー液や、現像液タンク内の現像液を、これら容器全体に渡って均一に撹拌し、トナー粒子を劣化させることなく分散せしめて、トナー凝集物の生成に起因する動作不良や画像不良の発生を抑えた液体現像装置およびこれを搭載した画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a compact image forming apparatus where a distance between a transfer part and a fixing means is set to be short, and which surely prevents a defect such as paper wrinkles, image distortion or image elongation from occurring without individually adjusting the conveying speed or the like of the fixing means for each apparatus. 転写部と定着手段との間の距離が短く設定された小型の画像形成装置であっても、個々の装置毎に定着手段の搬送速度等を個別に調整することなく、紙しわや像歪み、像伸び等のディフェクトが発生するのを確実に防止することが可能な画像形成装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
A crystal containing one or more defects and an appropriate pressure medium becoming supercritical fluid under a reaction condition are prepared, and the crystal and the pressure medium are placed in a high pressure cell, and the crystal is treated for a sufficiently long time at the reaction condition of high pressure and temperature for removing the defect or the strain in the crystal. 1以上の欠陥を含む結晶及び反応条件下で超臨界流体となる適当な圧力媒体を用意し、結晶及び圧力媒体を高圧セル内に入れ、高圧セルを高圧装置内に置き、単結晶中の欠陥又は歪みを除去するのに十分な高い圧力及び温度の反応条件下で十分な長さの時間処理する。 - 特許庁
To provide a moving picture distribution testing device for testing video quality of each client in accessing a moving picture distribution server on a packet switching network at the same time, implementing simulation needing less calculation amounts for propagation of a defect by inter-frame reference, and simplifying inspection of a packet loss and a header so as to obtain video quality under conditions closer to actual conditions. パケット交換ネットワーク上の動画配信サーバに同時アクセスするときの各クライアントの映像品質を試験する装置において、フレーム間参照による欠損の波及を計算量の少ないシミュレーションで行い、パケット損失とヘッダ検査を簡易にして、より実際に近い条件で映像品質を求める動画配信試験装置を提供する。 - 特許庁
To improve an SN ratio of an image signal of a defect spot by adjusting an incident azimuth of each illumination light at a suitable angle for a pattern on a sample, when performing visual inspection of the sample by illuminating the sample with illumination light entering the sample obliquely with respect to the optical axis of an objective lens of a microscope, and by acquiring a sample image. 顕微鏡の対物レンズの光軸に対して斜めに試料に入射する照明光により試料を照明して試料の画像を取得し試料の外観検査を行う際に、各照明光の入射方位を試料上のパターンに好適な角度に調整して、欠陥箇所の画像信号のSN比を向上する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing optical waveguides, by which a treatment comprising reacting a structural defect present in a light propagation part of the optical waveguide, e.g., an optical fiber, with deuterium molecules or hydrogen molecules having the same effect as that of the deuterium molecules can be performed in a shorter period of time, and a plurality of optical fibers can be collectively and simultaneously treated. 本発明の目的は、光導波路、例えば光ファイバの、光が伝播する部分に存在する構造欠陥と重水素分子あるいはこれと同じ効果を有する水素分子とを反応させる処理を、より短時間に、かつ複数本の光ファイバを同時に一括処理できる光導波路の製造方法を提供することある。 - 特許庁
The defect inspection apparatus includes a light source 2 for irradiating light toward a substrate 1, a detection means 3 for detecting light reflected from the substrate 1, and a reflecting means 6 for shielding a region not to be measured 5 within the field of view of the detection means 3 and reflecting light irradiated from the light source 2 toward the detection means 3. 欠陥検査装置は、基材1へ向けて光を照射する光源2、基材1からの反射光を検出する検出手段3、並びに前記検出手段3の視野内で非測定領域5を遮蔽すると共に光源2から照射された光を検出手段3へ向けて反射する反射手段6を備える。 - 特許庁
To provide a testing device for determination of a display defect including display irregularity and the like to be appeared on a display surface of a plane display device and a manufacturing method of the plane display device using this which are capable of making determination of display irregularity and the like precisely and reliably without being affected by skill level and some difference of operation conditions. 平面表示装置の表示面に表れる表示ムラその他の表示欠陥を判定するのに用いる検査具、及びこれを用いる平面表示装置の製造方法において、表示ムラ等の判定を、熟練度や多少の作業条件の違いに左右されることなく、高い精度及び信頼度にて行うことができるものを提供する。 - 特許庁
The home ecological broom does not depend on the electric vacuum cleaner, considers the advantages and disadvantages of an age-old hand broom, removes the defect of poor hygiene to cause dust, uses urethane resin as a raw material, takes advantage of moderate flexibility, and uses has cylindrical or rod-shaped assembled mass of entities with the same thinness as the strength as the tip of the broom. 電動式掃除機に頼らず、昔からある手箒の、長所、短所を考え、埃を立てる不衛生さの欠点を無くし、素材をウレタン樹脂とし適度の柔軟性を活かし、その強度と、同一の細さを持つ円筒形・棒状の、多数集合させた物で、箒の穂先として使用する事を特徴とする家庭用エコ箒 - 特許庁
To provide an evaluation method for accurately evaluating a wafer surface quality, especially fine defects on the surface of a wafer and to provide a silicon wafer, for which a contamination or defect level that cannot be confirmed conventionally, is confirmed with this evaluation method, and especially a silicon wafer with which device characteristics will not degrade. 従来のウェーハ評価方法では十分な評価を行うことができなかった、ウェーハ表面品質、特にウェーハ表面の微小な欠陥を精度良く評価方法を提供すると共に、この評価法により、今まで確認できなかった汚染や欠陥レベルまで確認されたウェーハ、特にデバイス特性が劣化しないシリコンウェーハを提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a stencile mask for ion implantation, having excellent heat resistance, durability and ion implantation accuracy by reducing a critical defect of a stencile mask for ion implantation such as deformation of a membrane due to heat generated from an ion beam in an ion implantation process using the stensile mask for ion implantation to be executed in manufacture of semiconductor devices. 半導体デバイス作製において行われる、イオン注入用ステンシルマスクを用いたイオン注入工程において、イオンビーム発熱に起因したメンブレンのたわみという、イオン注入用ステンシルマスクの致命的欠陥を低減し、優れた耐熱性や耐久性およびイオン注入精度を有するイオン注入用ステンシルマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus capable of maintaining the charging capability of a contact charging member of a charging device by removing unnecessary matter sticking on the contact charging member without wasting effective toner used for normal image forming operation and performing image formation free of picture quality trouble due to a defect in charging. 通常の画像形成動作に使用される有効なトナーを消費することなく、帯電装置の接触帯電部材に付着する不要物を可能な限り取り除いて、その接触帯電部材の帯電能力を保持し、帯電不良に起因した画質障害が発生しない画像形成を行なうことができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a data communication adaptor that gives data to other information processing unit on the basis of the data from one information processing unit, reduces a data transmission time and a communication charge when the other information processing unit transmits the data through electric communication and improves a defect caused by a cable extended from the adaptor. 一方の情報処理装置からのデータに基づいて他方の情報処理装置にデータを入力させるデータ通信用アダプタにおいて、他方の情報処理装置により電気通信によりデータを送信するときのデータ送信時間および通信料金を低減し、またアダプタから延出するケーブルに起因した不具合を改善する。 - 特許庁
To eliminate the defect that details of a monitoring target can hardly be recognized because the monitoring target such as a pet is displayed in a very smaller size than that of a background on a display screen of a mobile terminal by means of a simple system configuration wherein many software processes are not required for segmenting the monitoring target. 遠隔見守りシステムにおいて、ペット等の監視対象物が、携帯端末の表示画面中で背景に比べて極めて小さくしか表示されないことから、監視対象物の詳細が分かりにくいという不具合を、監視対象物の切り分けに多くのソフト処理を要することがない簡便なシステム構成で解消する。 - 特許庁
To provide a multilayer electronic component manufacturing method that causes no sheet attack phenomenon in manufacturing a multilayer electronic component using a so-called multi manufacturing method and thus provides a resultant electronic component experiencing a reduced rate of a short-circuit defect, a green sheet paint used in the method and a method for manufacturing a multilayer unit using the green sheet paint. いわゆるマルチ工法を用いて積層電子部品を製造する際に、シートアタック現象が発生せず、結果として得られる電子部品のショート不良率が少ない積層電子部品の製造方法と、その製造方法に用いられるグリーンシート塗料と、該グリーンシート塗料を用いた積層ユニットの製造方法を提供することである。 - 特許庁
The electrode paste 4 is repelled through the water repellency effect of the step eliminating pattern 3 and then a step between an electrode pattern 5 formed by leveling and the step eliminating pattern 3 is made small to prevent a defect such as cracking and delamination, thereby providing the multilayer ceramic electronic component of good quality which has superior reliability and productivity and is made smaller in decrease in electrostatic capacity. 段差解消パターン3の撥水効果で電極ペースト4をはじかせることで、レベリングにより形成された電極パターン5と段差解消パターン3との段差を少なくし、クラックやデラミネーション等の欠陥を防止でき、信頼性、生産性に優れた、静電容量の低下を抑えた品質のよい積層セラミック電子部品を提供することができる。 - 特許庁
A detect detection device 3 includes a detection unit 30B for processing blue image data D_B from the camera C1, a detection unit 30R for processing red image data D_R from the camera C1, and a detection unit 30BL for processing monochrome image data D_BL from the camera C2 as a detection unit for performing processing for defect detection. 欠陥検出装置3には欠陥検出のための処理を行う検出部として、カメラC1からの青色画像データD_Bを処理する検出部30Bと、カメラC1からの赤色画像データD_Rを処理する検出部30Rと、カメラC2からのモノクロ画像データD_BLを処理する検出部30BLとが設けられる。 - 特許庁
To solve the problem that, in a defect inspection system using a plurality of detectors such as an upright detector and an oblique detector, if illumination light and wafer height are adjusted to the detection field of view of one detector, a defocused image is detected by other remaining detectors, resulting in degradation of the detection sensitivity. 欠陥検査装置において、上方検出系や斜方検出系などの複数の検出系を使用する場合、一つの検出系の検出視野に対して照明光およびウェハ高さを合わせた場合、他の検出系においてデフォーカスした像を検出してしまうため、欠陥検出感度が低下するという問題を解決する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a single crystal, in which the single crystal having a desired defect area can be efficiently manufactured in a short time at a high yield by controlling the ratio V/G by controlling change of the crystal temperature gradient G during pulling the single crystal without reducing the pulling speed V when the single crystal is grown by a Czochralski (CZ) method. CZ法により単結晶を育成する際に、引上げ速度Vを低速化させずに結晶引上げ中の結晶温度勾配Gの変化を制御することによりV/Gを制御して、所望の欠陥領域を有する単結晶を短時間で効率的に、かつ高い歩留まりで製造することのできる単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a silicon substrate with a lifetime of 500 μsec or more that includes neither oxygen precipitates nor defects (RIE defect) detected by an RIE method such as COP or OSF at a depth of at least 1 μm from a surface serving as a device manufacture region, and to provide the silicon substrate manufactured by such method. デバイス作製領域となる表面から少なくとも1μmの深さに、酸素析出物、COP、OSF等のRIE法により検出される欠陥(RIE欠陥)が存在せず、かつ、ライフタイムが500μsec以上のシリコン基板の製造方法及び当該方法により製造されたシリコン基板を提供することを目的とする。 - 特許庁
To rapidly and efficiently recognize a defect in a report function, and also to investigate the cause of a fault by normally and visually monitoring whether electronic detection is reliably performed or not regardless of a situation during a game when the passage of a game ball is electronically detected, and a game state is changed by the detection. 遊技球の通過を電子的に検出し、この検出によって遊技状態に変化を持たせる際に、この電子的な検出が確実になされているか否かを遊技中の状況に拘らず、常に目視にて監視することができ、報知機能の不良を迅速、かつ効率よく認識、並びに故障の原因を究明を行うことができる。 - 特許庁
To provide a steel plate for spot welding which prevents strength degradation due to defect or breaking caused by an inclusion when spot welding of the steel sheets is carried out, assures good workability, forms a welded zone with a high reliability, and is excellent in weld zone strength after welding; and to provide a spot welding joint excellent in weld zone strength. 鋼板同士をスポット溶接した際に、介在物を起因とする欠陥や割れが生じて強度が低下するのを防止でき、良好な作業性を確保しつつ、信頼性の高い溶接部を形成することが可能な、溶接後の溶接部強度に優れるスポット溶接用鋼板、及び、溶接部の強度に優れるスポット溶接継手を提供する。 - 特許庁
To provide a medical surface-nanoscale processed titanium promoting the proliferation and the differentiation of osteoblastic cells, which performs osteoanagenesis by being packed into a joining part between an artificial bone and a bone, reinforcing material for a fractured bone part, various types and shapes of dental implant materials, a mesh-type reinforcing material and a screw and further into an osseous defect site of a jawbone. 人工関節と骨との接合部や骨折部への補強材、各種形状の歯科インプラント材、メッシュ型補強材およびネジ、更には顎骨などの骨欠損部に填入することにより、骨再生を図ることができるようにした骨芽細胞系細胞の増殖と分化を促進する医療用ナノ表面加工チタンを提供する。 - 特許庁
The laminate is characterized in that a layer comprising an oxygen barrier base material A is provided to a single layer comprising a resin composition layer, which is prepared by compounding 0.5-50 wt.% of an inorganic compound, which has an oxygen defect, subjected to reduction treatment to a thermoplastic resin, or a multilayered structure containing it through an adhesive layer. 還元処理を施した酸素欠陥を有する無機化合物を熱可塑性樹脂に対し、0.5重量%から50重量%の範囲で配合した樹脂組成物層の単層あるいはこの層を含む多層体に、接着層を介して酸素バリア性基材Aからなる層を設けたことを特徴とする積層体などを提供する。 - 特許庁
To extremely suppress and reduce deviation in a superposed image by evading a defect that the deviation in the superposed image is largely caused because the cycle of the rotational fluctuation of each photoreceptive drum is made different and making the phase of the cycle of the rotational fluctuation of each photoreceptive drum coincident in the full-color copying machine of four-series tandem type. この発明は、4連タンデム式のフルカラー複写機において、各感光体ドラムの回転変動の周期が異なり、画像重ね合わせずれが大きく発生してしまうという欠点を回避して、各感光体ドラムの回転変動の周期の位相を合わせることにより、画像重ね合わせずれを極力抑制でき、低減できる。 - 特許庁
To provide an evaluation method for a silicon single-crystal wafer allowing the prediction of a breakdown voltage defect caused by the wafer quality after the completion of device manufacturing process by obtaining in advance in the stage of the wafer the evaluation result of a GOI characteristic which is close to the GOI characteristic obtained after the completion of the device manufacturing process (device product). 本発明は、デバイス製造工程終了後(デバイス製品)のGOI特性の評価結果と近いGOI特性の評価結果を、ウェーハ段階で事前に得ることができ、デバイス製造工程終了後のウェーハ品質に起因する耐圧不良を予測することが可能となるシリコン単結晶ウェーハの評価方法を提供する。 - 特許庁
To provide a magnetic head manufacturing method which can remarkably reduce the defect rate of the products by achieving a magnetic head manufacturing method which can actually form possible broken magnetic poles and bent magnetic poles in advance during the period the magnetic poles and their protective layers are formed in a manufacturing process of a magnetic head. 磁気ヘッドの製造工程において、磁極が形成されてから当該磁極の保護層が形成されるまでの間に発生し得る磁極飛び・磁極曲りをあらかじめ現出させることが可能な磁気ヘッドの製造方法を実現し、それにより、製品の不良品率を著しく低下させることが可能な磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pressure-sensitive adhesive film that has excellent performance for protecting optical sheets, permits high-accuracy defect inspection of the optical sheet to which the adhesive sheet is applied and gives good coating appearance, when the optical sheet after adhesive film is peeled off is coated with an adhesive or a hard coating agent or the like. 光学シートの保護性能に優れ、粘着フィルムを貼った状態で光学シートの欠陥検査を精度良く行うことができ、また、粘着フィルムを剥離した後の光学シート表面に接着剤やハードコート剤等を塗工した時の塗工外観が良好である等の特長を有する光学シート保護用粘着フィルムを提供する。 - 特許庁
The start of the drive transistor threshold detection operation for boostrap is determined by off of the first detecting transistor T1 and the end of the threshold detection operation is determined by off of the switching transistor T3 connecting the drain of the drive transistor and a power source potential, thereby averting the sharpness defect caused by the current that the drive transistor flows after the threshold detection operation. そしてブートストラップ用ドライブトランジスタ閾値検出動作の開始を、第1の検知トランジスタT1のオフで決定し、また閾値検出動作の終了をドライブトランジスタのドレインと電源電位を接続しているスイッチトランジスタT3のオフで決定することにより、閾値検出動作後にドライブトランジスタが流す電流によって生じる画質不良を回避する。 - 特許庁
The circuit board 5 is held between a substrate correction tool 12 and a substrate correction guide 13 at one or more positions at least, and the circuit board 5 is heated and pressed by a semiconductor bare chip pressing tool 14 while being corrected by pressing, thereby preventing destruction of the semiconductor bare chip to be mounted later and preventing the recognition defect and erroneous recognition. 回路基板5の少なくとも1箇所以上を基板矯正ツール12と基板矯正ガイド13で挟み込み、押圧して回路基板5の矯正を行いながら、半導体ベアチップ押圧ツール14にて押圧し、加熱加圧を行うことにより、後から実装する半導体ベアチップの破壊防止、認識不良及び誤認識の防止が可能となる。 - 特許庁
To provide an inkjet recorder and an inkjet recording method, capable of recording quickly a satisfactory image reduced in ink spreading between respective colors and reduced in deterioration of image quality, while reducing the generation of a stripe-like defect even in different kinds of recording media and ink, when carrying out multicolor printing at a high speed by a single path system. シングルパス方式で高速での多色印刷する場合において、記録媒体やインクの種類異なったとしてもスジ状の欠陥の発生を低減しつつ、各色インク間でのインク滲みが少なく画質劣化の少ない良好な画像を高速で記録することが可能なインクジェット記録装置及びインクジェット記録方法の提供。 - 特許庁
To provide an inkjet recorder and an inkjet recording method, capable of recording quickly a satisfactory image reduced in ink spreading between respective colors and reduced in deterioration of image quality, while reducing the generation of a stripe-like defect even in different kinds of recording media and ink, when carrying out multicolor printing at a high speed by a single path system. シングルパス方式で高速での多色印刷する場合において、記録媒体やインクの種類が異なったとしてもスジ状の欠陥の発生を低減しつつ、各色インク間でのインク滲みが少なく画質劣化の少ない良好な画像を高速で記録することが可能なインクジェット記録装置及びインクジェット記録方法の提供。 - 特許庁
The three sets of optical sensors 3 comprise a first optical sensor for detecting a base of the isotonic drink cap, a second optical sensor provided to detect an over-cap immediately before the detection, and a third sensor for searching slightly above the over-cap, wherein a defect in mounting the isotonic drink cap is determined according to a combination of detection signals from the optical sensors. 3組の光センサー3は、スポーツキャップの基部を検出する第1の光センサーと、その検出開始直前にオーバーキャップを検出するように設けられた第2の光センサーと、オーバーキャップの僅か上方を検索する第3の光センサーとからなり、これらの光センサーからの検出信号の組合せによってスポーツキャップ装着不良を判定する。 - 特許庁
In the layout verification method of a semiconductor device for verifying a formation defect which occurs in wiring on a chip layout, an area ratio between the total area of the same node wiring on the chip layout and the total area of a contact hole on the same node wiring is limited and based upon the limitation, propriety is judged to detect the portion where the wiring formation is defective. チップレイアウト上の配線で発生する形成不良を検証する半導体装置のレイアウト検証方法であって、チップレイアウト上で同一ノード配線の総面積と同一ノード配線上のコンタクトホールの総面積との面積比を制限し、この制限に基づいて良否判定することにより配線形成不良箇所を検出する。 - 特許庁