「Deflectors」を含む例文一覧(74)
＜前へ 1 2- Eight-polar electrostatic deflectors 100 and 110 as angle adjustment deflectors, image rotary lenses 120 and 130 as rotary adjusters and electronic detectors 140 and 150 are provided between an aperture array 31 and an electrostatic lens array 32, and between the electrostatic lens array 32 and a blanker array 33 within a plural charged particle beam formation section 3, thereby adjusting the angle of beam passage and rotation to detect the passage of a beam.
複数荷電粒子ビーム形成部３内において、アパーチャアレイ３１と静電レンズアレイ３２との間、および静電レンズアレイ３２とブランカアレイ３３との間に、角度調整用偏向器として８極静電偏向器１００、１１０、回転調整器として像回転レンズ１２０、１３０および電子検出器１４０、１５０を設けることにより、ビーム通過の角度および回転調整を行ない、ビームの通過を検出する。 - 特許庁 - The electron beam EB is projected through an electron optical system 12 comprising a converging electron lens, various deflectors and a shaping aperture (not shown), and through a mask 13 to a substrate 17 supported on an exposure stage 16.
電子ビームＥＢは、収束用の電子レンズや各種の偏向器や成形アパーチャ等（図示せず）を介する電子光学系１２、さらにマスク１３を介して露光ステージ１６に支持された基材１７に照射される。 - 特許庁 - The charged particle beam lithography apparatus 1 comprises blanking deflector arrays each including a plurality of deflectors for blanking the plurality of charged particle beams, respectively, in two-stage (blanking deflector arrays 14, 19).
ここで、荷電粒子線描画装置１は、複数の荷電粒子線をそれぞれブランキングするための複数の偏向器を含むブランキング偏向器アレイを少なくとも２段（ブランキング偏向器アレイ１４、１９）備える。 - 特許庁 - Deflectors 7, 8 so deflect the electron beam that the electron beam started from a predetermined position of the reticle 3 proceeds on its predetermined deflecting trajectory 11 and passes a scattering aperture 5 to be imaged on a predetermined position of a wafer 4.
偏向器７、８は、マスク３の所定の位置から出発した電子線が所定の電子線の偏向軌道１１上に乗って、散乱アパーチャー５を通過しウェハ４の所定の位置に結像するように電子線を偏向させる。 - 特許庁 - Hence, the maximum current which is made to flow in the element deflectors 16, 17 can be reduced in a case that a large deflection amount is needed in the X axis direction, but is not needed in the Y axis direction when exposure is performed.
よって、露光時にＸ軸方向に大きな偏向量を必要とし、Ｙ軸方向には大きな偏向量を必要としない場合に、要素偏向器１６、１７に流す電流値の最大値を小さくすることができる。 - 特許庁 - To suppress recording defects brought about by deviation of scanning units from normal positions due to the temperature change or the like with respect to an optical scanner where a plurality of the scanning units constituted to perform scanning with deflectors are arranged in the main scanning direction.
偏向器で走査する構成の走査ユニットを主走査方向に複数並べて設けた光走査装置において、温度変化などに起因して走査ユニットが正規の位置からずれることにより生じる記録不良を抑える。 - 特許庁 - In the case of correcting a plotting position on a sample 317 with a batch graphic selection on a second mask 305, a correction quantity is changed, while depending on the deflection quantities of deflectors 311 and 102 for specifying a selected graphic position and the plotting position.
第２マスク３０５上の一括図形選択に伴い試料３１７上の描画位置補正を行う際の補正量を、選択した図形位置と描画位置を規定する偏向器３１１，１０２の偏向量に依存して変化させる。 - 特許庁 - Inside an optical box 9, two light deflectors 5a, 5b each of which uses a rotary polygon mirror are arranged almost opposite to each other near inner walls of both ends of the optical box 9 across first scanning optical systems 6a, 6b, etc.
光学箱９の内部には、回転多面鏡を用いた２つの光偏向器５ａと光偏向器５ｂとが、第１走査光学系６ａ，６ｂ等を挟んで当該光学箱９の両端の内壁近傍に互いにほぼ対峙して配置されている。 - 特許庁 - The illumination optical system is provided with a means (forming openings 4, 8 and forming deflectors 6, 7) to form a beam smaller than the beam to illuminate the small area of regular pattern, and an opening for detecting a mark of the reticle 10 is illuminated with a small beam L4.
照明光学系に、通常のパターン小領域を照明するビームよりも小さいビームを成形する手段（成形開口４、８及び成形偏向器６、７）を備え、小ビームＬ４でレチクルのマーク検出用開口を照明する。 - 特許庁 - The charge particle beam drawing device includes: a generation section for generating a plurality of charged particle beams; a blanking section for controlling the plurality of charged particle beams to an on state or an off state respectively by a plurality of deflectors 218; the shutter blade; and a control section 100.
荷電粒子線描画装置は、複数の荷電粒子線を生成する生成部と、複数の偏向器２１８によって前記複数の荷電粒子線をそれぞれオン状態又はオフ状態に制御するブランキング部と、シャッターブレードと、制御部１００とを備える。 - 特許庁 - This magnetic field applying device of the transmission electron microscope comprises a plurality of deflectors to swingingly return the optical axis deflection of an irradiated electron beam generated simultaneously with application of the magnetic field onto the optical axis, and is formed so that the deflection main surface of one deflector is disposed at a position extremely close to the surface of the sample 6.
透過電子顕微鏡の磁場印加装置において、磁場印加と同時に発生する照射電子線の光軸偏向を軸上に振り戻す複数の偏向器からなり、１つの偏向器の偏向主面が試料６表面に極めて近い位置に配置されように構成される。 - 特許庁 - The fluctuation of beams caused by noises superimposed on the reflective deflectors of plural stages is measured and evaluated, the deflection data of an arbitrary deflector on which the harmful noise is superimposed are forcedly separated as invalid data, and plotting and mark detection can be performed while reducing the fluctuation of beams caused by noises.
複数段の夫々の偏向器に重畳するノイズによるビームの揺らぎを測定評価し、有害なノイズの重畳する任意の偏向器の偏向データを強制的に無効として切り離し、ノイズによるビームの揺らぎを低減して描画およびマーク検出を行う。 - 特許庁 - If the point of incidence of the electron beam 3 on the wafer 5 deviates from a target position while the exciting currents of the deflectors R1 and R2 are determined so as to enable the electron beam 3 located out of the optical axis to pass through the center of the contrast aperture 4, the above deviation is corrected by the use of the above sensitivity.
そして、軸外の電子線３がコントラストアパーチャ４の中心を通るように偏向器Ｒ１と偏向器Ｒ２の励磁電流を定めたときに、その電子線３がウエハ５に入射する位置が目標位置からずれた場合、そのずれを、前記感度を使用して補正する。 - 特許庁 - The step parts 21, 51 includes outer circumference surfaces 22, 52 near the seal rings 31, 32, 61, 62 of the oil deflectors 30, 60 and side surfaces 23, 53 extending radially from a center parts 28, 58 of the shaft 10 and having grooves 24, 54 formed at a position radially underneath the outer circumference surface.
段部（２１、５１）は、オイルデフレクタ（３０、６０）のシールリング（３１、３２、６１、６２）に近接した外周面（２２、５２）と、シャフト（１０）の中心部分（２８、５８）から半径方向に延びかつ外周面（２２、５２）の半径方向下方に位置するグルーブ（２４、５４）を形成した側面（２３、５３）とを含む。 - 特許庁 - To provide an optical scanner in which the period of response signal of one optical deflector is controlled on the basis of the variation rate of the scanning period of other optical deflectors, and the former optical deflector is driven linked with the latter optical deflector, and to provide a method of driving the optical deflector.
1つの光偏向器の応答信号の周期を、他の光偏向器の走査周期の変化比率に基づいて制御しつつ、後者の光偏向器と連動して前者の光偏向器を駆動することができる光学走査装置、その駆動方法を提供する。 - 特許庁 - At lest a pair of vertical deflectors 11 is placed in a heat exchanger 8 provided in facing to the front of an outlet of a casing 6.
ケーシング６の吹出口の前方に対向して設けた熱交換器８に１対以上からなる垂直整流板１１を配置することにより、ケーシング６の吹出口から吐出された流れは熱交換器８の吸込側近傍で、斜めに流れる流れを垂直整流板１１で風向偏向する。 - 特許庁 - The scanning optical apparatus has two deflectors 41 and 42 which are turned by a driving motor and deflectively scan a light, one deflector 41 is mounted with a tilt angle of 10°, for example, with respect to the mounting reference plane in an optical box body 100, and the other deflector 42 is mounted in parallel to the mounting reference plane.
駆動モータで回動して偏向走査する２つの偏向器４１，４２を有し、光学箱体１００内の取付基準面に対して一方の偏向器４１はたとえば角度約１０°で傾いて設けられ、他方の偏向器４２は取付基準面に平衡に設けられている。 - 特許庁 - An air bearing is used for the light deflector 16K of an optical scanner 14K from among four light scanners 14Y, 14M, 14C and 14K corresponding with the colors of yellow (Y), magenta (M), cyan (C) and black (K) and a ball bearing is used for the other light deflectors 16Y, 16M and 16C.
イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）及びブラック（Ｋ）の各色に対応した４つの光走査装置１４Ｙ、１４Ｍ、１４Ｃ、１４Ｋのうち、光走査装置１４Ｋの光偏向器１６Ｋは空気軸受とし、これ以外の光偏向器１６Ｙ、１６Ｍ、１６Ｃの軸受けは玉軸受とする。 - 特許庁 - A beam irradiation device is provided with an electron gun 1, a convergence lens 2, an objective lens 3, deflectors 5X, 5Y, a secondary electron detector 7, an amplitude limiter 13 to cut out a signal within an arbitrary level range among output signals of the secondary electron detector, and a signal level adjusting circuit 14 to adjust the amplitude of the output signals of the amplitude limiter 13.
電子銃１、集束レンズ２、対物レンズ３、偏向器５Ｘ，５Ｙ、二次電子検出器７、二次電子検出器７の出力信号の内、任意のレベル域にある信号を切り出す振幅制限器１３、及び振幅制限器１３の出力信号の振幅を調整する信号レベル調整回路１４を備えた。 - 特許庁 - The electron beam blanking device comprises the electron beam receiver 61 consisting of a portion 63 for receiving the electron beam generated by an electron beam source 14 and a portion 62 for passing the electron beam through, and deflectors 72-75 which are installed between the electron beam source 14 and the electron beam receiving portion 61 and can deflect the electron beam 15 into two different directions.
電子ビームのブランキング装置を、電子線源１４から生じる電子ビームを受ける部分６３と電子ビームを通過させる部分６２とを有する電子線受け部６１と、電子線源１４と電子線受け部６１との間に設けられ、電子ビーム１５を異なる２方向に偏向可能な偏向器７２〜７５と、を備えて構成する。 - 特許庁 - A beam is statically deflected to the maximum deflection by all the deflectors 110 and in front of a specific slit aperture along the path of the charged particle beam, then scanning is made in a direction in parallel with a direction for crossing the direction of static deflection, at the same time, the current of the charged particle beam captured by the end part of each slit aperture 150 is recorded successively.
荷電粒子ビームの経路に沿った特定のスリット・アパーチャより上／前のすべての偏向器を使用してビームを最大偏向まで静的に偏向させ、次に、静的偏向の方向に対して直交する方向と平行する方向にスキャンすると同時に、各スリット・アパーチャの縁部によって捕捉された荷電粒子ビームの電流を順に記録する。 - 特許庁 - A nonlinear optical material member whose transmittance or refractive index is changed according to intensity of irradiation with light is built in the light controlling type optical deflectors 3 and 7, interference fringes having spatial frequencies according to the controlling signal light beams 4 and 8 are formed in the nonlinear optical material member and the serial light signal sequence 2 is diffracted by the formed interference fringes to perform scanning.
光制御型光偏向器３、７は、光の照射強度に応じて透過率もしくは屈折率が変化する非線形光学材料部材を内蔵し、非線形光学材料部材に、制御信号光４、８に応じた空間周波数の干渉縞を形成し、この形成された干渉縞によって、シリアル光信号列２を回折し、走査を行う。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus having a plurality of exposure means which deflect light beams emitted from a light source by using resonating deflectors and scan latent image carriers with the deflected light beams to form latent images on the latent image carriers, the image forming apparatus forming an image with an excellent quality by surely securing the amplitude of an oscillation mirror in any exposure means.
共振振動する偏向器により光源から射出される光ビームを偏向させるとともに該偏向光ビームを潜像担持体に走査させて該潜像担持体上に潜像を形成する露光手段を複数個有する画像形成装置において、いずれの露光手段においても振動ミラーの振幅を確実に確保して良好な品質で画像を形成する。 - 特許庁 - A wafer projection lens 3 has a lens core 15, composed of a part 15a approximately enclosing a lens coil and two disc-like magnetic poles 15b vertical to an optical axis 5 at both ends thereof, so that the pole 15b projects inside a ferrite stack 16 for preventing magnetic fields generated by deflectors 9-11 from interfering with a magnetic field generated by the projection lens 3.
ウェハ側投影レンズ３のレンズコア１５を、レンズコイルをほぼ囲む部分１５ａと、その両端に設けられ、光軸５に垂直な２枚の円板状の磁極１５ｂから構成するようにし、偏向器９〜１１の発生する磁場とウェハ側投影レンズ３が発生する磁場の干渉を防止するために設けられているフェライトスタック１６の内側に、磁極１５ｂが突き出すようにしている。 - 特許庁
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