「Electron Microscope」を含む例文一覧(1821)
＜前へ 1 2 .... 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 次へ＞- The probe for the scanning probe microscope includes a cantilever like base part 101 equipped with a conical needle part 101a, the insulating layer 102 formed the base part 101 and the electron discharge layer 103 formed on the insulating layer 102.
円錐状の針部１０１ａを備えたカンチレバー状の基部１０１と、基部１０１の上に形成された絶縁層１０２と、絶縁層１０２の上に形成された電子放出層１０３とを備える。 - 特許庁 - To provide an image processor for improving the success rate and accuracy of pattern matching of two images without lowering the efficiency of the inspection work of length measurement or the like, an image processing method and a scanning electron microscope.
２つの画像のパターンマッチングの成功率および精度を向上させ、しかも、測長などの検査作業の効率を低下させない画像処理装置、画像処理方法および走査型電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for evaluating feature values such as the area, width, and height of the whole part or specific part of an SEM image(scanning electron microscope image) to be inspected without generating the fluctuation of evaluation.
検査対象のＳＥＭ像（電子顕微鏡画像）に基づいて、その全体または特定部分の面積や幅、高さなどの特徴量を評価する評価方法で、評価にバラツキが発生しない方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a minute object preparing method and device, capable of manufacturing minute objects by coupling together two members in the correct positional relationship such as a nano-tube probe, while enlarging image photographing takes place in an electron microscope device.
電子顕微鏡装置内で拡大撮像しながら、ナノチューブプローブ等のように、２部材を正しい位置関係で相互に結合して微小物を製造できる微小物作成方法とその装置を開発する。 - 特許庁 - In the electron microscope applying a phase retrieval method, an image size decided by a pixel size p of a diffraction image, a camera length L, and a wavelength λ of irradiation beams and a sample irradiation area are set to have a constant relation.
位相回復法を適用した電子顕微鏡等において、回折像の画素サイズｐ、カメラ長L、照射ビームの波長λにより決まる画像サイズと試料照射領域が一定関係になるようにする。 - 特許庁 - To provide means which allows an operator for easily acquiring a desired observation image under an arbitrary observation condition, in a scanning electron microscope having a plurality of different types of detectors.
本発明の目的は、異なる種類の複数の検出器を有した走査電子顕微鏡において、任意の観察条件で操作者が所望する観察画像を容易に取得する手段を提供することにある。 - 特許庁 - To eliminate use of deposition, and improve the productivity in a preparation of a sample for a transmission electron microscope, when the thin sample which is processed and prepared by a charged particle beam is fixed to a sample holder.
透過電子顕微鏡用試料の作製において、荷電粒子ビームによって加工して作製した薄片試料を試料ホルダに固定する際に、デポジションを用いないようにすることにより生産性を向上させる。 - 特許庁 - The whole stage is rotated on the second spherical seat, without marring the eucentric conditions of a rotating cylinder and a sample holder, so that the direction of the rotating shaft of the cylinder can be set to pass the center of the visual field of the electron microscope.
回転シリンダや試料ホルダのユーセントリック条件を崩すことなくステージ全体を第２の球面座で回転させ、シリンダ回転軸方向を電子顕微鏡視野中心に通るように設定できるようになる。 - 特許庁 - The method for manufacturing the sample to observe the defect in the silicon crystal by the transmission electron microscope comprises the steps of releasing only a shallow region on the surface of the crystal, and thinning the region to the thin piece samples.
シリコン結晶中の欠陥を透過型電子顕微鏡で観察するための試料作製方法であって、結晶表面の浅い領域のみを剥離させて薄片化し薄片試料とするようにした。 - 特許庁 - To provide a sample measuring method for removing impure substances adhered to a sample chamber of an electron microscope or the like, capable of restraining adverse effects to subsequent manufacturing processes, and to provide a charged particle apparatus.
本発明の目的は、電子顕微鏡の試料室等において付着する不純物を除去し、その後の製造プロセスへの悪影響を抑制し得る試料測定方法、及び荷電粒子線装置の提供にある。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a thin sample for a transmission type electron microscope in which a coat layer is unlikely to be released from a particle surface and there is no damage in the inside of particles and the coat layers, and an observation method of the thin sample.
粒子表面からコート層が剥がれ難く、粒子内部とコート層に損傷のない透過式の電子顕微鏡用薄片試料の作製方法と薄片試料の観察方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a cathode luminescence specimen holder to easily perform cathode luminescence analysis by using an existing transmission electron microscope (TEM) and a spectroscopic analyzer using the cathode luminescence specimen holder.
既設の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いてカソードルミネッセンス分析を容易に行うことを可能とするカソードルミネッセンス用試料ホルダ、及び該カソードルミネッセンス用試料ホルダを用いた分光分析装置を提供する。 - 特許庁 - The texture structure thereof has the texture characteristics that the metal Si and Si compound cannot be observed by X-ray diffraction and the granular texture cannot be observed by a transmission electron microscope(TEM).
その組織構造は、Ｘ線回折によって金属ＳｉおよびＳｉ化合物が観察されず、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えたものである。 - 特許庁 - To accurately calculate a coordinate data conversion/correction formula for a short time so as to effectively search particles on a wafer from their data that are measured by a particle counter, by a scanning electron microscope (SEM).
パーティクルカウンタで測定したウェーハ上の粒子の座標データに対し走査型電子顕微鏡（SEM）で当該粒子の探索を効果的に行うための、座標データ変換・補正式を短時間で精度良く算出する。 - 特許庁 - A film comprising Os (osmium) is formed on the surface of the sample before processed into a slice form and this sample having the Os film on its surface is processed into the slice form to prepare the sample for the transmission electron microscope.
薄片状に加工する前のサンプルにＯｓ（オスミウム）からなる膜をサンプルの表面に形成し、その後に加工して薄片状とすることを特徴とする透過型電子顕微鏡用試料の作製方法。 - 特許庁 - A pair of the electron images E1 having the binocular disparity is photographed in an observation direction C by attaching the assistant's camera 7 to the luminous flux intake port 10 of the microscope main body 6 to be outputted to the stereoviewer S1.
助手用カメラ７を顕微鏡本体６の光束取入口１０に取付けることにより、観察方向Ｃでの両眼視差を有する一対の電子映像Ｅ１を撮影し、ステレオビュアＳ１に出力できる。 - 特許庁 - To automatically image a desired evaluation point (EP) on a sample, and automatically measure a circuit pattern formed at the evaluation points, in the dimension measurement of a circuit pattern using a scanning electron microscope (SEM).
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いた回路パターンの寸法計測において、試料上の任意の評価ポイント（ＥＰ）を自動で撮像し，評価ポイントに形成された回路パターンを自動で計測することを可能にする。 - 特許庁 - To provide an analyzer used with an excellent electron microscope apparatus capable of shortening the analyzing time and improving the analyzing accuracy by suppressing the occurrence of the contamination on an analysis object surface.
分析時間の短縮を図れるとともに分析対象体表面のコンタミネーションの発生を抑制して分析精度の向上を図れるといった、優れた電子顕微鏡装置と共に用いる分析装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a stage system enabling alleviation of vibration or drift at a high level and positioning accuracy, which are required for a sample stage of a scanning electron microscope used in a field of semiconductor manufacturing.
半導体製造分野で用いられる走査型電子顕微鏡の試料ステージについて要求されるような高いレベルでの振動やドリフトの低減および位置決め精度を可能とするステージ装置の提供。 - 特許庁 - To provide an electron microscope with a camera for image observation, capable of rotating an observation image to an optional angle without changing the visual field.
本発明は像観察用カメラを備える電子顕微鏡に関し、視野を変えることなく観察像を任意の角度に回転させることができる像観察用カメラを備える電子顕微鏡を提供することを目的としている。 - 特許庁 - The magnesium oxide powder has a cubic particle shape when observed by a scanning electron microscope, and has a cumulative 50% particle diameter (D_50) of at least 1.0 μm by a laser diffraction scattering type particle size distribution measurement method.
走査型電子顕微鏡にて観察した粒子形状が立方体状であり、かつレーザ回折散乱式粒度分布測定による累積５０％粒子径（Ｄ_５０）が１．０μｍ以上である酸化マグネシウム粉末。 - 特許庁 - To provide a scanning electron microscope in which a rapid change of an irradiation current can be suppressed against intensity changes of a focusing lens at changing the irradiation current by changing the intensity of the focusing lens.
集束レンズの強度を変化させて照射電流を変化させるに際して、集束レンズの強度変化に対して、照射電流の急激な変化を抑えることができる走査電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁 - The sample production device achieves sample production suitable for observation by a scanning electron microscope, by forming a micro irregularity every structure by focused ion beam assistant etching using assist gas for increasing the spatter yield difference for every material.
材料毎のスパッタイールド差を大きくするアシストガスを利用した集束イオンビームアシストエッチングにより、構造毎の微小凹凸を形成することで、走査電子顕微鏡観察に適した試料作製を実現する。 - 特許庁 - Since the camera 4 is moved in conjunction with the movement of a sample 8 by composing the electron microscope like that, the sample 8 is prevented from deviating from the visual field of the camera 4 or being interrupted by various types of apparatuses 6 installed around it.
このように構成することで、試料８の移動に連動してカメラ４も移動するので、試料８がカメラ４の視野から外れたり、周辺に設置された各種機器６で遮られたりすることがなくなる。 - 特許庁 - A probe, means for replacing the inside of a sample chamber with prescribed gas and means for turning into images by ion current detection or absorbed current detection are incorporated to realize a safe SEM (scanning electron microscope) whose risk of electrical discharge is low.
探針と、試料室内を所定のガスで置換する手段と、イオン電流検出や吸収電流検出による画像化手段を備えることにより、放電の危険性の低い安全なＳＥＭを実現する。 - 特許庁 - The scanning electron microscope scans electron beams on a test piece two-dimensionally and produces two dimensional image data 40 based on secondary electrons emitted from the test piece and composes scales 41a, 41b for expressing a prescribed length (1 μm) on the image data along two vertical and horizontal directions mutually perpendicular.
本発明の走査型電子顕微鏡は、電子ビームを試料上に２次元状に走査し、試料から発せられる２次電子に基づいて２次元的な画像データ４０を生成するとともに、画像データ４０に、互いに垂直な縦横の２方向に沿って、所定の長さ（１μｍ）を表すスケール４１ａ，４１ｂを合成する。 - 特許庁 - This method is to adjust the multi-pole lenses of the electron spectrometer having a plurality of the multi-pole lenses attached to a transmission electron microscope, and optimum conditions are found by simulation using a parameter design method using the exciting currents of the multi-pole lenses as parameters in this lens adjusting method.
透過型電子顕微鏡に付随している複数個の多重極子レンズを有する電子分光器の多重極子レンズを調整する方法であって、多重極子レンズの励磁電流をパラメータとしたパラメータ設計手法を用いたシミュレーションにより最適条件を求めるレンズ調整方法を提供する。 - 特許庁 - This is an electrostatic charge measuring method and a focus adjustment method, or a scanning electron microscope to measure the charge amount or to control an impressing voltage on the test piece by moving the scanning place of the electron beams on the test piece, and changing the impressing voltage on an energy filter.
上記目的を達成するために、本発明の一態様によれば、試料上の電子ビームの走査個所を移動しつつ、エネルギーフィルタへの印加電圧を変化させることで、帯電量を測定、或いは試料への印加電圧を制御する帯電測定方法、焦点調整方法、或いは走査電子顕微鏡を提案する。 - 特許庁 - In the scanning electron microscope in which the inside of an inner pipe for passing an electron beam is set up to be vacuum and a low vacuum observation is possible with an objective restriction arranged between the inner pipe and a specimen chamber, a two-stage objective restriction unit having another second objective restriction between the objective restriction and the specimen is arranged at an end of the inner pipe.
本発明は、電子ビームが通過するインナーパイプ内部を真空とし、試料室との間に設けた対物絞りにより低真空観察が可能な走査電子顕微鏡において、対物絞りと試料との間にさらに第二の対物絞りを設けた２段対物絞りユニットをインナーパイプの端に設ける。 - 特許庁 - When a multi-axial stage 40 of a scanning electron microscope 10 is rotated horizontally, inclined or moved horizontally, an operation of rotating, inclining or horizontally moving an image for specification is performed by means of a mouse 62 while creating an image for specification from an SEM image obtained from a signal of a secondary electron detector 20 and displaying the image on an image display unit 61.
走査電子顕微鏡１０の多軸ステージ４０を水平回転、傾斜、水平移動させるに際して、二次電子検出器２０の信号から得られるＳＥＭ像から指定用画像を作成して画像表示装置６１に表示しつつ、マウス６２で指定用画像を回転、傾斜、水平移動させる操作を行う。 - 特許庁 - The electron microscope introducing a sample through a spare exhaust room for carrying out measurement and observation by electron beams is to be provided with an exchange room for an electrostatic chuck different from the spare exhaust chamber, and a vacuum pump for vacuum pumping the exchange chamber.
上記課題を解決するために、電子ビームによる測定，観察を行うために予備排気室を経由して、試料を導入する電子顕微鏡において、前記予備排気室とは異なる静電チャックの交換室と、当該交換室を真空排気するための真空ポンプを備えた電子顕微鏡を提案する。 - 特許庁 - This is a scanning electron microscope apparatus which irradiates a sample 10 with an electron beam 20 and detects secondary electrons discharged from the sample 10 caused by the irradiation and is equipped with a scan generators 32 and 36 for detecting the secondary electrons at a frequency according to a magnification for observing the object 10.
試料１０へ電子線２０を照射し、該照射に起因して試料１０から放出される２次電子を検出する走査型電子顕微鏡装置であって、試料１０を観察する倍率に応じた頻度で２次電子を検出するためのスキャン・ジェネレータ３２，３６を備えた走査型電子顕微鏡装置を提供する。 - 特許庁 - An electron microscope is provided with axial-symmetry lenses (10, 11) arranged between two multipoles (8, 9), a rotating compensation lens (12) giving rotating action to electrons in a surface perpendicular to the optical axis is arranged in a collecting light surface of an electron orbit to be made between the axial-symmetry lenses.
２つの多極子（８，９）間に２つの軸対称レンズ（１０，１１）を配置した電子顕微鏡の球面収差補正装置において、軸対称レンズ間にできる電子軌道の集光面内に、光軸と垂直な面内で電子に回転作用を与える回転補正レンズ（１２）を配置したものである。 - 特許庁 - In Fig.2, the fact that the structure of chrysotile is changed from acicular ones to grains may be confirmed from the crystal structure determined by X-ray diffraction and measurement results of a surface structure determined by an electron microscope by irradiating a sulfuric aqueous solution in which the chrysotile is immersed with electron beams with an incidence energy of 0.8 MeV.
図２では、白石綿を浸漬した硫酸水溶液中に、入射エネルギー０．８ＭｅＶの電子線を照射することで、白石綿の構造が針状から粒状に変化することが、Ｘ線回折による結晶構造ならびに電子顕微鏡による表面構造の測定結果から確認できる。 - 特許庁 - With the spherical aberration correction device of the electron microscope with two axial symmetry lenses (10, 11) between two multipole elements (8, 9), a rotation correction lens (12) giving electrons rotation action within the plane vertical to the light axis is arranged in a converging face of an electron orbit generated between the axial symmetry lenses.
２つの多極子（８，９）間に２つの軸対称レンズ（１０，１１）を配置した電子顕微鏡の球面収差補正装置において、軸対称レンズ間にできる電子軌道の集光面内に、光軸と垂直な面内で電子に回転作用を与える回転補正レンズ（１２）を配置したものである。 - 特許庁 - The sample holder 10 for an electron microscope loaded with a measuring target has a housing 16 having openings 28 and 28' permitting the electron beam applied to the measuring target and the detection means provided in the housing 16 to measure the position and flight time of the element dissociated from the measuring target.
被測定体を搭載する電子顕微鏡用の試料ホルダ１０において、前記被測定体に照射される電子線が通過可能な開口２８、２８’を有する筐体１６と、前記筐体１６の内部に設けられ、前記被測定体から離脱した元素の位置および飛行時間を測定する検出手段とを有する。 - 特許庁 - When transferring a mask pattern to a photoresist film applied on a wafer principal surface, after transferring on an off-condition of under dose or defocus or both, a defective inspection is carried out through a process which inspects a transferred pattern to the photoresist film with a scanning electron microscope (SEM) for a voltage potential controlling type visual inspection.
ウエハ主面上に塗布されたフォトレジスト膜にマスクパターンを転写する際、アンダードーズあるいはデフォーカスまたはその両方の、オフコンディション条件で転写をした後、フォトレジスト膜に転写されたパターンを電位制御型外観検査用走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）で検査する工程を経て欠陥検査する。 - 特許庁 - To achieve an electron microscope or an X-ray analysis apparatus, and a sample analysis method for precisely and speedily performing an element analysis with high precision by X rays being generated from a sample by applying electron rays being a foreign object element inspection required for improving a manufacturing yield in a semiconductor element or the like.
半導体素子等の製造歩留まり向上のために必要な異物元素検査である電子線を照射して試料から発生するＸ線による元素分析を、高精度、高分解能、高速に実施できる電子顕微鏡またはＸ線分析装置及び試料の分析方法を実現することを目的とする。 - 特許庁 - For disposing the nano-tube in a desired place, the precise disposition control using an electron microscope is conducted with the same focal depth used on the stage, in which a base board installing table having an angle is installed and the nano-tube is moved in the horizontal direction, and therefore, the situation of the movement can be observed through the microscope owing to the same focal depth.
任意の場所へナノチューブを配置するには、電子顕微鏡を利用し、ステージ上に同一焦点深度を利用した精密配置制御を行うために、角度をつけた基板設置台を設け、ナノチューブは、水平方向に移動させるので、同一焦点深度であるため、移動の状況は、該顕微鏡により観察することができる。 - 特許庁 - Further, the observation method for observing the cross section of the semiconductor device includes a process for observing the cross section of the specific place of the semiconductor device by a scanning microscope and a process for forming the protective film of an amorphous structure to the cross section and further observing the cross section by the transmission type electron microscope through the protective film.
また、半導体デバイスの断面を観察する観察方法において、前記半導体デバイスの特定箇所の断面を走査型顕微鏡で観察する工程と；前記断面に非晶質構造の保護膜を形成し、当該保護膜を透して透過型電子顕微鏡によって前記断面を更に観察する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - First, a review is carried out by an electron microscope unit 2, and only when a first determining section 3 recognizes that a defect exists in a recognized defect part, is related defect information output to a defect information classifying section 6.
先ず電子顕微鏡ユニット２によるレビュー結果に基づき、第１の判定部３により認定欠陥部位に欠陥が有ると認められる場合のみ、その旨の欠陥情報が欠陥情報分類部６に出力される。 - 特許庁 - A display control device 22 displays an image photographed by a TV camera 21, on a monitor 24 and makes a superimposed display of an inclined axis pattern on the monitor 24 on the basis of inclined axis information from an electron microscope body control part 30.
表示制御装置２２は、ＴＶカメラ２１で撮像した画像をモニタ２４に表示すると共に、電子顕微鏡本体制御部３０からの傾斜軸情報に基づいて傾斜軸パターンをモニタ２４に重畳表示する。 - 特許庁 - To enhance efficiency for reviewing a defect to review the large number of defects in a short time, in the defect review for a semiconductor device capable of detecting the defect in a low magnification of SEM (Scanning Electron Microscope) image and capable of observing the defect in a high magnification of SEM image.
低倍率のＳＥＭ像で欠陥を検出し、高倍率のＳＥＭ画像で欠陥を観察する半導体デバイスの欠陥レビューにおいて、欠陥レビューの効率をあげて短時間に多数に欠陥をレビューできるようにする。 - 特許庁 - To provide a grid for a transmission electron microscope capable of heating a sample of powder of the like at several hundred degrees C or higher in the degree of vacuum in the range of 10^-2-10^-3 Pa, and a grid holder capable of preventing pollution or damage of the grid.
粉末などの試料に１０^−２〜１０^−３Ｐａ程度の真空度で数１００℃以上の加熱を行える透過型電子顕微鏡用グリッドと、グリッドの汚染や破損を防止できるグリッドホルダーを提供する。 - 特許庁 - The microscope includes a means for changing an aperture angle of an optical system by varying diameters of a plurality of convergence lenses and diaphragms to change the aperture angle α of an electron beam in accordance with a virtual field corresponding to a single pixel, which is called as a pixel size.
複数の収束レンズ及び絞りの穴径を変化させることにより光学系の開き角を変化させる手段をもち、１画素に相当する視野範囲、いわゆる画素サイズに応じて電子ビーム開き角αを変化させる。 - 特許庁 - In this scanning type charged particle beam microscope using an electron beam etc., when a scanning image is taken-in in a memory device synchronizing with a scanning signal, a delay of the electronic circuit is corrected and taken-in by a shift registor having variable number of steps.
電子線等を使用した走査型荷電粒子ビーム顕微鏡において、走査信号に同期して走査画像を記憶装置に取り込む際に、電子回路の遅延を可変段数のシフトレジスタにより補正して取り込む。 - 特許庁 - To provide an objective lens for an electron microscope system requiring a relatively small space, and for minimizing a magnetic field outside the objective lens, and to provide an improved inspection system used for simultaneously executing image formation and operation of an inspection object.
必要とされる空間がより少なく、対物レンズ外部の磁界が最小限である電子顕微鏡システムのための対物レンズ、被検物体の像形成および操作を同時に行うための改良検査システムを提供する。 - 特許庁 - The objective aqueous dispersion contains polymer particles having a DL/Dn ratio of 1.05-5.0 wherein DL is average particle diameter measured by dynamic light-scattering and Dn is number-average particle diameter determined by a transmission electron microscope.
動的光散乱式測定装置によって測定した平均粒子径Ｄ_Lと、透過型電子顕微鏡によって測定した数平均子粒径Ｄ_nとの比（Ｄ_L／Ｄ_n）が１．０５〜５．０である重合体粒子を含む水系分散体を得る。 - 特許庁 - To provide a sample holder of an electron microscope doing away with pretreatment of a sample for having it electrically conducted, and enabling electricity conduction to the sample and image observation during measurement of electric resistance only by thrusting it down on a sample pedestal.
試料に電気的導通を取るための試料前処理が不要で、試料台に試料を押止するだけで試料への通電及び電気抵抗測定中の像観察を可能とする電子顕微鏡用試料ホルダの提供。 - 特許庁 - The standard sample for the charged particle beam containing different two samples for magnification or dimension calibration, and the charged particle beam device using the standard sample are formed, in a TEM, an STEM (scanning transmission electron microscope), or an SEM for observing a sample by using electrons transmitted through it.
本発明では、上記目的を達成するために、倍率、或いは寸法校正のための異なる２つの試料が含まれている荷電粒子線用標準試料及びそれを用いる荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁
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