「First step」を含む例文一覧(7096)
＜前へ 1 2 .... 59 60 61 62 63 64 65 66 67 .... 141 142 次へ＞- It is preferable that the HIP treatment is performed by a first step (crystal nucleus formation) wherein the pressure is ≥50 MPa and the temperature is 650-850°C and a second step (crystal growth) wherein the pressure is ≥80 MPa and the temperature is 900-1,100°C.
ＨＩＰ処理は５０ＭＰａ以上で６５０〜８５０℃の温度の第１段(結晶核生成)と、８０ＭＰａ以上で９００〜１１００℃の第２段(結晶成長)とで行うことが好ましい。 - 特許庁 - In the third step, a phase is adjusted between the two MZIs by feeding a current to the same heater of at least one of the two MZIs, to which the current has been supplied when the polarization separation amount has been reduced in the first step.
この後、２つのMZIの少なくとも一方の、第１のステップで偏波乖離量を低減させた際に給電したのと同一のヒータに給電して、２つのMZI間での位相を調整する第３のステップ。 - 特許庁 - Grooves are constituted between a first step part 20 of an outer end surface of the joint main body 12 and a base end surface of the collar 23 and between a second step part 36 of an inner end surface of the cap 30 and a head end surface of the collar 23.
継手本体１２の外端面の第１段部２０とカラー２３の基端面との間及びキャップ３０の内端面の第２段部３６とカラー２３の先端面との間に溝が構成される。 - 特許庁 - This method carries out the ammonia synthesis in two steps, in a first step uses a catalyst including ruthenium and barium and uses a catalyst including ruthenium and cesium in a second step.
アンモニア合成を２段階で行う方法であって、第１段階の合成反応においてはルテニウムとバリウムを含む触媒を使用し、第２段階の合成反応においてはルテニウムとセシウムを含む触媒を使用する。 - 特許庁 - Even if a TiW nucleus 31 is generated through reaction of titanium 30 and tungsten during the second step of first time (a), a W nucleus 32 is formed on the TiW nucleus 31 during the second step of second or subsequent time (b).
１回目の第２工程でチタン３０とタングステンの反応によりＴｉＷ核３１が生じた場合（ａ）でも、２回目以降の第２工程で、このＴｉＷ核３１の上にＷ核３２が形成される（ｂ）。 - 特許庁 - When α is smaller than γ, N is set to n+1 (step S550) and a first cutting position Zi for i=0 is derived form Zi=-'+1(W-α) (step S570).
そして、端幅γが予め定める値（例えば重ね代α）よりも小さい場合は、１箇所の重ね代をα−γに補正して、移動回数をｎ回に維持し、ｎ＋１である切り込み回数を増加させないようにする。 - 特許庁 - Since a thick base thin-film 93 is formed on the inner surface of the hole 90 in the first step, the metal material is thoroughly embedded in the hole 90 by reflowing the metal material at a relatively low temperature in the second step.
第一の工程でホール９０の内面に厚いベース薄膜９３が作成されるため、第二の工程で比較的低い温度でリフローさせても充分にホール９０内に金属材料が埋め込まれる。 - 特許庁 - A method of processing a semiconductor wafer segments a wafer, which has at least partially circular peripheral edge, along scribing lines in a lattice shape, and includes a first step and a second step.
この半導体ウェハの加工方法は、少なくとも一部に円形の外周端縁を有するウェハを、格子状の分断予定ラインに沿って分断するための方法であって、第１工程及び第２工程を含んでいる。 - 特許庁 - First, a control means 50 starts cutting operated by a dicing apparatus 100, starts supplying cooled water and washing water from a water supplying means 60 (step 80), and continues the water supplying (step 81).
最初に、制御手段５０は、ダイシング装置１００による切削を開始すると共に、給水手段６０からの冷却水及び洗浄水の給水を開始して（ステップ８０）、給水を継続する（ステップ８１）。 - 特許庁 - The second step is for making a hardened body having the intermediate laminated body integrally therein by setting the intermediate laminated body made in the first step in a vessel and by pouring slurry of self-curing mold material between both of them.
第２工程：第１工程の中間積層体を容器にセットし、双方の間に自硬性鋳型材のスラリーを注入して硬化させ、内部に中間積層体を一体的に有する硬化体を得る工程。 - 特許庁 - In first step, polishing slurry containing polishing agent is supplied, and then the supply of the polishing slurry is stopped; and in second step, polishing solution not including solid substance but having a pH value of not lower than 12 is supplied.
第１のステップにおいては、研磨材を含む研磨スラリーを供給し、次いで研磨スラリーの供給を止め、第２のステップにおいては、固体を含まず１２以上のｐＨ値を有する研磨液を供給する。 - 特許庁 - The surface cleaning method having a first step of injecting photocatalyst steam to the surface of an object for cleaning and a second step of irradiating the surface of this object for cleaning with light including UV rays is provided.
浄化対象物の表面に光触媒水蒸気を噴射する第１のステップと、前記浄化対象物の表面に紫外線を含む光を照射する第２のステップとを有する表面浄化方法とする。 - 特許庁 - The manufacturing method for the semiconductor element with film deposition by depositing by a cold spray device 30 the film on a semiconductor element 10, having an aluminum film 12 overlaid on a silicon layer 11, includes a first step and a second step.
シリコン層１１に重ねてアルミ膜１２を有する半導体素子１０に対しコールドスプレー装置３０によって成膜する成膜付半導体素子の製造方法は、第１工程と、第２工程とを有する。 - 特許庁 - A method of forming the electronic structure comprises a first step of dividing the board into the segments and a second step of electrically connecting a semiconductor element to the segments respectively.
また、それを形成するための方法に関し、基板を複数のセグメントに分割する段階と、半導体素子を前記基板の前記複数のセグメントの各々に電気的に接続する段階を含む方法も提供する。 - 特許庁 - The method includes a step for managing a buffer group so as to distribute data from the plurality of first tier buffers to the second tier transfer buffer, and a step for distributing the data onto the shared data bus in predetermined timing.
該方法は、データが複数の第一ティア・バッファから第二ティア転送バッファに流通するのを可能にするようバッファ群を管理するステップと、該データを共用データ・バス上に所定のタイミングで配信するステップとを含む。 - 特許庁 - In the credit processing system 1, when the first debiting at a step S10 and the second debiting at a step S20 both are not normally performed, nonpayment data D2 are generated and transmitted via the Internet 51.
クレジット処理システム１において、ステップＳ１０の第一の引き落としと、ステップＳ２０の第二の引き落としがともに正常に行われなかった場合、未納データＤ２が作成され、インターネット５１を介して送信される。 - 特許庁 - The polymerization process (1) induced by two-photon absorption has at least a first step of forming a latent image by irradiating light capable of absorbing two photons and a second step of causing polymerization by exciting the latent image.
（１）少なくとも、２光子吸収可能な光を照射して潜像を形成する第１の工程と、その潜像を励起することにより重合を起こす第２の工程を有する２光子吸収重合方法。 - 特許庁 - When the prescribed movement is detected at least in either one of a first movement discrimination step and a second movement discrimination step, the game apparatus executes prescribed processing (processing for making a player character execute jump operation).
さらに、ゲーム装置は、第１動き判別ステップおよび第２動き判別ステップの少なくともいずれかで所定の動きが検知された場合、所定の処理（プレイヤキャラクタにジャンプ動作を行わせる処理）を実行する。 - 特許庁 - Further, from the irradiation position in either facial side of the laser beams in the first step, the irradiation position in the other facial side of the laser beams in the second step is separated by a prescribed distance along the welding direction.
さらに、前記第一の工程におけるレーザビームの一方の面側の照射位置に対して、前記第二の工程におけるレーザビームの他方の面側の照射位置を、溶接方向に沿って所定の距離だけ離す。 - 特許庁 - A methane synthesis reaction using carbon dioxide and hydrogen as starting material presented by equation (1) actually relies on a thermal equilibrium relation of a first reaction step presented by equation (2) and a second reaction step presented by equation (3).
二酸化炭素と水素を原料とするメタン合成反応は（１）式で示されるが、実際には、（２）式で示される第一反応工程、（３）式で示される第二反応工程の熱平衡関係から成り立っている。 - 特許庁 - In the step of forming the element isolation layer 12, a first alignment mark used as an aligning reference of an exposure mask in a subsequent photolithography step is formed on a scribing line on the silicon substrate 11.
なお、素子分離層１２を形成する工程において、引き続くフォトリソグラフィ工程における露光用マスクの位置合わせ基準となる第１アライメントマークを、シリコン基板１１上におけるスクライブラインに形成する。 - 特許庁 - The method comprises a step of receiving a multipoint packet and a step of sending out several packets that are transferred with a multipoint mode to at least one client of the first network, according to a point-to-point transmission mode.
ここでは、マルチポイントパケットを受信するステップと、マルチポイントモードで転送されるいくつかのパケットを、ポイントツーポイント送信モードにしたがって、第１ネットワークの少なくとも１つのクライアントに送出するステップとを有している。 - 特許庁 - Also disclosed is a method for production of a processed cheese comprising a first step wherein a cheese raw material used for producing the process cheese is subjected to hot-melt processing; and a second step wherein a lactic acid bacterium is added to the cheese raw material after heating and melting.
プロセスチーズ類の製造に用いるチーズ原料の加熱溶融を行う第１の工程と、加熱溶融後の前記チーズ原料に乳酸菌を添加する第２の工程とを有するプロセスチーズ類の製造方法。 - 特許庁 - In step S4, the plurality of magnetizing magnetic pole surfaces are made to oppose the first magnetic bodies respectively in a state where the magnetic plate is removed, and a magnetizing field having the same polarity as that in the step S2 is generated from the magnetizing magnetic pole surface.
ステップＳ４にて、磁性板を除去した状態で着磁用磁極面の複数をそれぞれ第１磁性体と対向させ、ステップＳ２と同じ極性の着磁用磁界を当該着磁用磁極面から発生させる。 - 特許庁 - A standby state is maintained until the decision is inputted from a first input key 24 in the step S16, and when the decision is inputted, an indication for making an image before one frame reproduced and displayed to a LCD is outputted in the step S18.
ステップＳ１６で、第１入力キー２４から決定の入力があるまで待機し、決定入力があれば、ステップＳ１８で、１コマ前の画像をＬＣＤへ再生表示させる指示を出力する。 - 特許庁 - Each of components for a two-step timing belt transmission mechanism is constructed with an equal deceleration ratio, and a contact angle of the timing belt with the timing pulley is constructed to be equal to that constructed in a first-step timing belt transmission mechanism.
２段のタイミングベルト伝達機構のそれぞれは、等しい減速比で構成され、タイミングベルトのタイミングプーリへの巻き付け角は、１段のタイミングベルト伝達機構において構成すべきそれと同等に構成する。 - 特許庁 - The pipe part has a step 160 on its circumferential surface, the heat shrinkable tube 120 is attached to a base end side bordered by the step 160, and a first cross-sectional area on the base end side is smaller than a second cross-sectional area on the other side.
筒部は外周面に段差１６０を有し、熱収縮チューブ１２０は段差１６０を境とした基端側に取り付けられ、該基端側の第１断面積が他方の第２断面積よりも小さい。 - 特許庁 - A processing chamber S is formed between the lid 41 and the mounting pad 40 by the first step of the descending motion of the lid 41, and the processing chamber S becomes smaller in volume, when the lower end of the lid 41 is fitted into the groove 42 by the second step of the descending motion of the lid 41.
蓋体４１は１段階目の下降で載置台４０との間に処理室Ｓを形成し，２段階目の下降で蓋体４１の下端部が溝４２に挿入され，処理室Ｓの容積が小さくなる。 - 特許庁 - A difference between a BTM-side wafer film thickness and a TOP-side wafer film thickness generated during film formation of the first flow step can be canceled by film formation of the second flow step, so film thicknesses can be made uniform among the wafers.
第一フローによる成膜により生じたＢＴＭ側ウエハ膜厚とＴＯＰ側ウエハ膜厚との相違を第二フローによる成膜により相殺できるので、ウエハ相互間における膜厚を均一化できる。 - 特許庁 - Grooves are formed between a first step portion 20 on the outer end face of the joint body 12 and the base end face of the collar 23 and between a second step portion 36 on the inner end face of the cap 30 and the front end face of the collar 23.
また、継手本体１２の外端面の第１段部２０とカラー２３の基端面との間及びキャップ３０の内端面の第２段部３６とカラー２３の先端面との間に溝が構成される。 - 特許庁 - In a first crew schedule plan, a crew schedule network is generated based on a train timetable or the like (step S1), and basic costs are set in each arc of the crew schedule network based on a predetermined evaluation reference (step S3).
第１の乗務行路計画では、列車ダイヤ等に基づいて乗務行路ネットワークが生成され（ステップＳ１）、所与の評価基準に基づいて、乗務行路ネットワークの各アークに基礎コストが設定される（ステップＳ３）。 - 特許庁 - In the first step, it is determined whether an uplink optical signal is detected and in the case where the uplink optical signal is not detected, a coated fiber to be measured is identified as a temporary coated fiber to be newly provided (step S6).
第１の段階では、上り光信号が検出されたか否かを判定し、上り光信号が検出されなかった場合に、測定対象の心線を仮の新設対象心線と識別する（ステップＳ６）。 - 特許庁 - The system determines whether the electronic mail is desirable based on the numbers of hits for the first and second retrieval inquiries as a next step (314) and then generates a result showing the electronic mail to be undesired, based on the determination as a next step (318).
システムは次に、第１の数及び第２の数に基づいて電子メールが望ましくないかどうかを判断し（３１４）、その判断に基づいて、該電子メールが望ましくないことを示す結果を生成する（３１８）。 - 特許庁 - First step: In a web production step, after a heat-resistant fiber is opened by an opening machine, a fiber direction is drawn/aligned in a constant direction by a roller card to prepare a web and the webs are folded/piled up so as to become required Metsuke (a weight unit, 4.3560g/m^2).
第１工程：耐熱性繊維を開繊機で開繊後、ローラーカードにて繊維方向を一定方向に引き揃えてウエブを作成し、さらに所要目付になるようにウエブを折り重ねるウエブ製造工程。 - 特許庁 - The footstool 10 is constituted of a stair-like step 11 located in an approximately horizontal plane and first and second supporting bodies 12 and 13 symmetrically arranged so as to support both ends of the step 11.
略水平面内に位置して階段状をなすステップ１１と、このステップ１１の両端を支持するように対称配置された第１及び第２の支持体１２，１３とを備えて踏み台１０が構成されている。 - 特許庁 - Used herewith are a step S110 for aligning the predetermined location to a specific measuring light irradiation position to perform a first surface position measurement, and a step for locating the relative position to the reference mark of the predetermined set position.
前記所定場所を所定の計測光照射位置に位置合わせして第１の面位置計測を行う工程Ｓ１１０と、該所定場所の前記基準マークとの相対位置を求める工程とを有する。 - 特許庁 - Thus a difference H1 between an absolute step on an upper part of the first wiring pattern 53a in a third insulating film 58 and an absolute step of the dummy pattern 53b can be made sufficiently small to a negligible extent after polishing.
これにより、第３の絶縁膜５８における第１の配線パターン５３ａの上側部分の絶対段差とダミーパターン５３ｂの絶対段差との差Ｈ１が、研磨後には無視できる程度に十分に小さくなる。 - 特許庁 - The process for producing a ferroelectric film comprises a first heat treatment step for forming a crystal nucleus in a ferroelectric material film, and a second heat treatment step for crystallizing the ferroelectric material film.
本発明の強誘電体膜の製造方法は、強誘電体材料膜に、結晶核を形成するための第１熱処理と、前記強誘電体材料膜を結晶化させるための第２熱処理と、を含む。 - 特許庁 - The first etching step includes a combination of etching in an atmosphere containing a hydrocarbon-based etchant and ashing in an oxygen-containing atmosphere, in which a protection layer is deposited on the side face of an active layer formed by the etching step.
第１のエッチングでは、炭化水素系エッチャントを含む雰囲気におけるエッチングと酸素を含む雰囲気におけるアッシングとの組み合わせで、該エッチングで形成された活性層側面に保護層を堆積させる。 - 特許庁 - The method of manufacturing a ferroelectric memory device includes a step of forming a conductive base layer above a substrate and a step of stacking a first electrode, a ferroelectric film, and a second electrode above the base layer.
基板の上方に導電性の下地層を形成する工程と、下地層の上方に第１電極と強誘電体膜と第２電極とを積層する工程と、を含む強誘電体メモリ装置の製造方法である。 - 特許庁 - In the picture type-by-picture type quantization steps (the first to third quantization steps) calculated by the picture type-by-picture type quantization step calculation part 206, quantization by the corresponding quantization step is performed according to each picture type.
画像タイプ別量子化ステップ算出部２０６で算出された画像タイプ別量子化ステップ（第１〜第３の量子化ステップ）は、画像タイプ別に応じて対応する量子化ステップによる量子化を行わせる。 - 特許庁 - A plasma etching method according to an embodiment of the invention comprises, upon etching amorphous TiO_2, a first etching step where a radical reaction is dominant; and a second etching step where an ion irradiation is dominant.
本発明の一実施の形態に係るプラズマエッチング方法では、アモルファスＴｉＯ_２をエッチングするに際して、ラジカル反応が支配的な第１のエッチング工程と、イオン照射が支配的な第２のエッチング工程を含む。 - 特許庁 - The method for producing the same includes a first step of forming a thin film of palladium or a compound thereof on the substrate 2, and a second step of heating the palladium-bearing substrate at a temperature in a range of 650-950°C in octanol.
パラジウムまたはその化合物から選ばれる薄膜を基体２上に形成する第１工程と、パラジウム担持基体をオクタノール中で６５０℃以上９５０℃以下の範囲で加熱する第２工程とを含む。 - 特許庁 - When execution of the second step is attempted without executing the first step, the microcomputer 5 stores information for prohibiting rewrite of the firmware in the EEPROM 7 and prevents unauthorized write of the firmware.
第１のステップを実行することなく、第２のステップの実行を行おうとした場合、マイコン５がファームウェアの書き換えを禁止する情報をＥＥＰＲＯＭ７に格納し、ファームウェアの不正書き換えを防止する。 - 特許庁 - The method includes a first step of placing a carbon (C) sheet in a crucible containing a silicon (Si) powder and a second step of heating the crucible in a nitrogen atmosphere to impregnate the sheet with a silicon gas to react and sinter.
ケイ素（Ｓｉ）粉体を含む坩堝内にカーボン（Ｃ）製のシートを配置する第１工程と、坩堝を窒素雰囲気下で加熱し、前記シートにケイ素ガスを含浸して反応焼結させる第２工程とを有する。 - 特許庁 - A method for manufacturing the electrode catalyst layer comprises a step of ejecting a first ink containing an active substance and a conductive agent by the ink jet system, and a step of ejecting a second ink containing a binder by the ink jet system.
活物質および導電剤を含む第一インクを、インクジェット方式で噴出する段階と、バインダーを含む第二インクを、インクジェット方式で噴出する段階とを有する電極触媒層の製造方法である。 - 特許庁 - In the first discrimination step, the quality of the material of the film is judged by utilizing the existence or nonexistence of infrared absorption by the film, and in the second discrimination step, the thickness of the film is judged by using a confocal optical system and a scanning device.
第１の鑑別ステップでは、フィルムによる赤外線吸収の有無を用いてフィルムの材質を判定し、第２の鑑別ステップでは、共焦点光学系とスキャニング装置を利用してフィルムの厚さを判定する。 - 特許庁 - The method may also include a step of accelerating the fan in a second direction opposite to the first direction and a step of rotating the fan at a predetermined speed in the second direction for a second preset period.
本方法はまた、第１の方向と反対側の第２の方向にファンを加速する工程と、第２の所定期間の間に所定のスピードでファンを第２の方向に回転させる工程とを含んでもよい。 - 特許庁 - In the step (c), by forming the intermediate layer opening 15 in such a shape that the second dimension becomes smaller at a lower portion lower than at an upper portion, the third dimension is made smaller than the first dimension in the step (d).
工程（ｃ）において、第２の寸法が上部よりも下部において小さくなる形状に中間層開口１５を形成することにより、工程（ｄ）において、第３の寸法を第１の寸法よりも小さくする。 - 特許庁 - The method of liquefying carbon dioxide gas includes a first liquefying step for liquefying the carbon dioxide gas by utilizing the cold heat of the LNG and a second liquefying step for liquefying the carbon dioxide gas by utilizing the cold heat obtained by a refrigerating machine.
液化天然ガスの冷熱を利用して炭酸ガスを液化する第一の液化工程と、冷凍機により得られる冷熱を利用して炭酸ガスを液化する第二の液化工程とを有する炭酸ガスの液化方法。 - 特許庁
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