「First step」を含む例文一覧(7096)
＜前へ 1 2 .... 60 61 62 63 64 65 66 67 68 .... 141 142 次へ＞- In the centrifugation and second dilution step, the acetic acid fermentation liquid diluted in the first step is centrifuged and added with a dilution solvent to be diluted so that the acetic acid concentration is ≤0.1% by weight/volume.
遠心分離及び二次希釈工程では、一次希釈工程で希釈された酢酸菌発酵液を遠心分離しかつ希釈溶媒を添加し、酢酸濃度が０．１重量／容量％以下となるように希釈する。 - 特許庁 - ECU 45 for check determines whether or not a detection steering angle θ satisfies a first linear advancement determination condition at step S34 and determines whether or not a steering angle θ satisfies a second linear advancement determination condition at step S35.
チェック用ＥＣＵ４５は、ステップＳ３４にて検出操舵角θが第１の直進判定条件を満たすかを判定し、ステップＳ３５にて操舵角θが第２の直進判定条件を満たすかを判定する。 - 特許庁 - During scanning, the gantry is incrementally rotated around a patient receiving opening at an expected step size through scans P1 to P6 at the first 180° and rotated by P7 or P8 at a half of the expected step size.
スキャン中、ガントリは、最初の１８０°の回転Ｐ１、…、Ｐ６を通して予定のステップサイズで患者受開口のまわりを増大しながら回転され、ついで、予定のステップサイズの半分Ｐ７又はＰ８だけ回転される。 - 特許庁 - A base station device makes a default setting of arrangement of the pilot channel first (step S1) and then temporarily varies (increases) the frequency of transmission of a common pilot signal to wireless communication terminals 3a and 3b (step S2).
基地局装置は初めにパイロットチャネルの配置をデフォルト設定し（ステップＳ１）、続いて無線通信端末３ａ、３ｂに対する共通パイロット信号の送信頻度を一時的に変更する（高める）（ステップＳ２）。 - 特許庁 - The metal film forming method comprises a first step of depositing a first metal film 2 formed of a substance forming a catalyst for the electroless plating on a base material 1 by using a vacuum thin film deposition apparatus, and a second step of depositing a second metal film 4 by depositing a metal while applying the electroless plating with the first metal film 2 as the catalyst.
基材１上に、真空系薄膜形成装置を用いて、無電解めっきの触媒となる物質からなる第１の金属膜２を形成する、第１の工程と、第１の金属膜２を触媒として、無電解めっきを適用しながら金属を成膜することによって、第２の金属膜４を形成する、第２の工程とを実施する。 - 特許庁 - A damping force control device 50 retrieves/sets a first control current Itb1 corresponding to first target damping force Dtgt1 from a first control current map in a step S9, and retrieves/sets a second control current Itb2 corresponding to second target damping force Dtgt2 from a second control current map in a step S10.
減衰力制御装置５０は、ステップＳ９で第１制御電流マップから第１目標減衰力Ｄｔｇｔ１に対応する第１制御電流Ｉｔｂ１を検索／設定し、ステップＳ１０で第２制御電流マップから第２目標減衰力Ｄｔｇｔ２に対応する第２制御電流Ｉｔｂ２を検索／設定する。 - 特許庁 - The method of producing the reinforced fiber preform includes a step of preparing a composition 12 including at least a first cylindrical part 21 and a second cylindrical part 22 in a seamless manner using the braider BR, and a step of forming a flange part 31 by deforming the first cylindrical part 21 and projecting the wall of the first cylindrical part 21 to the second cylindrical part 22.
少なくとも第１筒状部２１と第２筒状部２２とを含む組成物１２を、ブレイダー装置ＢＲを用いて継ぎ目無く作製する工程と、第１筒状部２１を変形させ、第１筒状部２１の壁を第２筒状部２２に対して突出させてフランジ部３１を形成する工程と、を備える強化繊維プリフォームの作製方法とする。 - 特許庁 - A method of manufacturing a metal housing 14 includes a step of providing a first passage 10 through the metal housing 14, and a step of providing a second passage 12 through the metal housing 14, wherein the second passage 12 includes a region 20 of intersection which intersects the first passage 10 to define an opening 22 into the first passage 10.
金属ハウジング１４を製造する方法が、金属ハウジング１４を貫通する第１の通路１０を設けるステップと、金属ハウジング１４を貫通する第２の通路１２を設けるステップとを含み、第２の通路１２が交差部の領域２０を備え、その交差部２０が第１の通路１０と交差して第１の通路１０内への開口２２を画定する。 - 特許庁 - The method for manufacturing a semiconductor device comprises a step of forming a first well region by implanting first ions into a semiconductor substrate and then forming a second well region by implanting second ions in a larger mass than that of the first ions, and a step of annealing the products to form the well region.
半導体基板に第１イオンでイオン注入工程を行って第１ウェル領域を形成した後、前記第１イオンよりマスの大きい第２イオンでイオン注入工程を行い、前記形成された第１ウェル領域に第２ウェル領域を形成する段階と、前記結果物にアニール工程を行ってウェル領域を形成する段階とを含む。 - 特許庁 - Thereby, in the stage when the second developing step is finished, a second exposure area not covered with the second photoresist film 3' is formed, as shown in (c), within the first exposure area that is not covered with the first photoresist film 3 but exposed in the stage when the first developing step is finished, because the saturation sensitization region d' is formed in a tapered figure.
その結果、第２現像工程を終えた段階においては、(ｃ)に示すように、第２フォトレジスト膜３´で被われていない第２露出エリアは、飽和感光領域ｄ´が先窄み形状に形成されていた為、第１現像工程を終えた段階において第１フォトレジスト膜３で被われずに露出していた第１の露出エリア内に形成されている。 - 特許庁 - The machining method comprises a first process (Step 1) of forming recesses by irradiating a laser beam on the surface of a workpiece, and a second process (Step 2) of melting the metallic particles, which have stuck to the recesses by spattering from the workpiece during the first process, by irradiating the low power laser beam lower than the laser beam in the first process.
本発明の加工方法は、レーザ光を被加工物の表面に照射して凹部を形成する第１工程（ステップＳ１）と、前記第１工程よりも低出力のレーザ光を前記凹部に照射して、前記第１工程の際に前記被加工物から飛散して付着した金属粒を溶融する第２工程（ステップＳ２）とを有する加工方法である。 - 特許庁 - The manufacturing method of the semiconductor device includes a step of forming a first insulating film 102 by plasma polymerizing cyclic siloxane to a basic film 101; and for forming a second insulating film 103 by plasma polymerizing the cyclic siloxane to the first insulating film 102, continuously after the step of forming the first insulating film 102.
この半導体装置の製造方法は、下地膜１０１に、環状シロキサンをプラズマ重合させて第一の絶縁膜１０２を形成する工程と、第一の絶縁膜１０２を形成する工程の後、連続的に、第一の絶縁膜１０２上に、環状シロキサンをプラズマ重合させて第二の絶縁膜１０３を形成する工程と、を含む。 - 特許庁 - A method includes a step of depositing a layer of a semiconductor material on a substrate 56 by using vapor deposition in a first vapor deposition chamber 24, and a subsequent step of evacuating the first deposition chamber 24 to reduce vapor deposition source gases remaining in the first deposition chamber after the deposition growth and prior to opening the chamber 24.
第一気相堆積チャンバ２４において気相堆積を用いて基板５６上に半導体材料の層を堆積させる工程、次いで、堆積成長後及び前記チャンバ２４を開ける前に、前記第一堆積チャンバ中に残留している気相堆積原料ガスを減少させるために成長チャンバ２４から排気する工程を含む。 - 特許庁 - The ink recording method comprises a step for forming a first pixel by delivering at least one kind of ink in a color ink set onto a basic material, and a step for forming an light interference pixel by delivering a bleaching ink onto the first pixel wherein the resolution of the first pixel does not decrease substantially in the light interference pixel.
カラーインクセットの少なくとも１種類のインクを基体上へ吐出して、第１のピクセルを形成する工程と、漂白インクを前記第１のピクセル上へ吐出して、光干渉ピクセルを形成する工程とを有し、前記光干渉ピクセルにおいて、前記第１のピクセルの解像度が実質的に減少しないことを特徴とするインクジェット記録方法である。 - 特許庁 - This method is provided with a first step 8 for starting the operating system of a monoprocessor in the first processor 2, and a second step 9 for instructing at least the other processor 3 of the system, namely, so-called application processor to execute one or plural instruction sequences 17, 18 and 19 under the control of the first processor.
この方法は、モノプロセッサのオペレーティングシステムを第一プロセッサ２でスタートさせる第一ステップ８と、第一のプロセッサ１が、装置の少なくとも一つの他のプロセッサ３、いわゆるアプリケーションプロセッサに対し、前記第一プロセッサの制御下で一つまたは複数の命令シーケンス１７、１８、１９を実行するように命令する第二ステップ９とを含む。 - 特許庁 - A process for correcting a disconnected part comprises a step carried out under first conditions regarding laser output and machining time and a step carried out under second conditions regarding laser output and machining time, wherein the second laser output condition is lower than the first laser output condition and the second machining time condition is longer than the first machining time condition.
断線部を修正する工程は、レーザ出力及び加工時間についての第１の条件で実行する工程および第２の条件で実行する工程からなり、第２の条件におけるレーザ出力は第１の条件におけるレーザ出力よりも低く、第２の条件における加工時間は第１の条件における加工時間よりも長い。 - 特許庁 - This method for subjecting the pigment to acid pasting treatment includes a first step where a first solution 1 containing water or an alkaline aqueous solution is fed into a flow path 5a and a second step where a second solution 7 containing the pigment and an acid is injected into the first solution 1 flowing through a flow path 5c so that the pigment is subjected to recrystallization.
水またはアルカリ性水溶液を含有する第一の溶液１を流路５ａに送液する第一のステップと、顔料および酸を含む第二の溶液７を流路５ｃを流れる第一の溶液１に注入して顔料を再結晶させる第二のステップと、を含むことを特徴とする顔料のアシッドペースティング処理方法。 - 特許庁 - In the first rail member 103 and the second rail member 133, the bended edge part 106 of the first rail member 103 covers the end part in the width direction of the lowermost step flat plane 136 of the second rail member 133, and the bent edge part 135 of the second rail member 133 covers the end part in the width direction of the uppermost step flat plane 105 of the first rail member 103.
第一レール部材１０３と第二レール部材１３３は、第一レール部材１０３の折返し縁部１０６が、第二レール部材１３３の最下段平面１３６の幅方向端部を覆い、かつ、第二レール部材１３３の折返し縁部１３５が、第一レール部材１０３の最上段平面１０５の幅方向端部を覆う。 - 特許庁 - The method for producing the catalyst for cleaning exhaust gas comprises; a first step of preparing a composite colloidal solution in which the noble metal particle 2 is contacted with a first compound 3; and a second step of forming a second compound 4 on the periphery of the first compound 3 being in contact with the noble metal particle 2 in the composite colloidal solution.
本発明の排気ガス浄化用触媒の製造方法は、第１の化合物３に貴金属粒子２が接触した複合コロイド溶液を調製する第１の工程と、前記複合コロイド溶液中の貴金属粒子２が接触した第１の化合物３の周囲に、第２の化合物４を形成させる第２の工程と、を有する。 - 特許庁 - A method of manufacturing a layer pattern includes a step (a) for, by forming a first layer located on a substrate and a second layer located on the first layer, forming a sectioned area on the substrate by the first and second layers and step (b) for discharging liquid material onto the area from a discharging part of a discharging device.
層パターン製造方法は、基板上に位置する第１の層と前記第１の層上に位置する第２の層とを形成することで、前記第１の層と前記第２の層とによって区画された領域を前記基板上に形成するステップ（ａ）と、吐出装置の吐出部から前記領域に液状の材料を吐出するステップ（ｂ）と、を含む。 - 特許庁 - The method includes: the step of injecting a second metal in liquid form, which is a metal different from a first metal layer, onto a semi-finished cover disposed in a mold and formed of the first metal layer so as to form a second metal layer on the first metal layer; and the step of compressing the second metal layer with a pressure in the mold.
該方法は、第１の金属層とは異なる金属である液状の第２の金属を、金型内に配置され且つ第１の金属層から形成される半完成状態のカバー上に射出して、第２の金属層を第１の金属層の上に形成するステップと、第２の金属層に圧力をかけて金型内で圧縮するステップと、を含む。 - 特許庁 - After a connecting pad 62 is provided within a range A so as to have a uniform thickness in a first wiring layer forming step, a first insulator layer 40 is formed in a first insulator layer forming step while a whole non-opening portion 18 corresponding to a via hole 50 in a screen 14 are brought into contact with the connecting pad within the planar range A.
第１配線層形成工程において、接続パッド６２が範囲Ａ内で一様な厚さ寸法となるように設けられた後、第１絶縁体層形成工程において、スクリーン１４のビアホール５０に対応する非開口部１８の全体がその平坦な範囲Ａ内に接した状態で第１絶縁体層４０が形成される。 - 特許庁 - The manufacturing method for a layer pattern comprises a step (a) forming a first layer located on a substrate and a second layer located on the first layer thereby forming a region partitioned by the first layer and the second layer on the substrate, and a step (b) discharging a liquid material from the discharge part of a discharge device to the above region.
層パターン製造方法は、基板上に位置する第１の層と前記第１の層上に位置する第２の層とを形成することで、前記第１の層と前記第２の層とによって区画された領域を前記基板上に形成するステップ（ａ）と、吐出装置の吐出部から前記領域に液状の材料を吐出するステップ（ｂ）と、を含む。 - 特許庁 - A method of manufacturing a semiconductor element in which a second layer laminated on a surface of a first layer is horizontally etched includes a step of vertical anisotropic etching 10 from the side of the second layer to the side of the first layer and a step of horizontal isotropic etching 11 of the first layer.
第１の層の表面に第２の層を積層したものに、前記第１の層を横方向にエッチングする半導体素子の製造方法において、前記第２の層側から前記第１の層側に向かって縦方向に異方性エッチングを行うステップと前記第１の層を横方向に等方性エッチングを行うステップとを有することを特徴とする。 - 特許庁 - After performing a first polishing step of polishing a strip-like optical block being a laminate constituted of a strip-like optical block for forming the first light-transmissive member 11, a first adhesion layer 131 and a strip-like retardation plate for forming a retardation plate 132, a second polishing step of polishing the strip-like retardation plate is performed.
第１の透光性部材１１を形成するための短冊状光学ブロック、第１の接着層１３１、位相差板１３２を形成するための短冊状位相差板からなる積層体の短冊状光学ブロックを研磨する第１の研磨工程を実施した後、短冊状位相差板を研磨する第２の研磨工程を実施する。 - 特許庁 - The method for recording data to the optical recording medium includes: a step for generating a box type recording pattern comprising a first pulse which has a duration determined according to a length of a recording mark and has a first power level and a second pulse which has a second power level different from that of the first power level; and a step for recording data according to the recording pattern.
記録するマークの長さによって決定される長さを有し、第１パワーレベルを有する第１パルス、及び第１パワーレベルより低いパワーレベルを有する第２パルスで構成されたボックス型記録パターンを生成するステップと、記録パターンによってデータを記録するステップと、を含む光記録媒体にデータを記録する方法である。 - 特許庁 - In another embodiment, the method comprises (i) a step of depositing a surface treatment composition containing the adhesion promotor material on the surface of the first electroactive layer and (ii) a step of depositing the second electroactive layer on the surface of the first layer containing the adhesion promotor, in which the composition permits adhesive bonding between the first layer and the second layer of the electroactive element.
別の実施形態では、（ｉ）第１の電気活性層の表面上に接着促進剤材料を含む表面処理組成物を堆積し、（ｉｉ）接着促進剤を含む第１の層の表面上に第２の電気活性層を堆積する段階とを含み、組成物が電気活性素子の１の層と第２の層との間の接着を可能にする。 - 特許庁 - This manufacturing method further includes a step of collectively forming an oxide film of a first film thickness on an inner surface of the first element isolation groove and an oxide film of a second film thickness thicker than the first film thickness on an inner surface of the second element isolation groove via plasma oxidation.
さらに、前記第１の素子分離溝の内面に第１の膜厚の酸化膜を、前記第２の素子分離溝の内面に前記第１の膜厚よりも厚い第２の膜厚の酸化膜を、プラズマ酸化により一括形成する工程を備えた。 - 特許庁 - A first leak off line fluidly couples a second stage of a turbine section having different pressure from that of a first stage to a step area immediately adjacent to a stepped portion; and a connection line fluidly couples the first leak off line to the second leak off line.
第１のリークオフラインは、第１の段とは異なる圧力を有するタービンセクションの第２の段をステップ部分の直ぐ隣接するステップ区域に流体結合し、接続ラインは、第１のリークオフラインを第２のリークオフラインに流体結合する。 - 特許庁 - Since the drainable pavement constructed on the whole surface of the first upper surface 11 is partitioned by the step section 13 between the first upper surface 11 and the second upper surface 12, water does not flow to the outside of the lid block 3 across the first upper surface 11.
第１の上面１１の全面に施される排水性舗装は、第１の上面１１と第２の上面１２との段差部１３によって仕切られるので、第１の上面１１を超えて蓋ブロック３の外側に流出することがない。 - 特許庁 - The power supply controller for the vehicle includes: a first battery 4 for driving the driving motor 1 for the vehicle, and a first voltage step-down circuit 5 which is connected between auxiliary machines mounted on the vehicle, steps down the voltage of the first battery 4 and outputs the voltage.
車両の駆動用モータ１を駆動する第１バッテリ４、及び車両に搭載された補機類の間に接続され、第１バッテリ４側の電圧を降圧して出力する第１降圧回路５を備える車両用電源制御装置。 - 特許庁 - A subassembly is formed by incorporating a hydraulic control valve, an output shaft 4, a first bearing 21 or the like into the second housing 13, and then the output shaft 4 of the subassembly is inserted in the first housing 12 along with the first bearing 21 (drop-in step).
第２のハウジング１３に油圧制御弁、出力軸４、第１軸受２１等を組み込んでサブアセンブリとした後に、そのサブアセンブリにおける出力軸４を第１の軸受２１とともに第１のハウジング１２に挿入する（ドロップイン工程）。 - 特許庁 - In the step of sticking the first substrate and the second substrate, the first substrate and the second substrate are stuck so that the prescribed interval (D1) may be formed between an outer edge at which the first substrate and the second substrate are superimposed each other and the seal material.
第１基板と第２基板とを貼り合わせる工程は、第１基板と第２基板とが互いに重なる領域の外縁とシール材との間に所定の間隔（Ｄ１）が形成されるように、第１基板と第２基板とを貼り合わせる。 - 特許庁 - Since the insulating film 6 on the first wire 4 is removed before formation of the via hole and trench, a step is not required for removing the insulating film 6 on the first wire 4, in order to electrically connect a second wire 26 to the first wire 4.
ビアホール及びトレンチ形成前に第１配線４上の絶縁膜６が除去されているため、第２配線２６を第１配線４と電気的に接続するための第１配線４上の絶縁膜６を除去する工程が必要ない。 - 特許庁 - A step part is formed on at least one of the first opposite surface and the second opposite surface, and an initial gap G1 between the first reflecting film and the second reflecting film is set smaller than an initial gap G2 between the first electrode and the second electrode.
第１対向面及び第２対向面の少なくとも一方に段差部が形成され、第１反射膜と第２反射膜との間の初期ギャップＧ１を、第１電極と第２電極との間の初期ギャップＧ２よりも小さくした。 - 特許庁 - For example, the first primary DC-DC power converter 16a can step up a voltage received from a first primary power supply V1 through an upper voltage rail 20a and a lower voltage rail 20b of a first low side DC power bus.
例えば、第１の一次ＤＣ／ＤＣ電力コンバータ１６ａは第１のローサイドＤＣ電力バスの上位電圧レール２０ａおよび下位電圧レール２０ｂを介して第１の一次電源Ｖ1から受け取った電圧をステップアップすることができる。 - 特許庁 - This method further includes a step of, in response to the movement of a vehicle from a first area to a second area, switching the operation mode of the vehicle from a first operation mode in a first area to a second operation mode in a second area.
本方法は更に、ビークルが第１の区域から第２の区域へ移動することに応答してビークルの運転モードを第１の区域内での第１の運転モードから第２の区域内での第２の運転モードへ切り換える段階を含む。 - 特許庁 - During call on an outside line between a first terminal 31 and a second terminal 32, in response to a hold operation P1 of the first terminal 31, a hold request is sent from the first terminal 31 to a hold management unit 91 (step S21), thereby entering a hold state.
第１端末３１と第２端末３２とが外線通話中に、第１端末３１の保留操作Ｐ１に応じて、第１端末３１から保留管理部９１へ保留要求を送出することにより（手順Ｓ２１）、保留状態となる。 - 特許庁 - In the passage data creation step, the information about the movement state includes a value showing either of two kinds of first movements advancing from a first side to a second side with the marker sandwiched, and second movement advancing from the second side to the first side.
ここで通過データ生成ステップにおいて、該移動状態の情報は、指標を挟んで第一の側から第二の側に向かう第一の移動と、該第二の側から該第一の側に向かう第二の移動との二種類のいずれかを示す値を含んでいる。 - 特許庁 - .Graphic image provider sites where an advertisement leads the consumer to believe that he is entering a one-month contract, e.g. "First step is the first month", even though the consumer is entering an ongoing contract which includes the charging of a monthly fee in the month after the first free one.
画像提供サイトにおいて、実際には毎月料金を徴収することになるにもかかわらず、「まずは１か月から」と、毎月料金を徴収することを明示せずに、あたかも１か月限りの取引であるかのように表示すること。 - 経済産業省 - In a first step at the second analytical stage, a result obtained at the first analytical stage is set as an initial value of a new model, and an extended BLMC operation is performed in the second and third steps.
解析第２段階第１ステップでは、解析第１段階で得られた結果を、新しいモデルの初期値として設定し、第２ステップ、第３ステップでＥｘｔｅｎｄｅｄ ＢＬＭＣを行う。 - 特許庁 - A method for packaging the chip includes a step of sticking a first adhering member 103 to a substrate 100 formed with a circuit 102, and then separating the substrate 100 to which the first adhesive member 103 is stuck to a plurality of chips 100".
回路１０２が形成された基板１００に第１接着部材１０３を貼り付けた後に、第１接着部材１０３が貼り付けられた基板１００を複数のチップ１００’’に分離する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the circuit board comprises the electric connecting step of electrically connecting the first and second terminals 14, 24 by engaging a plurality of protrusions 42 of a tool 40 with the plurality of slits 16, and heating the first and second boards 10, 20.
第１及び第２の端子１４，２４の電気的接続工程は、ツール４０の複数の凸部４２を複数のスリット１６にはめ込み、第１及び第２の基板１０，２０を加熱することを含む。 - 特許庁 - A switching control section 12 turns the first transistor M1 and the second transistor M2 off during ste-up stop period, and turns the first transistor M1 off, while turning the second transistor M2 on, during the step-up operation period.
スイッチ制御部１２は、昇圧停止期間に、第１トランジスタＭ１および第２トランジスタＭ２をオフし、昇圧動作期間において第１トランジスタＭ１をオフし、第２トランジスタＭ２をオンする。 - 特許庁 - In the determination step, determination means determines that a sample being a target to be inspected contains the bromine-based flame retardant not being prohibited by the RoHS if the first peak intensity ratio is within the first range.
判定工程では、判定手段が、前記第１ピーク強度比が前記第１の範囲内である場合に、被検査体であるサンプルは規制対象ではない臭素系難燃剤を含んでいると判定する。 - 特許庁 - A first step reads data of a first image and data of a second image which are generated by imaging a common object under natural light and have each different contents of specular reflection components.
第１ステップでは、各々が自然光の下で共通の被写体を撮像したものであって、鏡面反射成分の含有率がそれぞれ異なる第１画像のデータおよび第２画像のデータを読み込む。 - 特許庁 - The switching means switches the frequency of an AC voltage applied to the humidity sensor to a first frequency (100 kHz) and a second one (100 Hz) different from the first one (step S70).
切替手段は、湿度センサに印加する交流電圧の周波数を、第１周波数（１００ｋＨｚ）と、該第１周波数と異なる第２周波数（１００Ｈｚ）とに切替える（ステップＳ７０）。 - 特許庁 - The connector 10 includes a connector body 11 having first and second connecting holes and an accommodation part 16 formed at a step between the first connecting hole and the second connecting hole, and a retainer 30.
コネクタ１０は、第１および第２接続孔と、第１接続孔と第２接続孔との間の段部に形成された収納部１６とを有するコネクタ本体１１と、リテーナ３０とを備えている。 - 特許庁 - A single body of the first diffusion steps 24 is structured of first step faces 25 as incident faces for the irradiation light α1 to be incident into, and an irradiation face 26 for the irradiation light α1 to irradiate from.
第１拡散ステップ２４の単体は、出射光α１が入射する入射面である第１ステップ面２５と、出射光α１が出射する出射面２６とから構成されている。 - 特許庁 - When a first operation done by a user is detected by a touch screen, it is determined to which one of input patterns including straight lines 1-12 and a point 1 the first operation corresponds to (step S7).
ユーザによる第１の動作がタッチパネルにより検出されたならば、当該第１の動作が入力パターン直線１〜直線１２及び点１のいずれであるかを判定する（ステップＳ７）。 - 特許庁
