「IMPurity」を含む例文一覧(7275)
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 145 146 次へ＞- the degree of impurity
物が純粋でない程度 - EDR日英対訳辞書 - the condition of getting impurity by going out and encountering evil spirit
行ってけがれに触れること - EDR日英対訳辞書 - effects that is caused to plasma by impurity
不純物がプラズマに与える影響 - Weblio Email例文集 - in ancient Japanese culture, of a woman's post-partum impurity, the condition of ending
産後のけがれの期間が終わること - EDR日英対訳辞書 - the state of something containing an impurity
あるものの中に余分なものが入りこんでいること - EDR日英対訳辞書 - in minerals, color due to impurity rather than to the intrinsic color of the mineral itself
鉱物そのものでなく,それに含まれる不純物などによって生ずる色 - EDR日英対訳辞書 - of a pregnant woman, the condition of using a separate cooking fire so as not to transmit her impurity to others through shared food
出産などの穢れにある女が,穢れを移さぬよう炊事の火を別にすること - EDR日英対訳辞書 - IMPURITY ANALYZING METHOD AND IMPURITY ANALYZER
不純物分析方法及び装置 - 特許庁 - IMPURITY REDUCING METHOD
不純物低減方法 - 特許庁 - MAGNETIC IMPURITY FILTER
磁性不純物濾過装置 - 特許庁 - IMPURITY TREATING EQUIPMENT
夾雑物処理装置 - 特許庁 - IMPURITY COLLECTING DEVICE
夾雑物回収装置 - 特許庁 - REMOVING DEVICE FOR IMPURITY
不純物の除去装置 - 特許庁 - IMPURITY REMOVAL DEVICE
夾雑物除去装置 - 特許庁 - IMPURITY DIFFUSION APPARATUS
不純物拡散装置 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING IMPURITY WELL
不純物井戸形成法 - 特許庁 - IMPURITY CONCENTRATION APPARATUS
不純物濃縮装置 - 特許庁 - IMPURITY REMOVAL APPARATUS
不純物除去装置 - 特許庁 - IMPURITY REMOVING DEVICE
不純物の除去装置 - 特許庁 - IMPURITY REMOVING APPARATUS
夾雑物除去装置 - 特許庁 - IMPURITY DIFFUSION DEVICE
不純物拡散装置 - 特許庁 - IMPURITY CAPTURING DEVICE
夾雑物捕捉装置 - 特許庁 - IMPURITY REMOVING APPARATUS
不純物除去装置 - 特許庁 - IMPURITY REMOVING DEVICE
夾雑物除去装置 - 特許庁 - DIFFUSING METHOD FOR IMPURITY
不純物の拡散方法 - 特許庁 - IMPURITY DISCHARGING DEVICE
夾雑物排出装置 - 特許庁 - IMPURITY COLLECTING JIG
不純物採取用治具 - 特許庁 - GAS IMPURITY REMOVAL APPARATUS
ガス不純物除去装置 - 特許庁 - ANALYTICAL METHOD FOR IMPURITY
不純物の分析方法 - 特許庁 - IMPURITY SEPARATION APPARATUS
不純物分離装置 - 特許庁 - IMPURITY COATING DIFFUSION AGENT
不純物塗布拡散剤 - 特許庁 - IMPURITY RECOVERY DEVICE
不純物回収装置 - 特許庁 - REMOVAL APPARATUS OF IMPURITY
不純物除去装置 - 特許庁 - IMPURITY ANALYZER AND IMPURITY ANALYSIS METHOD
不純物分析装置および不純物分析方法 - 特許庁 - IMPURITY TREATMENT DEVICE AND IMPURITY TREATMENT METHOD
夾雑物処理装置及び夾雑物処理方法 - 特許庁 - SUBSTRATE FOR IMPURITY ANALYSIS, AND THE IMPURITY ANALYSIS
不純物分析用基板および不純物分析方法 - 特許庁 - IMPURITY REMOVAL APPARATUS AND IMPURITY REMOVAL METHOD
不純物除去装置および不純物除去方法 - 特許庁 - IMPURITY REMOVING METHOD AND IMPURITY REMOVAL APPARATUS
不純物除去方法及び不純物除去装置 - 特許庁 - The impurity concentration of the impurity diffusion area 41 is higher than the impurity concentration of the drain area 35.
不純物拡散領域４１の不純物濃度は、ドレイン領域３５の不純物濃度よりも高い。 - 特許庁 - Then a second impurity is introduced into the semiconductor substrate from the back side, the second impurity being shallower than the first impurity.
次に、裏面側から第１不純物よりも浅く第２不純物を半導体基板内に導入する。 - 特許庁 - The photodiode 31 comprises a second impurity type upper-part diode impurity layer 51 and a first impurity type lower-part diode impurity layer 41.
フォトダイオード３１は、第２不純物型の上部ダイオード不純物層５１および第１不純物型の下部ダイオード不純物層４１を含む。 - 特許庁 - The impurity concentration of the N-type impurity layer 30 is higher than the impurity concentration of the collector layer 3 under the N-type impurity layer 30.
Ｎ型不純物層３０の不純物濃度は、Ｎ型不純物層３０の下方におけるコレクタ層３の不純物濃度よりも高い。 - 特許庁 - The concentration gradient of the impurity in the second impurity diffusion layer 206-12 equals the concentration gradient of the impurity in the first impurity diffusion layer 206-10.
第２不純物拡散層206-12内の不純物の濃度勾配は、第１不純物拡散層206-10内の不純物の濃度勾配と等しい。 - 特許庁 - ACTIVATION METHOD OF SEMICONDUCTOR IMPURITY
半導体不純物の活性化方法 - 特許庁 - TRANSFER TOOL OF IMPURITY IN TUBE
管内夾雑物の移送具 - 特許庁 - SAMPLING VESSEL FOR METAL IMPURITY
金属不純物のサンプリング容器 - 特許庁 - ANALYTICAL METHOD FOR METAL IMPURITY
金属不純物の分析方法 - 特許庁 - IMPURITY DOPED DIAMOND
不純物ドープダイヤモンド - 特許庁 - FUEL IMPURITY REMOVING DEVICE
燃料不純物除去装置 - 特許庁 - CALCULATION METHOD OF IMPURITY CONCENTRATION PROFILE
不純物濃度分布の計算方法 - 特許庁
- 特許庁
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