「In Process」を含む例文一覧(50000)

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  • With a thermal CVD (chemical vapor deposition) method for forming a transparent conductive film on a base body, a transparent conductive tin oxide (SnO_2) film (P) can be obtained in a process (S1) of evaporating a solid raw material (R) by direct heating and a process (S2) of depositing raw material gas on the heated base body.
    基体上に透明導電膜を形成する熱CVD(化学気相成長)法であって、固体原料(R)を直接加熱により気化させる工程(S1)と発生した原料ガスを加熱基体に堆積させる工程(S2)により透明導電性酸化スズ(SnO_2)膜(P)を得ることができる。 - 特許庁
  • The method for producing a silicon wafer includes: a process of forming an epitaxial layer (2) on a silicon wafer (1) to which carbon is added; and a process of accelerating the formation of carbon and oxygen-containing precipitates formed in the silicon wafer (1) by heat treating the silicon wafer (1) formed thereon with the epitaxial layer (2) at 650 to 1,000°C.
    本発明のシリコンウェーハの製造方法は、炭素を添加したシリコンウェーハ(1)上にエピタキシャル層(2)を形成する工程と、該エピタキシャル層(2)を形成したシリコンウェーハ(1)に対して650℃〜1000℃の熱処理を施して、シリコンウェーハ(1)中に生成する、炭素及び酸素を含む析出物を促進する工程を含む。 - 特許庁
  • By this arrangement, even when the disposable ampoule has not been opened during the unsealing process of the same, and sealing during the unsealing process is ensured in the aerosol generating apparatus (e.g. on a needle), the internal surface of the collar 15 can be engaged with a sealing element (e.g. an O ring surrounding the needle, or a seal edge).
    この配置は、エアロゾル生成装置における(例えば針上での)使い捨てアンプルの開封プロセス中に、使い捨てアンプルがまだ開けられておらず開封プロセス中のシールが確保されている場合でも、カラー15の内表面がシール要素(例えば針を取り囲むOリング又はシールエッジ)と係合可能である。 - 特許庁
  • On the bonding stage 13, a supply-side buffer region 101 where the workpiece 2 supplied from an entrance feeder 11 is made to stand by, a process region 102 where the workpiece 2 being bonded is arranged, and an ejection-side buffer region 103 wherein the workpiece 2 having being bonded in the process region 102 is made to stand by are set.
    ボンドステージ13に、入口フィーダ11から供給されたワーク2を待機させる供給側バッファ領域101と、ボンディング中のワーク2が配置されるプロセス領域102と、プロセス領域102でボンディングが完了したワーク2を待機させる排出側バッファ領域103を設定する。 - 特許庁
  • The server device 102 generates a pseudorandom number 124 that is the same as the pseudorandom number employed in the terminal device 101 based on second time information 130 received as a copy of the first time information 122, and through a decryption process, reversal to the formerly employed process, decrypts the encrypted object 113 to be certified to obtain the object 111 to be certified.
    サーバ装置102は、第一の時刻情報122の引き写しとして受領した第二の時刻情報130を基に、端末装置101で使用したのと同じ疑似乱数124を生成し、上記と逆の復号過程により暗号化済被証明物113を復号して被証明物111を得る。 - 特許庁
  • The process of producing steel member by which the steel material is subjected to combined heat treatment comprising a combination of nitriding and high-frequency hardening is characterized in that a chemical conversion treatment process for forming a chemical conversion coating film on a nitrogen compound layer formed on steel by the nitriding is further included before the high-frequency hardening after the nitriding.
    鉄鋼材料に対して窒化処理と高周波焼入れ処理との組み合わせ複合熱処理を施す方法において、窒化処理後高周波焼入れ処理前に、窒化処理により鉄鋼に形成された窒素化合物層上に化成皮膜を形成させる化成処理工程を更に含むことを特徴とする方法。 - 特許庁
  • The method of producing refined high purity lactide includes a process of bringing (a) a lactide mixture comprising L-lactide and/or D-lactide and meso-lactide and (b) a mixed solvent comprising an aromatic solvent and a carboxylate ester solvent insoluble in water to contact with each other, and a process of recovering a solid component by way of solid/liquid separation.
    以下の(a)、(b)(a) L—ラクチド及び/又はD−ラクチドと、メソ−ラクチドとを含むラクチド混合物(b) 芳香族化合物溶媒と、非水溶性のカルボン酸エステル溶媒とを含む混合溶媒を接触させる工程と、固液分離して固体分を回収する工程とを含む、精製された高純度のラクチドの製造方法。 - 特許庁
  • A substrate drying method executed by the control program of the control device 50 includes a process for drying a central area as a range where the center of rotation Wc of the substrate W exists in a range where a dried air flow Gf collides with the substrate W, and a process for drying the outside of the central area.
    制御装置50の制御プログラムで実行される基板乾燥方法は、乾燥気体流Gfが基板Wに衝突する範囲に基板Wの回転中心Wcが存在する範囲である中心エリアを乾燥させる工程と、中心エリアの外側を乾燥させる工程とを備える。 - 特許庁
  • To provide a mold release film having high temperature resistance together with flexibility capable of enhancing yield of the film in sealing processes of semiconductors such as IC chips and LEDs, or mounting processes such as a heat press process during production of multilayered print wiring board laminates and a cover lay attaching process during production of flexible print wiring boards.
    ICチップやLED等の半導体封止工程、あるいは、多層プリント配線板積層製造時の熱プレス工程やフレキシブルプリント配線板製造時のカバーレイ貼付工程等の実装工程の歩留まりを向上させることが可能な高温耐熱性と柔軟性を兼ね備えた離型フィルムを提供する。 - 特許庁
  • The game device includes a game processing means which acquires first operation data and second operation data and carries out a prescribed game process to a virtual game world in response to both operation data and a display processing means which causes a display area of a display device to display the virtual game world as an image after carrying out the game process.
    ゲーム装置は、第1操作データおよび第2操作データを取得し、それら両操作データに応じて仮想ゲーム世界に対して所定のゲーム処理を行うゲーム処理手段と、ゲーム処理を行った後の仮想ゲーム世界を画像として表示装置の表示領域に表示させる表示処理手段とを含む。 - 特許庁
  • The deodorizing method includes a process of bringing a smelling gas (G) produced by an odor source (S) into gas/liquid contact with a biodegradable deodorant and a process of biodegrading the deodorant by adding at least a part of the deodorant having been in contact with the smelling gas (G) to the odor source (S).
    臭気発生源(S)から発生する臭気ガス(G)を、生物分解可能な脱臭剤に気液接触させる工程と、前記臭気ガス(G)と接触した前記脱臭剤の少なくとも一部を、前記臭気発生源(S)に添加することで、前記脱臭剤を生物分解させる工程と、を含む脱臭方法。 - 特許庁
  • The cooling method for the heating furnace includes: an air cooling process performed in such a state that refractory and atmospheric temperature within the furnace exceeds 800°C; and a water cooling process performed by supplying cooling water to the furnace interior when the refractory and atmospheric temperature within the furnace becomes 800°C or lower.
    本発明に係る加熱炉の冷却方法は、炉内の耐火物及び雰囲気温度が800℃超の状態で行う空冷工程と、炉内の耐火物及び雰囲気温度が800℃以下になったときに冷却水を炉内に供給して行う水冷工程を備えてなることを特徴とするもおのである。 - 特許庁
  • The manufacturing method of an insulating film for forming an insulating film 50 on a substrate 40 includes a coating process for coating a dispersing solvent 30 containing nano-particles 10, and an oxidation process for exposing the nano-particles contained in the dispersing solvent coated on the substrate to an oxygen atmosphere.
    基板40上に絶縁膜50を形成する絶縁膜の形成方法であって、 前記基板上に、ナノ粒子10を含む分散溶液30を塗布する塗布工程と、 前記基板上に塗布された前記分散溶液に含まれる前記ナノ粒子を酸素雰囲気下に暴露する酸化工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the package includes: a residue removal process S32G of scraping away the dry glass frit residues 6b remaining on the top surface U of a wafer 40 for base substrates; and a burning process S32H of burning and hardening glass frit 6a filled in a through hole after removing the glass frit residues 6a.
    ベース基板用ウエハ40の上面U上に乾燥して残渣しているガラスフリット残渣6bを削り取る残渣除去工程S32Gと、ガラスフリット残渣6bを除去した後、貫通孔内に充填されたガラスフリット6aを焼成して硬化させる焼成工程S32Hと、を有する、ことを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide an optical compensation film in which phase differences with respect to wavelengths of light can be easily controlled at low cost without the need of a complicated process such as a process for laminating two retardation films while aligning optical axes; and to provide a polarizing plate with an optical compensation film produced by using the optical compensation film.
    光軸を合わせて2枚の位相差フィルムを貼り合わせるような煩雑な工程を必要とせず、かつ、安価に、光の各波長に対する位相差の制御が容易な光学補償フィルムを提供し、さらには、その光学補償フィルムを用いて製造した光学補償層付き偏光板を提供することである。 - 特許庁
  • The developer supply cartridge includes a supply side moving portion, an engaging member and the like configured to close the receiving shutter of the process cartridge after closing the supply shutter of the developer supply cartridge when the developer supply cartridge is dismounted from within the apparatus body while the process cartridge and the supply cartridge are mounted in the apparatus body.
    プロセスカートリッジと補給カートリッジが装置本体に装着された状態で現像剤補給カートリッジが装置本体内から取り出される際に、現像剤補給カートリッジの補給側シャッタを閉鎖した後、プロセスカートリッジの受入側シャッタを閉鎖するように構成した補給側移動部、係合部材等を有する。 - 特許庁
  • Output of a reset signal 22 is held for 9 ms while one shot of low pulse is output from a monostable multivibrator MM1 on a front stage after a power failure signal 21 is output, so a power failure process (game finish process in the power failure) can be carried out during the 9 ms when the power failure occurs.
    停電信号21が出力された後、前段の単安定マルチバイブレータMM1からワンショットのロウパルスが出力される9msの間は、リセット信号22の出力が待機されるので、停電の発生時にその9msの間、停電処理(停電時における遊技の終了処理)を実行することができる。 - 特許庁
  • To provide an etching protective material, along with a manufacturing method of a device substrate that uses the material, which provides by a method of simple and low cost, all of high resistance with respect to an etchant (alkaline and acid), heat resistance during processing, proper adhesion to a wafer applied with etching process, and ease in removing, after etching process.
    簡便かつ安価な方法により、エッチング液(アルカリおよび酸)に対する良好な耐性、加工時の耐熱性、エッチング処理を施すウェハへの良好な密着性およびエッチング処理後の易除去性のすべてを兼ね備えるエッチング保護材およびその保護材を用いたデバイス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The method for producing a planographic printing plate includes in this order; an exposure process for performing image exposure of a planographic printing original plate including a positive type image recording layer, on a support; and a developing process for developing the planographic printing original plate subjected to image exposure, by using alkali aqueous solution having pH of 8.5-10.8 containing a nonionic surfactant.
    支持体上に、ポジ型画像記録層を備える平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、画像露光した平版印刷版原版を、ノニオン系界面活性剤を含有するpH8.5〜10.8のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程を、この順で含む平版印刷版の作製方法。 - 特許庁
  • To provide a piezoelectric vibration reed and a manufacturing method of the piezoelectric vibration reed, as well as a piezoelectric vibrator equipped with the piezoelectric vibration reed, an oscillator, an electronic apparatus and a radio wave clock, which can manufacture the piezoelectric vibration reed without a surface defect, suppressing the influence of the surface defect in a previous process to extend over a subsequent process.
    前工程における表面欠陥の影響が後工程に及ぶのを抑制し、表面欠陥のない圧電振動片を製造することができる圧電振動片の製造方法及び圧電振動片、並びに圧電振動片を備えた圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計を提供する。 - 特許庁
  • A management system searches for a logical volume that conforms to a migration policy, which is a condition under which the reallocation process is considered ineffective, from a reallocation group, which is a group of one or more logical volumes subjected to a target of a reallocation process, and causes the storage system to transfer data in the logical volume that is discovered to outside of the reallocation group.
    管理システムが、再配置処理の効果が無いとみなされる条件であるマイグレーションポリシに適合する論理ボリュームを、再配置処理の対象となる一以上の論理ボリュームのグループである再配置グループから探し、見つけた論理ボリューム内のデータを再配置グループ外に出すことストレージシステムに実行させる。 - 特許庁
  • The ejection information is compared with the characteristic information by the recording element (S18), a content for a correction process to the ejection control of a target recording element is changed in accordance with the comparison result (S20, S22), and then correction with respect to the ejection control of the target recording element is performed based on the content of the changed correction process.
    そして、記録素子毎に吐出情報と特性情報とが比較され(S18)、その比較結果に応じて、対象記録素子の吐出制御に対する補正処理の内容が切り換えられ(S20、S22)、切り換えられた補正処理の内容に基づいて対象記録素子の吐出制御に対する補正が行われる。 - 特許庁
  • The method of preventing the corrosion of metal in an aqueous system includes a process step of premixing ≥1 aromatic aerosols and ≥1 brominating agent, where the total presence rate of the bromine expressed as chlorine ranges from 0.1 to 20 ppm and a process step of adding the aromatic aerosols treated with the bromine to the aqueous system.
    1以上の芳香族アゾール類と1以上の臭素化剤を予備混合する工程、ここで塩素として表される臭素の総存在量が0.1から20ppmの範囲である;および臭素で処理された芳香族アゾール類を水性系に加える工程を含む、水性系における金属腐食を防止する方法。 - 特許庁
  • To provide an ultrasonograph which accelerates a contour extraction process without using an ACT for automatically extracting the contour of a tissue such as cardiac muscle and which enables a user to extract the contour of the tissue by a correct operation without reading an explanatory text about a necessary procedure in the contour extraction process.
    心筋などの組織の輪郭を自動で抽出するACTを用いないで輪郭抽出処理の高速化を図ると共に、ユーザが輪郭抽出処理で必要な手順に関わる説明文を読むことなく正しい操作で組織の輪郭を抽出できる超音波診断装置を提供すること。 - 特許庁
  • This method for designing the tire noise pitch sequence includes a process of determining first a characteristic of the tire noise generated by a lug rigidity change in the tire tread, and a process of determining then the tire noise pitch sequence for providing a determined characteristic so as to provide a desirable modulation characteristic and an excellent level characteristic.
    タイヤノイズピッチ列を設計する方法であって、タイヤトレッドのラグ剛性変化によって生じるタイヤ騒音の特性をまず定める工程、及び次いで、好ましい変調特性及び良好なレベル特性が提供されるように定められる特性が得られるタイヤノイズピッチ列を定める工程を含む。 - 特許庁
  • The method for treating microorganisms, comprising performing one objective treatment of microorganism-counting treatments, microorganism proliferation treatments and microorganism purification treatments, includes performing a preliminary treatment process for charging a prescribed amount of a sample microorganism liquid in a closed container 22 and then subjecting the closed container to a high speed amplitude movement before the objective treatment process.
    微生物数のカウント処理、微生物の増殖処理、微生物の純菌化処理の何れか1の目的処理を行う微生物の処理方法において、目的処理工程を行う前に、微生物の試料液の所定量を密閉容器22に充填し、該密閉容器を高速振幅運動させる前処理工程を行う。 - 特許庁
  • To provide a silicon carbide single crystal substrate where the volume resistivity is low and a stacking defect hardly occurs even if the silicon carbide single crystal substrate is exposed to 1000°C or more in a wafer process such as an epitaxial growing process; to provide a silicon carbide epitaxial wafer obtained using this substrate; and to provide a thin film epitaxial wafer.
    体積抵抗率が低く、しかも、エピタキシャル成長工程等のウエハプロセスにおいて炭化珪素単結晶基板が1000℃以上に晒されても、積層欠陥が殆ど発生することがない炭化珪素単結晶基板、および、この基板を用いて得た炭化珪素エピタキシャルウェハ、及び薄膜エピタキシャルウェハを提供する。 - 特許庁
  • A texture winding process for winding a texture 25 on a molding surface S side of a mandrel 7 and a roving winding process for spirally winding a roving 35 on the molding surface S side of the mandrel 7 in the state of maintaining a tilt angle β of -10 to +10 degrees with respect to a peripheral direction of the mandrel 7 are alternately repeated for a plurality of times.
    織物25をマンドレル7の成形面S側に巻付ける織物巻付工程と、ロービング35をマンドレル7の周方向に対して−10〜+10度の傾斜角βを保った状態でマンドレル7の成形面S側に螺旋状に巻付けるロービング巻付工程を交互に複数回繰り返すこと。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the electrode for the battery includes: a process for preparing a conductive substrate and electrode material particles having ion conduction anisotropy; and a process for forming the electrode by attaching the electrode material particles to the conductive substrate and applying a magnetic field in a predetermined direction.
    導電性基板、及び、イオン伝導異方性を有する電極材料微粒子を準備する工程、前記導電性基板上に前記電極材料微粒子を付着させ、所定の方向に磁場をかけながら電極を形成する工程を有することを特徴とする、電池用電極の製造方法。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a semiconductor substrate, made of silicon single crystals, which includes a wafer sorting process that allows optimal semiconductor substrates to be supplied to a tip device by execution of cleanliness evaluation by the SPV method in a manufacturing process even if being recent semiconductor substrates having high cleanliness.
    近年の清浄度の高い半導体基板であっても、清浄度評価を製造過程においてSPV法によって行うことによって、先端デバイスに最適な半導体基板を供給することができるようなウェーハ選別工程が組み込まれたシリコン単結晶からなる半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • This printing method includes a process of printing a coloring drop 32 onto at least one pixel of a printing substrate and a process of printing a wetting material 31 for merging the coloring drop 32 into the substrate to at least one of below, above and in the periphery of the coloring drop 32 of the pixels.
    印刷方法は、プリント基板の少なくとも一つのピクセル上に着色滴32を印刷する工程と、前記ピクセル中の着色滴32の下、上および周囲の少なくとも一つに、着色滴32を前記基板に溶け込ませる湿潤性材料31を印刷する工程とを含む。 - 特許庁
  • This document file management device managing a document file related to a process has a document file management means 25 managing correction data on correction added in a step constituting the process, correction attribute information about the correction data, and the document file by making them associated to each other.
    プロセスに係る文書ファイルを管理する文書ファイル管理装置であって、プロセスを構成するステップにおいて付加された加筆に係る加筆データと、加筆データに係る加筆属性情報と、文書ファイルとを関連付けて管理する文書ファイル管理手段25を有することによって上記課題を解決する。 - 特許庁
  • The process for dyeing polylactic fiber comprises the step of dyeing the polylactic fiber with a disperse dye and the step of reductively cleaning the dyed polylactic fiber wherein the dyed polylactic fiber is treated with heat at 110-140°C for 10-120 seconds in advance of the reductive washing process.
    ポリ乳酸繊維を分散染料にて染色する工程と、染色されたポリ乳酸繊維を還元洗浄する工程とを含むポリ乳酸繊維の染色加工方法において、上記還元洗浄に先立って染色されたポリ乳酸繊維に110〜140℃の温度で10〜120秒間熱処理を施す。 - 特許庁
  • In this treatment method, at least one kind of substance selected from a group of waste oil, waste water, and waste gas discharged from an acrylic acid manufacturing process and at least one kind of substance selected from a group of waste oil, waste water, and waste gas discharged from the acrylic ester manufacturing process are purified together.
    アクリル酸製造プロセスから排出される廃油、廃水、廃ガスよりなる群から選ばれる少なくとも1種と、アクリル酸エステル製造プロセスから排出される廃油、廃水、廃ガスよりなる群から選ばれる少なくとも1種とを合わせて浄化することを特徴とする、廃棄物の処理方法である。 - 特許庁
  • To substantially avoid soiling of a photoreceptor, toner degradation and fusion in an electrophotographic apparatus using a low-temperature fixable toner so as to stably provide high-quality images over a long period of time, and to provide a process cartridge adaptable to a higher-speed process, an electrophotographic apparatus and an image forming method.
    低温で定着可能なトナーを用いる電子写真装置において、感光体が汚染されにくく、トナー劣化や融着がおこりにくく、高画質な画像を長期間安定して提供し、さらに高速なプロセスに対応可能なプロセスカートリッジ、電子写真装置及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of generating a product recipe to be executed in an automated manufacturing environment by a batch process, so as to define a plurality of logic levels with a product recipe correlated with a plurality of actions, a set of transitions and a set of parameters, and including a phase level with the batch process communicated with a facility by the plurality of actions.
    製品レシピが複数のアクション、一式の遷移および一式のパラメータと関連付けられ、且つ、バッチプロセスが設備と交信するフェーズ・レベルを含む複数の論理レベルを複数のアクションが定義するように自動化製造環境においてバッチプロセスにより実行するために製品レシピを生成する方法の提供。 - 特許庁
  • In a grinding process, the inner surface of the high-purity gas-filled vessel is ground after the pressure test process, thereby, the total length of a minute crack per square centimeter within a range of depth of 1-30 μm from the inner surface of the high-purity gas filled-vessel does not exceed 30 cm.
    研削工程では、耐圧試験工程の後、高純度ガス充填容器の内表面部を研削することによって、高純度ガス充填容器の内表面から深さ1μm以上30μm以下の範囲における1平方センチメートル当たりの微小クラックの延べ長さを30cm以下とする。 - 特許庁
  • This method for controlling the exhaust quantity of nitrogen oxide from the internal combustion engine (ICE) 102 includes: a process of determining the timing in which the engine speed is under a first predetermined level; and a process of controlling an oxygen substitution valve (ODV)so that at least part of exhaust gas generated by an ICE 102 is guided to an intake flow of the internal combustion engine.
    内燃機関(ICE)102からの窒素酸化物の排出量を制御する方法は、エンジン速度が第1所定レベル未満である時期を判定する工程、及び、ICE102が発生する排気の少なくとも一部が内燃機関の吸気流に導かれるように、酸素置換バルブ(ODV)130を制御する工程、を含む。 - 特許庁
  • In an imaging method having an increased resolution imaging process and a halftone process, a matrix size of the dither is made an integral multiple of a resolution increase coefficient (a ratio of a resolution of images and the resolution of imaging control electrodes), thereby preventing interference fringes between the density irregularity and the dither pattern.
    高解像度化画像形成工程とディザーを用いた中間調処理工程とを有する画像形成方法において、ディザーのマトリックスサイズを、高解像度化係数(画像の解像度と画像形成制御電極の解像度の比)の整数倍とし、濃度むらとディザーのパターンとの干渉縞が発生しないようにした。 - 特許庁
  • To respond needs of restraining the amount of treatment liquid consumption while miniaturizing and simplifying a device and, further, reducing the amount of grinding in a grinding process or eliminating the grinding process itself even when a film is formed on the surface of a substrate having a recessed and projected pattern.
    処理液の使用量を抑え、しかも、装置としての小型・コンパクト化を図り、更に、例え凹凸のパターンを有する基板の表面に膜を形成する場合にあっても、研磨工程での研磨量を少なくしたり、研磨工程そのものを省略したりしたいというニーズに応えることができるようにする。 - 特許庁
  • The production method of the structure includes a process of preparing an electrode and an object to be plated in a vessel containing the plating solution, and a process of forming the structure by applying voltage to the electrode, thereby plating a magnetic material including FePt from the plating solution to the object.
    上記のめっき液がはいった容器に電極とめっきされる対象物とを用意する工程と、前記電極に電圧を印加することによって、めっき液からFePtを含む磁性体を前記対象物にめっきして構造体を形成する工程とを備える構造体の製造方法。 - 特許庁
  • This method for producing the sugar, having a crystallization process for growing sucrose crystals from the supersaturated solution of the sucrose, is characterized in that the sucrose crystals comprise three or more crystal forms having different melting points and that the crystal forms and the melting points of the sugar are controlled by adjusting the crystallization conditions of the crystallization process.
    スクロース体の過飽和溶液からスクロース結晶を成長させる結晶化工程を有する砂糖の製造方法であって、スクロース結晶は、融点の異なる3種以上の結晶形からなり、結晶化工程の結晶化条件を調整することにより、結晶形を制御し、得られる砂糖の融点を制御する。 - 特許庁
  • When a client 2 requests to follow the software update management procedure, an update procedure process means 1C receives the request, conducts various procedures of update of software in the client 2 automatically, and the latest version of software is sent to the client by a software sending process means 1d after the completion of procedure.
    クライアント2がソフトウェアの更新処理手続きを申請すると、更新手続き処理手段1cはこの申請を受信して、クライアント2におけるソフトウェアの更新のための諸手続きを自動的に行い、手続き完了後にソフトウェア送信処理手段1dによってソフトウェアの最新版がクライアントに送信される。 - 特許庁
  • The method for preparing the planographic printing plate comprises a process of preparing a photo-insensitive ink receptor layer containing a water soluble polymer on the support, and forming an image part by discharging the ink composition on the ink receptor layer by the inkjet recording system, and a process evaporating the solvents contained in the image part at 45°C or lower.
    支持体上に、水溶性ポリマーを含有する非感光性のインク受容層を設け、該インク受容層上に、該インク組成物をインクジェット記録方式により吐出して画像部を形成する工程と、該画像部に含まれる溶剤を45℃以下の温度で揮発させる工程とを有する平版印刷版の作製方法。 - 特許庁
  • The method for producing the negative ionic powder is constituted by a ceramicizing step of mixing at least zirconium oxide, silica, phosphoric acid, and tourmaline which are pulverized to one micron or less and firing the resulting mixture to process it into ceramics and a powder processing step of pulverizing the ceramics formed in the ceramicizing step to several microns or less to process them into a negative ionic powder.
    1ミクロン以下に粉砕した少なくとも酸化ジルコニウム、シリカ、リン酸、トルマリンを混合し、焼成してセラミックスに加工するセラミックス化工程と、このセラミックス化工程でできたセラミックスを数ミクロン以下に粉砕してマイナスイオンパウダーに加工するパウダー加工工程とでマイナスイオンパウダーの製造方法を構成している。 - 特許庁
  • To provide a developing roller enabling an image to be formed over a long period by reducing the shaving of an image carrier surface coming in contact with the end part of the developing roller, to provide a developing apparatus equipped with the developing roller, a process unit equipped with the developing roller, and an image forming apparatus equipped with the developing apparatus or the process unit.
    現像ローラ端部と接触する像担持体の面の削れを少なくし、長時間にわたって画像形成を可能にする現像ローラ、この現像ローラを備えた現像装置、前記現像ローラを備えたプロセスユニット、及び前記現像装置を備えた、若しくは前記プロセスユニットを備えた画像形成装置の提供。 - 特許庁
  • In a step S5, when the voltage of a battery exceeds a set voltage A close to that of the full charged battery, it is the case that the charged state of the battery approaches full charging, and process proceeds to a step S6, to carry out a fan mode changeover prohibiting process so as not to change the gas volume.
    ステップS5において、バッテリ1の電圧値が、バッテリ1の満充電に近い設定電圧Aを上回っている場合には、バッテリ1の充電状態が満充電に近づいている場合であるから、ステップS6に移行し、風量の変更を行わないように、ファンモード切替禁止処理が行われる。 - 特許庁
  • To provide a negative photosensitive lithographic printing plate material, relating to a photosensitive lithographic printing plate material for performing water development, in which sludge and development unevenness are improved when a developing process is continued by using a process device, and excellent contamination preventing property, ink deposition property and uniformity of ink deposition are obtained.
    水による現像を行う感光性平版印刷版材料に関して、処理装置を用いて現像処理を続けていった場合のスラッジおよび現像ムラの発生を改善し、耐汚れ性、インキ乗り性およびインキ乗りの均一性に優れたネガ型の感光性平版印刷版材料を提供する。 - 特許庁
  • Thus, the liquid crystal module tester dispenses with the process of connecting an exclusive substrate 110 and an image data generating unit 120 needed only for the test/regulation and a process for switching the test pattern, by operating prescribed equipment by a worker, whenever the test content changes each time test/regulation are performed in each base of the liquid crystal module 10.
    従って、液晶モジュール10の各台について検査・調整を行う度に、同検査・調整のためだけに要していた専用基板110や画像データ発生器120を接続する工程や、検査内容が変わる度に作業員が所定の機器を操作して検査用パターンを切替える工程が不要となる。 - 特許庁
  • To provide an expandable polystyrene resin particle that scarcely causes the dropping of an antiblocking agent in the process of being conveyed into a pre-expanding machine, a silo or an expansion molding machine and also scarcely causes the adhesion of the antiblocking agent to the inner wall surface of a particle conveying pipe and has excellent productivity and to provide a process for producing the expandable polystyrene resin particle.
    予備発泡機、サイロ又は発泡成形機への流通過程において、ブロッキング防止剤の脱落が殆どなく、粒子流通管の内壁面へのブロッキング防止剤の付着も殆どない生産性に優れた発泡性ポリスチレン系樹脂粒子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
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