「In Process」を含む例文一覧(50000)

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  • This method of fixing the aerial cable conductor joint P has a process of fixing the joint firmly to a joint supporting frame 11 provided on a support Q via a fixer 20A, and a process of holding the cable 31 in the vicinity of at least one end of the joint by a holder 20B.
    本発明に係る架空ケーブル導体接続部Pの固定工法は、接続部を固定用装置20Aを介して、支持物Q上に設置した接続部支持用架台11に強固に固定する工程と、接続部の少なくとも一方の端部近傍のケーブル31を把持用装置20Bによって把持する工程とを有する。 - 特許庁
  • To provide a substrate sealing device for allowing the mass production of a flat fluorescent lamp by continuously performing a firing process and a sealing process in the state of holding an upper substrate and a lower substrate of the fluorescent lamp while minimizing work for supplying/pulling the substrates into/out of a heating furnace.
    蛍光ランプの上部基板と下部基板をホールディングした状態において焼成工程と封着工程を連続的に行うことにより、加熱炉への基板の供給及び引出し作業を最小化し、平板型蛍光ランプの大量生産が可能なようにする平板型蛍光ランプの基板封着装置を提供する。 - 特許庁
  • The software introducing method and the peripheral equipment are provided with a software introduction process to take out the software specified by a software transmission request received from the terminal from a storage device and to transmit the software to the terminal and a software update process to take out the software from a storage place of the software acquired from the terminal and to store the software in the storage device.
    端末から受信したソフトウェア送信要求により指定されたソフトウェアを記憶装置から取りだし、前記端末へ送信するソフトウェア導入工程と、前記端末から取得したソフトウェアの格納場所からソフトウェアを取りだし、該ソフトウェアを記憶装置に格納するソフトウェア更新工程と、を有する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing process of a delivery device comprising a core containing a pharmaceutically active agent which core is coated with a film including one or more openings connecting the outside of the device and the core and which process is characterized in that the film is provided by injection-molding the coating on the periphery of the core.
    デバイスの外側とコアを連絡する1つまたはそれ以上の開口部を含む被膜により被覆された、医薬活性剤を含むコアを含むデリバリーデバイスの製造方法であって、該コアの周囲に該コーティングを射出成形することにより被膜を施すことを特徴とする方法を提供する。 - 特許庁
  • The process for purifying a polyether is provided, which process comprises adding to a polyether (A) containing a first salt, water (B) and a compound (C) which is capable of reacting with an ion constituting the first salt to form a second salt which is essentially insoluble in the polyether (A), then removing water, followed by removing the second salt from the polyether (A).
    第1の塩を含有するポリエーテル(A)に、水(B)、および、第1の塩を構成するイオンと反応してポリエーテル(A)に本質的に不溶な第2の塩を形成しうる化合物(C)、を添加した後、水分を除去し、次いで第2の塩をポリエーテル(A)から除去することを特徴とするポリエーテルの精製方法とする。 - 特許庁
  • The semiconductor device fabrication method is provided with a process for introducing indium (In) into a channel region of a silicon substrate 1 and a subsequent process for forming a gate oxide film 5 on the silicon substrate 1 by implementing heat treatment at a higher temperature (about 1,000°C) than that at which a viscous flow of the silicon oxide film occurs.
    この半導体装置の製造方法は、シリコン基板1のチャネル領域に、インジウム(In)を導入する工程と、その後、シリコン酸化膜の粘性流動が起こる温度以上の温度(約1000℃)で熱処理することによって、シリコン基板1の主表面上にゲート酸化膜5を形成する工程とを備えている。 - 特許庁
  • After the heat curing process, a heat-cured coating film 72 produced in the heat curing process on the outer surface side of a thick wall part 1b which is a part of the car body 1 is coated with an intermediate coating, and the whole outer surface of the car body 1 after intermediate coating is coated with a finish coating.
    熱硬化処理工程後に、自動車車体1の一部である厚肉部1bの外表面側に前記熱硬化処理工程で生じている熱硬化塗膜7_2 に塗り重ねるようにして中塗り塗装を施し、その中塗り塗装後に自動車車体1の外表面全体に上塗り塗装を施す。 - 特許庁
  • This storage method of a fuel cell comprises a process (ST1) of storing the fuel cell 1a generating power by an electrochemical reaction between hydrogen and oxygen and a deoxidizer 2 in a non-permeable cover 3; and a process (ST2) of sealing the cover 3 with the fuel cell 1a and the deoxidizer 2 stored therein.
    水素と酸素との電気化学的反応により発電する燃料電池1aと、脱酸素剤2とを非通気性のカバー3内に収容する工程(ST1)と、燃料電池1aと脱酸素剤2とが収容されたカバー3を密封する工程(ST2)とを備える燃料電池の保管方法。 - 特許庁
  • To provide a foil for transcription, a cathode-ray tube and a transcribing method that can integrally make a phosphor layer and an electrode layer in the same process to give a simplified manufacturing process for preserving an evenness of a membrane property of the electrode layer or the like along with avoiding such problems as a resistance value or the like from fluctuating.
    蛍光体層および電極層を同一工程で一括して形成することができ、製造工程を簡略化できると共に、電極層等の膜質の均一性を確保することができ、抵抗値のばらつき等の問題が生ずることのない転写箔、陰極線管および転写方法を提供する。 - 特許庁
  • The image forming apparatus which performs an electrophotographic process containing electrification, exposure, development and transfer by using an electrophotographic photoreceptor is provided with a stabilizer supply apparatus for supplying a stabilizer to a photoreceptor surface and performs the electrophotographic process in such a manner that the wear rate of the photoreceptor surface becomes 0.2-5 nm/kcycle.
    電子写真感光体を用いて帯電、露光、現像、転写を含む電子写真プロセスを行う画像形成装置であって、感光体表面に安定剤を供給する安定剤供給装置を備え、且つ感光体表面の磨耗率が0.2〜5nm/kcycleとなるように電子写真プロセスを行う画像形成装置。 - 特許庁
  • The air diffusion method includes a first air diffusion process for diffusing humidifying air from the air diffusion holes of the air diffuser arranged in water to be treated when air is diffused into water to be treated containing organic wastewater and biological sludge and a second air diffusion process for diffusing non-humidifying air from the diffusion holes.
    本発明の散気方法は、有機性排水と生物汚泥とを含む被処理水中に空気を散気するに際し、被処理中に配置された散気装置の散気孔から加湿空気を散気する第1の散気工程と、散気孔から非加湿空気を散気する第2の散気工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the semiconductor device using SiC for the substrate comprises: a process for forming an alignment mark 2 on a {0001} plane in the SiC substrate 1; and a process for forming a prescribed pattern on the SiC substrate 1 by aligning a transfer mask and the SiC substrate 1, based on the alignment mark 2.
    本発明は、SiCを基板に用いた半導体装置を製造する方法であって、SiC基板1の{0001}面に、アライメントマーク2を形成する工程と、アライメントマーク2に基づき、転写マスクとSiC基板1との位置合わせを行いSiC基板1上に所定のパターンを形成する工程とを備える。 - 特許庁
  • To provide a mirror finishing method capable of forming a cured material layer whose surface is in a mirror finished surface state on a base material surface without the need of the process of recovering an optical cationic polymerization composition and the process of drying a solvent, and a manufacturing method of an optical disk using the mirror finishing method.
    光カチオン重合性組成物を回収する工程および溶剤を乾燥する工程を必要とせず、基材表面に、表面が鏡面状態である硬化物層を形成し得る鏡面加工方法、及びこの鏡面加工方法を用いた光ディスクの製造方法を提供することにある。 - 特許庁
  • The method for producing heat-cooked food dough includes a crushing process #20 for rotating a crushing blade in a mixture of a prescribed amount of grains and a prescribed amount of a liquid to crush the grains, and a kneading process #30 for kneading with a kneading blade the dough raw material comprising the mixture of the crushed grains and the liquid into dough.
    加熱調理食品生地製造方法は、所定量の穀物粒と所定量の液体の混合物の中で粉砕ブレードを回転させて穀物粒を粉砕する粉砕工程#20と、粉砕穀物粒と液体の混合物からなる生地原料を練りブレードで生地に練り上げる練り工程#30を含む。 - 特許庁
  • The invention relates to the method for producing the gas barrier film comprising a process coating a solution of a polyvalent metal salt of an unsaturated carboxylic acid compound with less than 20 of degree of polymerization and a process irradiating the coating with an anodeless type or anode type UV lamp in the presence of a solvent for the polyvalent metal salt of the unsaturated carboxylic acid compound.
    基材層に重合度が20未満の不飽和カルボン酸化合物の多価金属塩溶液を塗工した後、不飽和カルボン酸化合物の多価金属塩に溶媒の存在下、無電極または有電極タイプの紫外線ランプを用いて、紫外線を照射することを特徴とするガスバリア性膜の製造方法。 - 特許庁
  • In the correction process, a CPU 101 of the image processor 100 determines a pixel value of each comparing point on two radius vectors rotating while changing a radius and a rotation angle (for example, a tip of each radius), and repeats a process which converts a pixel value between two comparing points according to the pixel value for only an established scanning zone.
    修正処理において画像処理装置100のCPU101は、半径及び回転角度を変えながら回転する2つの動径上の各比較点(例えば各動径の先端)の画素値を判定し、その画素値に応じて2つの比較点の間の画素値を変換する処理を、設定された走査範囲だけ繰り返す。 - 特許庁
  • An evacuation channel for evacuating reaction gas from each reaction gas process area is provided separately, and a separation area is provided between these reaction gas process areas, and a flow rate of the gas evacuated through each evacuation channel and a pressure in the vacuum chamber are controlled so that a gas flow rate to a substrate is kept constant.
    夫々の反応ガスの処理領域から各々の反応ガスを排気する排気路を個別に設けると共にこれらの処理領域の間に分離領域を設けて、基板へのガス流が一定化するように、これらの排気路から排気するガス流量比及び真空容器内の圧力を調整する。 - 特許庁
  • The method for producing the modified milk powder suppressed in acidification comprises: a process for adding a copper raw material containing at least copper yeast to modified milk liquid prepared by addition of a modified milk liquid raw material containing a milk raw material, sugar and oil and fat; and a process for drying the copper raw material-added modified milk liquid.
    乳原料、糖類、及び油脂類を含む調乳液原料が混合されて調製された調乳液に、少なくとも銅酵母を含む銅原料を添加する工程、銅原料を添加した調乳液を乾燥する工程、を含む、酸化抑制された調製粉乳を製造する方法。 - 特許庁
  • The manufacturing method includes: a precursor manufacture process (Step S1) for forming a conductive metal portion that contains a conductive material and a binder on a support body and producing a conductive film precursor; and a binder removal process (Step S2) for removing the binder contained in the conductive metal portion of the conductive film precursor.
    支持体上に導電性物質とバインダーとを含有する導電性金属部を形成して導電膜前駆体を作製する前駆体作製工程(ステップS1)と、導電膜前駆体における導電性金属部に含まれるバインダーを除去するバインダー除去工程(ステップS2)とを有する。 - 特許庁
  • To provide a method for forming a pattern for a process causing an alignment market to be formed in a first pattern, without carrying out a developing process and then aligning the relative position between the first pattern and second pattern.
    複数のフォト工程で現像工程を経ず、材料形成工程と露光工程のみを繰り返し、最後に一括して現像工程を行う場合、前記第1パターンの現像工程がなくなるため、第1パターンと同時に作成していたアライメントマーカーを第2パターンの露光時に参照することができず、複数のパターン間にずれが生じる。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the memory card has a process of preparing a molding die having an adjustor adjustable in the amount of projection projecting into a cavity, and a process of injecting resin into the cavity while projecting the adjustor into the cavity, to seal a semiconductor chip arranged on a substrate, with the resin.
    メモリカードの製造において、キャビティの中に突出する突出量の調節が可能な調節体を有する成形型を準備する工程と、前記キャビティの中に前記調節体を突出させた状態で前記キャビティの中に樹脂を注入して、基板上に配置された半導体チップを樹脂封止する工程とを有する。 - 特許庁
  • In the image forming apparatus comprising a transfer unit and the process cartridge as a detachable photoreceptor unit, a nip part between an intermediate transfer belt 10 of the transfer unit 6 and the process cartridge 30 is loaded with a charge elimination lamp 32 for eliminating charges from the photoreceptor drum 1K before cleaning.
    転写ユニットと、着脱可能な感光体ユニットとしてプロセスカートリッジを有する画像形成装置において、前記転写ユニット6の中間転写ベルト10とプロセスカートリッジ30とのニップ部にクリーニング前の感光体ドラム1Kを除電する除電ランプ32が搭載されていることを特徴とする。 - 特許庁
  • The heat treatment apparatus of the substrate is formed by arranging a heat absorbing fin 14 which absorbs radiant heat between the center of a glass substrate W held by a boat 7 carried in or out of a process tube 4 from a furnace opening 6 of a heat treatment furnace 2 and a heat shield plate 13a which insulates the radiant heat caused by a heater 5 arranged outside the process tube 4.
    熱処理炉2の炉口6からプロセスチューブ4内に搬入・搬出されるボート7に保持されたガラス基板Wの中央部と、プロセスチューブ4の外側に配置されたヒータ5による輻射熱を断熱する遮熱板13aとの間に、輻射熱を吸収する吸熱フィン14を配置する。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the alloy sputtering target material having the fine and uniformed structure, the method having the casting process of the alloy, is performed as the followings, that is, in the casting process, when the cast block is obtained by pouring molten alloy into a mold and solidifying the alloy, the solidification speed of the poured molten metal is adjusted into the range of 1-10 mm/sec.
    合金の鋳造工程を有し、該鋳造工程において、鋳型に合金の溶湯を注湯し、凝固させて鋳塊を得る際に、注湯された溶湯の凝固速度を1〜10mm/secの範囲に調整することを特徴とする、微細均一化された組織を有する合金スパッタリングターゲット材の製造方法。 - 特許庁
  • When the maximum surface roughness Rmax at the time of finishing a finish cutting process (namely, at the time of finishing a shape creation process) is set to ≤0.010 mm, and the refractive power of the surface of the optical lens is made as DA and that of the surface in design as DF, it is set to [DA-DF]≤0.25.
    仕上げ切削工程が終了した時点(すなわち、形状創成工程が終了した時点)での最大表面粗さRmaxを0.010mm以下とし、光学レンズの表面の屈折力をDA、設計上の表面の屈折力をDFとするとき、|DA—DF|≦0.25とする。 - 特許庁
  • An opening/closing control process of the variable winning device unit is performed based on the output of a detection signal from a first ball-entering detecting means which is provided in the starting port, and a transition process to a special game state being advantageous to a game player is performed when a game ball which has entered a specified ball entering unit is detected.
    始動口に設けられた第1入球検出手段からの検出信号の出力に基づき、可変入賞装置ユニットの開閉制御処理が実行され、特定入球部へ入球した遊技球が検出されると、遊技者に有利な特別遊技状態への移行処理が実行される。 - 特許庁
  • if it is shown that the existence of the patent, being a patent for an invention relating to a process involving the use of materials not protected by the patent or for an invention relating to a substance produced by such a process, has been utilized by the patentee so as unfairly to prejudice in Canada the manufacture, use or sale of any materials.
    特許により保護されていない材料の使用を含む方法に関する発明又はかかる方法により製造される物質に関する発明についての特許の存在が,特許権者により,カナダにおける材料の製造,使用又は販売を不公正に害することに用いられたことが立証された場合 - 特許庁
  • To narrow a region used for rotating a motor in the zero state of driving force and to instantly performing a driving process by motor or a regenerative process, when a clutch is connected during deceleration of a hybrid vehicle run by driving one side of front wheels and rear wheels with an engine and driving the other side with the motor.
    前輪または後輪の一方をエンジンで駆動し、他方をモータにより駆動して走行するハイブリッド車両の減速時にクラッチを接続する際に、駆動力が0の状態でモータを回転させる領域を狭めるとともにモータによる駆動処理または回生処理を即時に実行可能にする。 - 特許庁
  • The method of manufacturing a solar cell includes: a sputtering process for sputtering a target including a group Ib element and a target including a group IIIb element in an atmosphere including Se, and forming a layer including the group Ib element, group IIIb element, and Se on a substrate; and a heat-treatment process for heating the layer.
    本発明の太陽電池の製造方法は、Ib族元素を含むターゲット及びIIIb族元素を含むターゲットを、Seを含む雰囲気中でスパッタして、Ib族元素、IIIb族元素及びSeを含む層を基板上に形成するスパッタリング工程と、層を加熱する熱処理工程と、を備える。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the mask group includes: a process of sequencing a plurality of kinds of layers according to the prescribed specifications for the manufacture of the mask; and a process of constituting the plurality of mask sheets M1 to M3 by allocating a plurality of layers in one mask sheet corresponding to the sequence of the layers.
    また、本発明は、複数種類のレイヤにおけるマスク製造上の所定の仕様に沿った順番を付する工程と、レイヤ毎に付された順番に対応して複数のレイヤを1枚のマスクに割り当てるようにして複数枚のマスクM1〜M3を構成する工程とを備えるマスク群の製造方法でもある。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a semiconductor device by an etching process using laser beam irradiation, which can applied for production of a semiconductor device in wide range requiring the etching process for a complicated shape, deep and large removal region or the like, and can obtain high etching rate.
    レーザ光の照射を利用したエッチング加工による半導体装置の製造方法であって、複雑形状や深くて大きい除去領域等のエッチング加工が必要な広範囲の半導体装置の製造に適用可能で、高いエッチング速度が得られる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • When an information file is inputted, an encryption key generation part 12 automatically generates an encryption key, an encryption process part 13 generates encryption data by encrypting the information file by using the encryption key, and an embedding process part 15 embeds the encryption data and key as electronic watermark information in a dummy image.
    情報ファイルを入力した際に暗号鍵生成部12が暗号鍵を自動的に生成し、暗号化処理部13がこの暗号鍵を用いて情報ファイルを暗号化して暗号データを作成し、埋め込み処理部15が暗号データおよび暗号鍵をダミー画像中に電子透かし情報として埋め込む。 - 特許庁
  • To provide a method which can control the generation of hydrogen sulfide and the like at least during a period required for a transportation process and a storage process, and treat paper sludge generated from a paper factory without causing influence on cement quality and a pollution problem in the incineration (firing) of cement.
    製紙工場から発生する製紙スラッジを、少なくとも運搬工程や貯留工程に要する時間内において、硫化水素等の発生を抑制することが可能で、且つ、セメントでの焼却(焼成)においてセメントの品質や公害問題を発生させることなく処理することが可能な方法を提供する。 - 特許庁
  • The manufacturing method of the semiconductor device includes a process of subjecting a semiconductor substrate having a region where a silicide film is formed on a surface to a plasma treatment in a gas atmosphere containing an oxygen element to form an oxide film on the silicide film and a process of forming a silicon nitride film covering the surface of the semiconductor substrate after the oxide film is formed.
    表面にシリサイド膜が形成された領域を有する半導体基板を、酸素元素を含むガス雰囲気中でプラズマ処理してシリサイド膜の上に酸化膜を形成する工程と、その酸化膜を形成した後、半導体基板の表面を覆うシリコン窒化膜を形成する工程と、を備えた。 - 特許庁
  • This manufacturing method of a heat spreader for a semiconductor comprises a first process, where a recess which houses a semiconductor is provided to a metal thin plate in the thickwise direction and a second process where the contacting surface of the recess, with which the semiconductor is brought into contact is turned smooth by a processing means.
    本発明の半導体用ヒートスプレッダーの製造方法は、金属薄板の厚み方向に半導体が収容される凹部を形成する工程と、前記工程により形成された凹部の半導体との接触面を平滑に加工する加工手段による仕上げ工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁
  • Portable information terminals are distributed to individual persons in charge of work to execute the production processes and members to be devoted to element works regarding the products, an operation standard and check items to confirm work quality of the products are distributed from a process support server to the portable information terminals as process data.
    生産工程を実行する個々の作業担当者に携帯情報端末を配し、前記の携帯情報端末には当該製品にかかる要素作業に供する部材、作業標準および当該製品の作業品質を確認するチェック項目を工程データとして工程支援サーバより配信する。 - 特許庁
  • A rough polishing process is included for polishing a glass sheet having a warp within a desired range, and in the rough polishing process, the glass sheet is polished by using a cerium oxide grindstone comprised of resin dispersed with cerium oxide particulates and having a compressive elasticity modulus larger than 370 MPa, and a tensile strain larger than 0.1%.
    所望の範囲内の反りを有するガラス板を研磨する粗研磨工程を含み、前記粗研磨工程は、酸化セリウム微粒子を分散させた樹脂からなり圧縮弾性率が370MPaより大きく引張歪みが0.1%より大きい酸化セリウム砥石を用いて前記ガラス板を研磨する。 - 特許庁
  • The exposure method includes a process that performs a predetermined treatment for adjusting a surface energy of the substrate to suppress the attachment of foreign matter to the surface of the substrate, and a process that irradiates an exposing light to the surface of the substrate where the surface energy is adjusted in the immersion exposure that exposes the substrate though the liquid.
    液体を介して基板を露光する液浸露光において、基板の表面に対する異物の付着を抑えるために、基板の表面エネルギーを調整する所定の処理を行う工程と、表面エネルギーが調整された基板の表面に露光光を照射する工程と、を含む露光方法を提供する。 - 特許庁
  • The high refractive index part 10 used for performing the propagation of light after being connected to the optical fiber is formed by performing a first ion exchange process (b), and then performing infiltration and diffusion of ions in a second ion exchange process (c) comprising dipping the glass plate 1 into a molten salt 60 free from ions capable of increasing the refractive index and, heating.
    光ファイバを接続して光の伝播を行う高屈折率部10は、第1のイオン交換工程(b)を行った後に、屈折率の上昇に寄与するイオンを含有しない溶融塩60の中にガラス基板1を浸して加熱する第2のイオン交換工程(c)により侵攻,拡散させて形成する。 - 特許庁
  • The terminal working method consisting in simultaneously executing a process for electrically cutting bus lines and the terminals for inspection by cutting the substrate surface of the liquid crystal display device to a line form by the projections described above and a process for chamfering the peripheral edge of the substrate by the grinding wheel surface is implemented.
    そして、前記端子加工砥石を用い、前記突起で前記液晶表示装置の基板表面をライン状に削る事によりバスラインと検査用端子の電気的切断を行う工程と、前記砥石面で前記基板周縁部の面取りを行う工程とを、同時に実行する事を特徴とする端子加工方法を行う。 - 特許庁
  • The grid generation/deletion process and a function generation/deletion process are integrated together by applying operation for calling information about a registered function existing within grid information, information about a function generation/deletion method existing in function information, and operation of the registered function existing within an operation group of processing on the grid information.
    格子の情報内に存在する登録関数の情報と、関数の情報内に存在する関数の生成・消滅手法の情報と、格子情報への処理操作群内に存在する登録関数の操作を呼び出す操作を加えて、格子の生成・消滅工程と関数の生成・消滅工程を統合する。 - 特許庁
  • The fire-fighting method capable of extinguishing the fire due to an oil comprises the process of spraying the fire due to the oil with an inert gas chemically stable in the oil (spray from an inert gas tank 1), and the process of applying an extinguishing agent that contains water after spraying the inert gas (spray from an acqueous fire-extinguishing agent tank 2).
    油に基づく火災を消火する消火方法は、前記油に基づく火災に前記油に対して不活性である不活性ガスを噴霧する工程(不活性ガスタンク1からの噴霧)と、不活性ガス噴霧後に水分を含有する消火剤を適用する工程(水系消化剤タンク2からの噴霧)と、からなる - 特許庁
  • Thus, the cooling operation of the cooling means 46 is regulated in at least one of the water-immersing process and the steaming process with weak heating power, the pot temperature detection means 15 accurately detects the temperature of the pot without being affected by the cooling means 46, and the pot heating means 13 is highly accurately controlled.
    これによって、弱い火力の浸水工程とむらし工程との少なくとも一方の工程において冷却手段46の冷却動作が規制され、鍋温度検知手段15は冷却手段46による影響がなくなり、鍋温度を正確に検知でき、鍋加熱手段13を高精度で制御することができる。 - 特許庁
  • This method for producing the water-based coating composition includes a process for preliminarily mixing 100 pts.wt. of a resin emulsion with 20-50 pts.wt. of an aqueous acrylic resin solution in such a state as free from organic solvent and another process for adding the organic solvent to the mixture of the resin emulsion and the aqueous acrylic resin solution.
    有機溶剤を含まない状態で、樹脂エマルション100重量部に対しアクリル系樹脂水溶液20〜50重量部を事前混合する工程と、前記樹脂エマルションと前記アクリル系樹脂水溶液の混合液に有機溶剤を添加する工程とを含む、水性塗料組成物の製造方法である。 - 特許庁
  • To realize highly reliable decoding process by setting appropriate PR coding reference values for each area in a reproduction process by a PRML method for a recording medium where a plurality of data areas having different reproduction properties coexist, even though a PR encoding method having the many number of PR coding reference value levels is applied.
    再生特性の異なる複数のデータ領域が共存する記録媒体についてのPRML方式による再生処理で、PR符号基準値レベル数が多いPR符号化方式を適用しても、前記各領域に適切なPR符号基準値を設定して信頼性の高い復号処理を実現する。 - 特許庁
  • The polyester film is used as process paper in a process of melting and processing a material by irradiation with light energy, wherein when the polyester film is irradiated with light having 40 W/cm^2 energy of light flux guided from a high-voltage mercury lamp, heat conversion energy is 0.5-3.5 W/g.
    光エネルギーを照射して材料を溶融加工する工程で工程紙として使用されるポリエステルフィルムであって、高圧水銀ランプから導かれた、光束のエネルギーが40W/cm^2の光を照射した時の熱変換エネルギーが0.5〜3.5W/gであることを特徴とする工程紙用ポリエステルフィルム。 - 特許庁
  • The method for producing a composite powder comprising silicon powder and a formation auxiliary includes: a process of introducing a silicon-generating gas into the first oven in a nonoxidative-gas atmosphere to deposit silicon; and a process of introducing the deposited silicon into the second oven and solidifying the vapor of a formation auxiliary.
    非酸化性ガス雰囲気の第1の炉内にシリコン生成ガスを導入してシリコンを析出する工程、及び第2の炉内に前記析出したシリコンを導入するとともに、成形助剤の蒸気を固化することにより、シリコン粉末と成形助剤の複合粉を生成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁
  • An opening unit 28 for discharging accumulated substances in a guide 13 is formed around the peripheral surface 27 of the guide 13 which houses a flexible body 17 for passing through a string for bundling by winding up cereal stems for guiding an insertion process and the string at the tip of a needle 12 and guides the insertion process ranging to the vicinity of the needle 12.
    結束機における結束用の紐を穀稈束に巻き掛けるニードル12の先端部分に挿通せしめる可撓体17と紐とを収容してニードル12近傍までの挿通行程を案内するガイド13の周面27にガイド13内の堆積物を外部に排出せしめる開放部28を形成せしめた - 特許庁
  • To provide a call termination process selection system, a user terminal, an exchange, and a call termination process selection method for making it possible for a user with its own intention to select any communication service in a flexible way, if a call termination of another communication service on the user terminal is generated during the packet communication of the user terminal.
    ユーザ端末のパケット通信中に当該ユーザ端末に対する他の通信サービスの着信が発生した場合に、ユーザが自らの意思でフレキシブルに何れかの通信サービスを選択することを可能とする着信処理選択システム、ユーザ端末、交換機、及び、着信処理選択方法を提供する。 - 特許庁
  • The controller 20 holds the vacuuming mechanism 12 nonactive for a first time in a state that the substrate W is mounted on the mounting surface 1a (non-vacuumed cooling process) and then actuates the mechanism 12 for a second time to vacuum the substrate W to the mounting surface 1a (vacuumed cooling process).
    制御部20は、基板Wが載置面1aに載置された状態で第1の時間に渡って吸引機構12を非作動状態に保持し(非吸着冷却処理)、その後の第2の時間に渡って吸引機構12を作動させ、基板Wを載置面1aに吸着させる(吸着冷却処理)。 - 特許庁
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