「In Process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 881 882 883 884 885 886 887 888 889 .... 999 1000 次へ＞- Next, in a second process, a plurality of rivet connections 33 are performed in boundary regions of the friction joining regions 31, 30A, 30B, and a plurality of rivet connections 34, 35 are performed in boundary regions of the friction joining regions 32, 30A, 30B.
次に、第２工程において、摩擦接合領域３１、３０Ａ，３０Ｂの境界の領域において複数のリベット接合３３により接合すると共に、摩擦接合領域３２、３０Ａ，３０Ｂの境界の領域において複数のリベット接合３４，３５により接合する。 - 特許庁 - To carry out sure and stable breaking, hardly fluctuating and re- pelletize a waste plastic material in good heat efficiency without releasing breaking energy applied to the waste plastic material in breaking during storage, in a process for breaking, melting and pelletizing a waste plastic material consisting mainly of a thermoplastic resin.
熱可塑性樹脂を主体とする廃プラスチック材を破砕、溶融、ペレット化する過程において、確実で変動の少ない安定的な破砕を行い、破砕時に廃プラスチック材に加えられた破砕エネルギーを貯蔵中に放出されることなく熱効率良く廃プラスチック材を再ペレット化する。 - 特許庁 - To provide a drum brake cover capable of being easily mounted on a desired occasion in a desired region, in particular, being mounted and demounted in accompany with the mounting and demounting of a studless tire, and easily improving labyrinth effect without spending extra fuel consumption and process cost.
本発明は、必要な地域で、必要な時期に容易に取付けることが可能であり、特にスタッドレスタイヤの着脱に合わせて取付け及び取外すことができ、余分な燃費や加工費を掛けることなく、簡単にラビリンス効果を向上させることが可能なドラムブレーキカバーを提供することにある。 - 特許庁 - To provide a method for forming an element isolation film in a semiconductor device capable of dissolving the problem that F ions are diffused in a boundary between the element isolation film and the element in an element isolation film formation process and cause the characteristic degradation of the element.
本発明は、素子分離膜の形成工程時にＦイオンが素子分離膜及び素子間の界面に拡散して素子の特性劣化を引き起こすという問題点を解決することが可能な半導体素子の素子分離膜形成方法を提供することを目的としている。 - 特許庁 - Thus because the MOD layer 31 is formed at first and subsequently the vapor phase synthesized layer 32 is formed, this can prevent the deterioration in properties of the vapor phase synthesized layer 32 due to heat treatment in the process of forming the MOD layer 31 (heat treatment in the MOD method).
このように、ＭＯＤ層３１を先に形成してから、その後に気相合成層３２を形成することになるので、ＭＯＤ層３１を形成する工程での熱処理（ＭＯＤ法における熱処理）により気相合成層３２の特性が劣化することを防止できる。 - 特許庁 - To efficiently generate a non-hierarchical encoding multiplexing stream in a short time by generating a hierarchical encoding multiplexing stream on a previous stage in consideration of an encoding rate in the case involving conversion into the non-hierarchical encoding multiplexing stream, and reducing the load of re-encoding process.
非階層符号化多重化ストリームへ変換された場合の符号化レートを考慮してその前段の階層符号化多重化ストリームを生成することで、再符号化処理の負荷を低減し、短時間でかつ効率良く非階層符号化多重化ストリームを生成することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for an impact energy absorption member capable of certainly fixing a foamed metal body into a cylindrical hollow part in a conventional process in which the foamed metal body is filled in the cylindrical hollow part, and an impact energy absorption member.
発泡金属体を筒状体の中空部へ充填するという従来のプロセスのままで、筒状体の中空部内へ発泡金属体を確実に固定することができる衝撃エネルギー吸収部材の製造方法と衝撃エネルギー吸収部材を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a container conveyer capable of reducing a variation in a conveyance position of a container in a filling machine for stable conveyance with little variation in container position for each section of each process and easily adjusting a holder size corresponding to a container with a different corner size.
充填機において容器の搬送位置の変動を抑制し、各工程の各部所（セクション）に対する容器の位置変動の少ない安定した搬送ができるようにするとともに角寸サイズの異なる容器であってもホルダーのサイズ調整が容易な容器搬送装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a cutting and grinding processing oil which has a high processing performance, can easily be sucked, facilitates the recovery of chips and cutting and grinding processing oils, and is small in loads to environments, in a process for cutting and grinding a material to be cut in a chip suction processing system.
切り屑吸引式加工システムにより被削材を切削・研削加工する方法において、高い加工性能を有し、油剤が吸引されやすく、かつ切削・研削加工用油剤切り屑の回収が容易で、環境に対する負荷の小さい切削・研削加工油剤を提供すること。 - 特許庁 - When the verification of whether there is a significant variation in defective occurrence percentage in the articles processed by each manufacturing device used in the manufacturing process is performed using the partition table, it is determined which of an independent chi-squared test and an accuracy probability test is appropriate.
その分割表を用いて、その製造工程で用いる各製造装置で処理された製造品における不良品発生率に有意な差が有るかどうかの検定を行う場合に、独立性のカイ２乗検定と正確確率検定とのうちいずれの検定が適するかを判断する。 - 特許庁 - Waste is burned in an incinerator 1, and the high temperature exhaust gas G generated in the process is cooled by passing it through the first and second cooling filter layers 3, 5 comprising a group II metal hydroxide which are installed in the first pipe line 4 and the second pipe line 6.
廃棄物をごみ焼却炉１中で燃焼させ、この際生じる高温の排ガスＧを第１の管路４及び第２の管路６に設けられたＩＩ族金属水酸化物11からなる第１及び第２の冷却フィルタ層３，５を流通させることにより冷却する。 - 特許庁 - In this invention, there is disclosed an aluminum laminate film used in the cell sheathing envelope a surface process layer into a surface toward the inner side of cell in manufacturing at least an aluminum foil by chemically changing the surface of the aluminum foil and also forms a sealant layer into it.
本発明は、電池の外装袋に使用されるアルミラミネートフィルムであって、特に、アルミ箔の、少なくとも製袋時に上記電池の内部側を向く面に、上記アルミ箔表面の化学変化による表面処理層が形成され、更にシーラント層が形成されていることを特徴としている。 - 特許庁 - Simultaneously, a route in the circuit through which the signal transition (variation) in the output result comes out is verified, a failure of the circuit or pattern can be found precisely more than conventional art in an upstream process of the design, and the quality of design is improved.
同時に、出力される結果における信号遷移(変化)が、回路中のどの経路を通って出てくるかを検証の対象とするものであり、回路、パターン不具合を、従来に比べて高精度により設計の上流工程で見つけることができ設計品質が向上する。 - 特許庁 - In the circulation transfer process in a heating chamber 2 of a glass separation device 120, since the broken laminated glass undergoes shearing force by stirring with a paddle 6, the glass of the broken piece of the laminated glass gradually slides from the film and the film is exposed in the heating chamber 2.
ガラス分離装置１２０の加熱室２における循環搬送過程において、切断合わせガラス片は、パドル６による掻き混ぜによって剪断力を受けるので、切断合わせガラス片のガラスがフィルムに対して徐々にずれていきフィルムが加熱室２内で露出していく。 - 特許庁 - In a molding method at the time of press molding a preform 60 using a metal mold 200, the pressing speed is reduced at a specified timing in order to suppress the generation of the damage on the surface of the optical element after being molded in a process of pressing the preform 60 using the metal mold 200.
成形用金型２００でプリフォーム６０をプレス成形する際の成形方法であって、成形用金型２００でプリフォーム６０をプレスする過程において、成形後の光学素子の表面に生じる傷の発生を抑えるため、所定のタイミングでプレス速度を遅くする。 - 特許庁 - The broadcasting station 301 sets the selling set price (starting price) of an article to be sold in an auction program in the starting program wherein the article is put at auction and the selling price (final price) in the final program where the article is put at auction (process 101).
放送局３０１はオークション番組内で販売する商品について、その商品が出品される最初の番組での販売設定価格（開始価格）と、その商品が出品される最終番組における販売価格（終了価格）を設定する（処理１０１）。 - 特許庁 - In the melting treatment process of the lithium battery where the lithium battery is charged in an electric furnace for steel-making to perform melting treatment, an ER lithium battery is classified from other kinds of lithium batteries and the classified ER lithium battery is charged in the electric furnace for steel-making by predetermined weight to perform melting treatment.
リチウム電池を製鋼用電気炉に挿入して溶融処理するリチウム電池の溶融処理方法において、ＥＲリチウム電池を他の種類のリチウム電池と分別し、該分別したＥＲリチウム電池を所定の重量ずつ製鋼用電気炉に挿入して溶融処理する。 - 特許庁 - A row display process part 334 causes a row number display cell corresponding to the row in which an address is set to an address setting-display cell to be displayed in a different display state from a row number display cell corresponding to the row in which no address is set to the address setting-display cell.
また、行表示処理部３３４は、アドレス設定表示セルにアドレスが設定されている行に対応する行番号表示セルを、アドレス設定表示セルにアドレスが設定されていない行に対応する行番号表示セルと異なる表示状態で表示させる。 - 特許庁 - To provide a polishing composition which has high selectivity, in which the polishing rate for copper is large but the polishing rate for a tantalum compound is small and is superior in giving smoothness of surface to a copper- film in a CMP work process for a semiconductor device, having a copper film and a tantalum compound.
銅膜とタンタル化合物を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、銅の研磨レートは大きいがタンタル化合物の研磨レートが小さいという選択性の高い研磨用組成物であり、銅膜表面の平滑性にも優れたＣＭＰ加工用の研磨用組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a process for producing a polyester which is excellent in transparency, has an appropriate and stable rate of crystallization, can efficiently produce a molded article excellent in high-temperature dimensional stability, particularly a heat-resistant hollow molding, and is excellent in long- term continuous moldability with little contamination of a die.
透明性に優れ、適度で、かつ安定した結晶化速度を持ち、耐熱寸法安定性に優れた成形体、特に耐熱性中空成形体を効率よく生産することができ、また金型を汚すことの少ない長時間連続成形性に優れたポリエステルの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a seat cushion pad with a seating sensor which keeps the edge of the seating sensor rigidly connected to a pad body and prevents unexpected turning up of the edge, especially the front edge, of the seating sensor in a process of covering the pad body with a surface material or in using a seat cushion pad to prevent a deterioration in function of the seating sensor.
着座センサの縁部をパッド本体側に強固に連結でき、表皮をパッド本体に被せる工程や、シートクッションパッドの使用時において、着座センサの縁部、特に前部が不用意に捲れるのを防止することにより、着座センサの性能の低下を防止することを課題とする。 - 特許庁 - In a method of manufacturing a car seat provided with a covering material 30 and a pad 40, the pad 40 is provided with an engaging hole 44, and in a process of assembling the covering material 30 to the pad 40, an engaging pin 71 for positioning the pad is engaged in the engaging hole 44 to fix the pad 40.
表皮材３０とパッド４０を備えた車両用シートの製造方法において、パッド４０には係合孔４４が設けられ、パッド４０に表皮材３０を組み付ける工程において、係合孔４４にパッド位置決め用の係止ピン７１を係合させてパッド４０を固定する。 - 特許庁 - In the method, an end face of a metal plate 2 is photographed by a CCD camera 12, and obtained gray-scale image data are binarized by a binarization processing section 20 and subjected to a scaling process in a scaling processing section 24, and then each region in a binarized image is extracted by a region extracting section 26.
金属板２の端面をＣＣＤカメラ１２によって撮像し、得られた階調画像データを二値化処理部２０によって二値化し、縮小・拡大処理部２４で縮小・拡大処理した後、領域抽出部２６において二値化画像の各領域を抽出する。 - 特許庁 - To provide a method for analyzing failure position information, capable of accurately analyzing the cause of the failure in a manufacturing process, by accurately determining the failure position information (wafer map), even in the case where the size ratio of a wafer size to a chip size is large in the measurement of a semiconductor wafer.
半導体ウエハの測定で、ウエハサイズとチップサイズのサイズ比が大きい場合でも、不良位置情報（ウエハマッフ°）を正確に判断し、それにより製造工程の不具合原因を正確に解析するすることができる半導体ウエハの不良位置情報の解析方法。 - 特許庁 - To provide a pressing apparatus for test materials, capable pressing the test materials such as a test cast slab or a steel ingot under various conditions in order to research and study a change in texture generated in a process for applying plastic working such as rolling to the test materials such as the cast slab or steel ingot.
鋳片や鋼塊などの試験材に圧延などの塑性加工を加える過程で生ずる組織変化等を調査・研究するために試験鋳片や鋼塊などの試験材に対し種々の条件で圧下を加えることができる試験材の圧下装置を提供する。 - 特許庁 - A single-crystalline semiconductor layer, provided with tensile strain, is used as an active layer in one transistor and a single-crystalline semiconductor layer, provided with compression strain making use of a part of thermal shrinkage generated in the heating process of a supporting substrate after jointing, is used as an active layer in the other transistor.
一のトランジスタは、引っ張り歪が与えられた単結晶半導体層を活性層として用い、他のトランジスタは、接合後に支持基板の加熱処理によって生ずる熱収縮の一部を利用した圧縮歪が与えられた単結晶半導体層を活性層として用いる。 - 特許庁 - To provide an HGA which having an actuator for micropositioning of a head element which can increase a resonance frequency, can be improved in a wind disturbance characteristic, can be enhanced in the impact strength to a Z direction, can make the tolerance of load smaller and is simple in production process steps.
共振周波数を高めることができ、風乱特性を向上させることができ、Ｚ方向への耐衝撃性を高めることができ、さらに、荷重の公差を小さくすることができしかも製造工程が簡易となるヘッド素子の微小位置決め用アクチュエータを備えたＨＧＡを提供する。 - 特許庁 - In a conveyance process, post-exposure baking (PEB) is performed to the substrate W which is subjected to cleaning and drying treatment in a cleaning/drying treatment unit at a cleaning/drying treatment section 80, at a heat treatment section 151 for post-exposure baking in a cleaning/drying treatment block 15.
洗浄／乾燥処理部８０の洗浄／乾燥処理ユニットで洗浄および乾燥処理が施された基板Ｗが、洗浄／乾燥処理ブロック１５の露光後ベーク用熱処理部１５１において露光後ベーク（ＰＥＢ）を施されるまでの搬送工程は以下の通りである。 - 特許庁 - When a boron nitride film in which a c-BN content is ≥50% is deposited on a base material by a physical vapor deposition process using a target material comprising boron in an atmosphere including an inert gas, the film deposition is performed in a mixed gas atmosphere mixed with at least two kinds of Ar and He.
基材に、不活性ガスを含む雰囲気中でホウ素を含むターゲット材料を用いた物理蒸着法でｃ−ＢＮの含有率が５０％以上である窒化ホウ素膜を成膜する際、少なくともＡｒとＨｅの２種が混合された混合ガス雰囲気中で成膜を行う。 - 特許庁 - In this digital video camera, a flash memory 20 incorporated in the digital video camera 1 is separated into a ROM area 22 and a RAM area 24 and is controlled by a memory controller 40, and the application software with which the information device can process previously picked-up image data is stored in the ROM area 22.
デジタルビデオカメラ１に内蔵されたフラッシュメモリー２０を、メモリーコントローラー４０によってＲＯＭ領域２２とＲＡＭ領域２４に区画して制御するとともに、ＲＯＭ領域２２には予め撮影した動画データを情報機器側で扱うためのアプリケーションソフトを格納しておく。 - 特許庁 - To provide a drum washing machine, easily confirming the flowing of foreign matter in a groove formed in a bellows part of a packing member and easily removing the foreign matter in a washing process, and, if the foreign matter flows together with water into a machine body, discharging only water with the foreign matter left as it is.
洗濯過程において、パッキン部材のベローズ部に形成された溝に異物が流入することを容易に確認し、異物を容易に取り除くとともに、異物が水と共に本体に流入する場合、異物はそのまま残して水のみを排水するためのドラム洗濯機を提供する。 - 特許庁 - In a process of heating a substrate where a resist pattern is formed, a heat-treatment temperature is set again according to a result T obtained by measuring the temperature of a heat-treating apparatus so that the quantity of variation in pattern size due to a heat treatment reaches a desired value in the middle of the heat treatment.
レジストパターンを形成した基板を加熱処理する工程において、加熱処理装置１８の温度測定した結果Ｔに基づいて、加熱処理の途中で、加熱処理によるパターン寸法の変化量が所望の値となるように、加熱処理温度を再設定する。 - 特許庁 - To provide a developing device, a process cartridge, and an image forming apparatus in which an opening is not stopped up by a developer after a sealing member is removed and in which the developer is securely supplied to a device main part even when the developer stored in a developer storage part is solidified.
現像剤収容部に収容された現像剤が凝固した場合であっても、封止部材が取出された後の開口を現像剤が塞ぐことなく、装置主部に確実に現像剤が供給される、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - Accordingly, if a baking process is carried out under this condition, moisture contained in the organic flattening film 25 in which the luminous region 120 is formed is discharged from the upper surface after it is diffused in the organic flattening film 25 toward the non-luminous region 120 from the luminous region 110.
従って、この状態でベーク処理を行えば、発光領域１２０に形成されている有機平坦化膜２５が含有している水分は、有機平坦膜２５内を発光領域１１０から非発光領域１２０に向けて拡散した後、上面から放出される。 - 特許庁 - To appropriately carry out an image correcting process in response to an image type by continuously adjusting a correction amount with respect to image data in consideration of a natural picture look or a graphic picture look and not by simply discriminating the image type in a binary manner.
画像種別を単に二値的に判別するのではなく、自然画らしさあるいはグラフィック画らしさを考慮することで、画像データに対する補正量を連続的に調整し得るようにし、これにより画像種別に応じた画像補正処理を適切に行うことを可能にする。 - 特許庁 - To provide a high-pressure mercury lamp which sets a distance between an electrode barrel part and glass in a predetermined range even when fluctuation is generated in glass contraction in a process of sealing a space between an electrode and a coil, and prevents the electrode and the coil from influencing each other even when they contact each other.
電極とコイルとの間の隙間が封止工程時におけるガラスの収縮にばらつきが生じても電極胴部とガラスとの間隔を所定の範囲とすることができ、電極とコイルとが接触しても影響が互いに及ぼし合うことがない、高圧水銀ランプを提供する。 - 特許庁 - To make a paste film formed on a glass substrate to be able to be dried sufficiently by preventing the formation of a dried coating film on the surface of the paste film in a state where an organic solvent is left in the paste film at the time of drying the paste film in the manufacturing process of a plasma display panel.
プラズマ・ディスプレイ・パネルの製造工程において、ガラス基板の上に形成されたペースト膜を乾燥するに際し、ペースト膜の内部に有機溶媒が残存した状態でペースト膜表面に乾燥した皮膜が形成されることを防止して、ペースト膜が十分に乾燥されるようにする。 - 特許庁 - In installation processing, it is decided whether a control program in a host computer 3000 needs to be restarted and when it is decided in the decision process that the restart is necessary, control over the computer for displaying a display picture urging, for example, the restart and so on is performed.
インストール処理において、ホストコンピュータ３０００内の制御プログラムの再起動の要否を判定し、前記判定工程において再起動が必要であると判断された場合には、例えば再起動を促す表示画面を表示する等のコンピュータの制御を行う。 - 特許庁 - In the operation of an ion exchange membrane process salt electrolyzing cell mounted with an oxygen cathode, each cathode frame and each anode frame in the electrolyzing cell are provided with electric contacts, their respective single cell voltage is measured, and it is operated in such a manner that the voltage is controlled to ≤2.38 V.
酸素陰極を装着したイオン交換膜法食塩電解槽の運転において、電解槽の各陰極フレームと各陽極フレームに電気接点を設け、それぞれの単槽電圧を測定し、その電圧が２．３８Ｖ以下で運転する食塩電解槽の運転方法。 - 特許庁 - An SiON film (gate insulation film) 3 having a thickness of 3.0 nm is formed and then an ultraviolet light irradiation process is performed in which ultraviolet light having energy larger than the band gap of the insulation film 3 is applied to the SiON film 3 to generate electrons in the insulation film 3 to join the electrons to immobile positive charges in the insulation film 3.
厚さ3.0nmのSiON膜（ゲート絶縁膜）３を形成し、次いで、絶縁膜のバンドギャップ以上のエネルギーを有する紫外光を、SiON膜３に照射して、絶縁膜中に電子を発生させて絶縁膜中の非移動性の正電荷と結合させる紫外光照射工程を行う。 - 特許庁 - To correctly process a file selected by a user even when a file difficult to be normally processed is recorded in a recording medium in application to processing of a movie file recorded in, e.g., a QuickTime format regarding a recording device, a reproducing device and a file management method.
本発明は、記録装置、再生装置、ファイル管理方法に関し、例えばQuick Time形式で記録したムービーファイルの処理に適用して、正常に処理困難なファイルが記録媒体に記録されている場合でも、ユーザーの選択したファイルについては正常に処理することができるようにする。 - 特許庁 - The phase distribution I(x, y) is calculated in a step 101 and the max. and min. values of the phase distribution I(i, j) are detected along the parallel lines in the x-axis direction virtually drawn on the plane where a diffraction optical element is mounted in the process of steps 102 to 115.
ステップ１０１において位相分布Ｉ（ｘ、ｙ）を演算し、ステップ１０２〜１１５の処理によって、回折型光学素子が置かれる平面上に仮想的に引かれた互いに平行なｘ軸方向の線に沿って、位相分布Ｉ（ｉ、ｊ）の極大値及び極小値を検索する。 - 特許庁 - To reduce threading dislocation density and surface roughness, and prevent roughness of a surface and an interface from being deteriorated in the case of heat treatment in a device manufacturing process or the like, in the method for a semiconductor substrate, the method for manufacturing a field effect transistor, a semiconductor substrate and a field effect transistor.
半導体基板の製造方法及び電界効果型トランジスタの製造方法並びに半導体基板及び電界効果型トランジスタにおいて、貫通転位密度が低く、表面ラフネスが小さいと共に、デバイス製造工程等の熱処理時における表面や界面のラフネスの悪化を防ぐこと。 - 特許庁 - To provide a batter mix for freeze-dried tempura, excellent in reconstitution in hot water, and enabling obtaining freeze-dried tempura to become tempura with excellent palate feeling and appearance by pouring hot water, in an easy process at good production efficiency; to provide batter using the mix; and to provide a method for producing freeze-dried tempura.
湯戻りが良く、熱湯を注ぐことにより食感及び外観の良好な天ぷらとなる凍結乾燥天ぷらを、簡単な工程で製造効率良く得ることができる、凍結乾燥天ぷら用バッターミックス及び該ミックスを用いたバッター、凍結乾燥天ぷらの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The temperature of the external heat load device 7 is measured by either of a temperature sensor 72 installed in a process chamber, a temperature sensor 23 set in a constant temperature circulating liquid supply pipe or a temperature sensor 24 installed in a constant temperature circulating liquid return pipe, and feedback control of the valve opening of the three-way valve 20 is performed.
外部熱負荷装置７の温度はプロセスチャンバーに設置された温度センサー７２，恒温循環液供給管に設置された温度センサー２３、恒温循環液戻り管に設置された温度センサー２４の何れかで計測されて、三方弁２０の弁開度をフィードバック制御する。 - 特許庁 - The manufacturing method for the seed crystal comprises a process in which the substrate is immersed in an aqueous solution comprising water, zeolite materials, and a template component and containing 0.6-4.0 mass% SiO_2 component to crystallize the multilayered seed crystal oriented in a desired direction on the surface of the substrate.
本種結晶の製造方法は、水とゼオライト原料と構造規定成分とを配合してなり、ＳｉＯ_２成分は０．６〜４．０質量部である水溶液内に、基体を浸漬し、基体表面に対して所定の方向に配向する複層化された種結晶を析出させる工程を備える。 - 特許庁 - In addition, the orientation process for the liquid crystal is performed such that the angle between the long axial direction of each liquid crystal molecule with a voltage applied thereto and the direction of an electrical force line formed in the liquid crystal layer with a voltage applied thereto does not exceed 90° in the vicinity of the vertical faces of the projecting structure.
また、突起構造の垂直面の近傍で、電圧を印加しない状態における液晶分子の長軸方向と、電圧を印加した状態で液晶層に形成される電気力線の方向とのなす角度が、９０度を超えないように、液晶の配向処理がなされている。 - 特許庁 - The method is employed in cleaning a filter medium 18 by causing a part of treating water after filtering to pass in the direction opposite to the filtering direction with respect to the medium 18 and has a process of adding, before filtering, a disinfectant to raw water to be used in cleaning.
このろ材の洗浄方法は、ろ材１８に対してろ過後の処理水の一部をろ過方向と逆の方向に通過させてろ材１８を洗浄する洗浄方法であって、洗浄に用いる原水に対してのみろ過前に殺菌剤を添加する工程を有する。 - 特許庁 - Consequently, in a partition wall obtained after a development process, area on the side facing a second substrate of the partition wall is larger than area of the contact surface in which the opposite surface and the partition wall of the first substrate 18 are made in contact with each other and the adverse effect of the partition wall exerted on the display is reduced.
したがって、現像工程後に得られる隔壁は、第一基板１８の対向面と隔壁とが接触する接触面の面積よりも隔壁の第二基板と対向する側の面の面積の方が大きく、表示に及ぼす隔壁の悪影響を低減できる。 - 特許庁 - The invention applies to a layout picture plane display part 6 for making a layout setting in order to process a lens for glasses, in which a start button 58 for giving a command to start processing is used to make changing-over from the preview picture plane into the layout plane, whereby the lens is processed through setting of the layout in order to make lens processing.
眼鏡レンズ加工のためのレイアウトの設定を行うためのレイアウト画面表示部６において、加工開始指令のためのスタートボタン５８を、プレビュー画面をレイアウト画面への切り換えに用い、眼鏡レンズ加工のためにレイアウトの設定を行い、眼鏡レンズを加工する。 - 特許庁
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