「In Process」を含む例文一覧(50000)

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  • In the process of changing the viscosity of the resin precursor 46, the viscosity of the tip portion of the resin precursor 46 which flows toward the cuts 44 is made higher than the viscosity of the resin precursor 46 of other areas.
    樹脂前駆体４６の粘性を変化させる工程で、切れ目４４に向かって流動する先頭部分の樹脂前駆体４６の粘性を、他の部分の樹脂前駆体４６の粘性よりも高くする。 - 特許庁
  • To provide a multichip module in which the function of a memory chip can be altered at the time of mounting the memory chip having external connection terminals formed by wafer process on a wiring board or after the memory chip is mounted thereon.
    ウエハプロセスで外部接続端子を形成したメモリチップを配線基板に実装する際、または実装した後に、前記メモリチップの機能を変更することができるマルチチップモジュールを提供する。 - 特許庁
  • In this way, as the state of the output signals of the clearing switch is confirmed before a delaying process for adjusting the order of start-up, clearing of the power backup data can be prevented with only one board.
    このように、立ち上がり順序の調整のための遅延処理の前にクリアスイッチの出力信号の状態を確認するので、一方の基板だけで電源バックアップデータがクリアされることを防止できる。 - 特許庁
  • When the target pixels are color image data, it is highly possible that the pixel data within a range of 602 to 605 are other than (Y, M, C) = (FF, FF, FF ), then the data are printed in a process black.
    対象となっている画素が、カラーの画像データであったならば、６０２〜６０５の範囲の画素データは（Ｙ、Ｍ、Ｃ）＝（ＦＦ、ＦＦ、ＦＦ）以外である可能性が高いのでプロセスブラックで印刷する。 - 特許庁
  • The marking indication content 100 is first drawn and indicated on the surface of a marking indication object 500 with a black color-based paint that is easy to be burned out with a laser irradiation in an indication content pre-indication process.
    まず、表示内容前表示工程で、マーキング表示対象物500 の表面にマーキング表示内容100 を、レーザー照射により焼失しやすい黒色系塗料により描画、表示する。 - 特許庁
  • Inspection conditions of one liquid crystal display panel 10 are set during the time when another liquid crystal display panel 10 is inspected, so that the time required in the inspection process of the liquid crystal display panel 10 is shortened.
    1個の液晶表示パネル１０が検査されている間に他の液晶表示パネル１０の検査条件がセットされるので、液晶表示パネル１０の検査工程時間が短縮される。 - 特許庁
  • After the process of CTS in a layout flow is completed(2), longest wiring lengths from a CTS final stage buffer to FF concerning each CTS are inspected(3) and the average l of the lengths is obtained(4).
    レイアウトフローにおけるＣＴＳの工程が終了した後、各々のＣＴＳについて、ＣＴＳ最終段バッファからＦＦまでの最長配線長を調べ、最長配線長の平均値ｌを求める。 - 特許庁
  • To provide a device for measuring and classifying a crystal piece which can safely and stably supply and convey a very thin crystal piece without breaking and chipping it in a process of supply and conveyance.
    極薄水晶片を供給や搬送の過程で割ったり欠いたりすること無く、安全で、安定に供給搬送することができる水晶片測定分類装置を提供することにある。 - 特許庁
  • When performing a fuel property (cetane number) estimating process, a fuel injection amount QINJ is calculated according to an operating condition of the engine with respect to cylinders other than a cylinder #1 in which the cetane number is estimated.
    燃料性状（セタン価）の推定処理を実行する場合において、セタン価推定を行う気筒＃１以外の気筒については、機関運転状態に応じて燃料噴射量ＱＩＮＪを算出する。 - 特許庁
  • When either of the switch valves 205, 205a of the brake circuits 220, 230 are opened or in an opening process, the pumps 203, 203a are stopped.
    操作信号からおよび／またはその形成から与えられる弁位置を考慮しておよび／またはかかっている圧力特性を考慮してポンプの供給出力が状況に合わせて適合される。 - 特許庁
  • To provide a thin film transistor (TFT) array substrate with which its manufacturing process is simplified and its manufacturing cost is saved by using an exposure mask four times in all and forming the TFT array substrate, and a method for manufacturing the TFT array substrate.
    露光マスクを総４回用いて薄膜トランジスタアレイ基板を形成し、工程を簡素化して工程費用を節減できるＴＦＴアレイ基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • In an S/D extension region forming process which is carried out after a gate electrode 4 is formed, a PMOS region is covered with a resist 5, As or P ion implanted into an NMOS region at a low acceleration speed.
    ゲート電極４が形成された後のＳ／Ｄエクステンション領域形成工程において、ｐＭＯＳ領域をレジスト５で覆い、ｎＭＯＳ領域にＡｓまたはＰの低加速注入を行う。 - 特許庁
  • A process in which 2-3 glass fiber mats are laminated while being impregnated with the synthetic resin is repeated at least three times to form the resin mat layer comprising three or more resin mat thin layers a, b and c.
    この場合、２〜３枚のガラスマットを合成樹脂を含浸させつつ積層する工程を３回以上行って３層以上の樹脂マット薄層ａ，ｂ，ｃからなる樹脂マット層を形成する。 - 特許庁
  • To make a biological tissue transparent without requiring a further dehydration clarifying process in a known technique by providing a water-soluble tissue clear solution, thereby perfectly making the biological tissue transparent.
    水溶性組織清澄溶液を提供し、これにより生物組織を完全に透明化し、周知の技術における、更なる脱水清澄過程を必要とせず、組織を透明とすることができるようにする。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device and a high-frequency amplifier provided with the same, by which a manufacturing process is simplified, a high-frequency gain is improved and an increase in a chip area is blocked.
    製造工程を簡単にすることができると共に、高周波利得を向上させるできて、しかもチップ面積の増大を阻止できる半導体装置およびそれを備えた高周波増幅器を提供する。 - 特許庁
  • To provide a lithographic printing original plate, with which printing can be performed without developing process after being exposed to light, which is excellent in plate wearability, a few scumming, a favorable repellency or the like.
    露光後、現像処理を行うことなく印刷することが可能であって、耐刷性に優れ、しかも地汚れが生じにくく、払い性も良好な平版印刷用原板を提供することである。 - 特許庁
  • To provide a work guide which does not need to process a slit for fixing the work guide in a manner to be position-adjustable on a plate material, and can be manufactured by a minimum welding even when welding is performed.
    ワークガイドを位置調整可能に固定するための長孔を板材に加工する必要がなく、溶接を行う場合でも最小の溶接で製作することができるワークガイドを提供する。 - 特許庁
  • Caulking process of the shaft 11 is performed simultaneously on both ends by punches 21, 2 in a receiving side and a pushing side with shifting the shaft 11 to make one end thereof withdraw from an outer surface of one of the opposing wall parts 4a.
    軸１１のかしめ加工は、軸１１を一端が一方の対向壁部４ａの外面よりも引っ込むようにずらせておき、受け側と押し側のポンチ２１，２２で両端同時に行う。 - 特許庁
  • To discriminate conveyance abnormality with high accuracy by recognizing the conveyance abnormality of a cut sheet immediately before the next process, and detecting the presence of the cut sheet positively even if a binding hole is formed in the periphery of the cut sheet.
    カット紙の搬送異常を、次工程の直前まで認識することができ、かつカット紙の周縁に綴じ穴があっても確実にカット紙の有無を検出でき、精度よく搬送異常を判別する。 - 特許庁
  • To provide a method and an apparatus which bind properties in a process control system, track and propagate the change of the property, and update binding reference of the property, and to provide a machine accessible medium.
    プロセス制御システムにおける構成要素のプロパティを結合し、プロパティの変更を追跡・伝播してプロパティの結合参照を更新する方法、装置、及び機械アクセス可能記憶媒体を提供する。 - 特許庁
  • The abrasive pad for a chemical-mechanical polishing process is pre-processed by soaking in a hydrophilic processing fluid for a prescribed time before it is mounted onto the chemical-mechanical polishing device.
    化学機械研磨工程において使用される研磨パッドを化学機械研磨装置に装着する前に、親水性の処理液に所定時間浸漬して、前処理することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁
  • To provide a highly reliable micro-lens substrate for a liquid crystal display device, capable of preventing deflection or exfoliation on an adhesive interface or the like, even if a heating treatment is executed in a manufacturing process of the liquid crystal display device.
    液晶表示装置の製造工程で加熱処理を行っても歪みや接着剤界面での剥離等の生じない、信頼性の高い液晶表示装置用マイクロレンズ基板を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a complex metallic product with a film superior in quality and adhesiveness, and a composite metal which satisfies all required characteristics like a film forming speed, convenience of a process, a low environmental load and so on.
    膜質、皮膜の密着性に優れた複合金属製品と成膜速度、プロセスの簡便性、環境低負荷などの要求特性を全て満足する複合金属の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • In a first process, a pair of wires 22, 22 to be twisted are pulled out toward a drum 24 while passing them through wire passing parts 26, 26 disposed at a desired interval H.
    第一工程は、ツイストするための一対の電線２２、２２の各々を、所望の間隔Ｈの配置となる電線通過部２６、２６を通過させつつドラム２４に向けて引き出すようになっている。 - 特許庁
  • A sensor unit 12 of a measurement waiting state after the completion of a fixing process, together with a holder 52, is mounted on each shelf board 92, thereby matching the temperature of each sensor unit 12 with the ambient temperature in the case 75.
    各棚板９２に、固定工程が完了した測定待機状態のセンサユニット１２をホルダ５２ごと載置することにより、各センサユニット１２の温度が筐体７５内の雰囲気温度に合わせられる。 - 特許庁
  • This method is provided with a process for adjusting defect detection sensitivity so as to detect the defect in the desired size while using a standard sample prepared by programming the size and position of the defect beforehand.
    本発明は、予め欠陥の大きさと位置をプログラムして作製した標準試料を用いて所望の大きさの欠陥を検出するように欠陥検出感度を調整する工程を備えている。 - 特許庁
  • The capacitor is manufactured by a method wherein the deposit of a dielectric material is effected with a speed less than 0.1 nm/s, and the substrate 4 is heated at a temperature lower than 500°C in a dielectric film forming process.
    誘電体膜形成工程において、誘電体材料の蒸着を０．１ｎｍ／ｓ以下の速度で行い、基板４を５００℃以下の温度で加熱するコンデンサの製造方法である。 - 特許庁
  • To provide a dry film removing device capable of enhancing its operation rate by preventing the residues from the removed dry film from falling onto a partitioning wall of a neutral chamber of the removing device and depositing in the manufacturing process of a plasma display panel.
    プラズマディスプレイパネルの製造工程において、ドライフィルム剥離カスが剥離装置のニュートラル槽仕切り壁上に落下して堆積することを防止し、剥離装置の稼働率向上を図る。 - 特許庁
  • To provide an electronic device history tracing method capable of surely achieving traceability without probability of separation of a production information recording means recording production information in a producing process or after shipping.
    生産情報を記録した生産情報記録手段が生産過程や、出荷後に外れる恐れ等がなく、確実にトレーサビリティーが取れる電子機器履歴トレース方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The remaining capacity calculation correction and control device 8 controls turning on of an AC switch 9 to fully charge the secondary battery provided in a battery pack 2 and thereafter turns off the AC switch 9 for a discharge process.
    残量演算修正制御装置８は、ＡＣスイッチ９をＯＮに制御して電池パック２が備える二次電池を満充電にした後、ＡＣスイッチ９をＯＦＦにして放電に切り換える。 - 特許庁
  • In a CVD oxide film annealing process carried out under a temperature of 900°C or higher, the phosphorus glass film gets into a fluidic reflow state, which thus functions as a buffering material between the thermally oxidated film and the CVD oxide film.
    ９００℃以上で行われるＣＶＤ酸化膜のアニール処理時には、リンガラス膜がリフロー流動状態となり、熱酸化膜とＣＶＤ酸化膜と間で緩衝材として機能する。 - 特許庁
  • (3) When an Association is to process Registration Affairs pursuant to the provisions of paragraph (1), it shall stipulate the matters concerning the registration of Sales Representatives in its articles of incorporation and obtain the approval of the competent minister.
    ３　協会は、第一項の規定により登録事務を行うこととしたときは、その定款において外務員の登録に関する事項を定め、主務大臣の認可を受けなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • (2) Notwithstanding the provisions of the preceding paragraph, a part of inspection for design or manufacturing process may not be performed for designs pertaining to supplemental type design or aircrafts pertaining to those designs listed in the following:
    ２　前項の規定にかかわらず、次に掲げる追加型式設計に係る設計及びその設計に係る航空機については、設計又は製造過程について検査の一部を行わないことができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • In an MFP(Multifunction Peripheral)-side scan process, when a start operation by a user or a read instruction from a PC is input (S105 or S110: YES), an image on a document mounted on a document stand is scanned to generate image data (S120).
    ＭＦＰ側スキャン処理では、ユーザによる開始操作又はＰＣからの読取指令が入力されると（S105 or S110; YES）、原稿台に載置されている原稿上の画像をスキャンして画像データを生成する（S120）。 - 特許庁
  • To provide a new exposure method for a printing plate, by which the whole process can be carried out in a light room and no unwanted images occur, even though the sensitivity can be kept high, without going through a development step.
    プロセスの全体が明室で行え、現像工程を経ることなく、感度を高く維持することが可能でありながら、不要画像の発生がない、新規な印刷版の露光方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide an information terminal device permitting to be dust-proof without using a dust-proof cushion, and be reduced in power consumption, and simplify an assembly process.
    本発明は、防塵クッションを使用することなく防塵を実現でき、コストを低減できるとともに組立て工程を簡略化することができる情報端末装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
  • To provide a high voltage generator which can be assembled with less man-hour and without the possibility of disconnection and deformation of a high voltage output lead and the leakage of an insulating resin in an assembly process.
    組立工程にて高圧出力リード線に断線や変形を生じたり、絶縁樹脂が漏れ出る虞がなく、然も少ない工数で組立を行なうことが出来る高圧発生装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a positive type photosensitive composition improved in a LWR, an exposure latitude and an MEEF, and fit to a liquid immersion process, of 45 nm of line width, and to provide a pattern forming method which use the composition.
    ＬＷＲ、露光ラチチュード、ＭＥＥＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合したポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
  • If the CD is in a data recording state where correct reading is possible (S13:YES), a track type determining section recognizes the track as a data track including a sector and performs error detecting and correcting process (S14).
    ＣＤが、正確に読取可能なデータ記録状態であれば（Ｓ１３でＹＥＳ）、トラック種判定部が、当該トラックをセクタを含むデータトラックとして認識しエラー検出訂正処理を行う（Ｓ１４）。 - 特許庁
  • To provide a payer management system where abnormality is determined on the side of a payment machine when a payer does not carry out a payment process in a predetermined payment machine within a predetermined time based on a set signal of a shop.
    入金者が、店舗のセット信号を基点とした所定時間内に所定の入金機に入金処理されない場合に入金機側にて異常判定する入金者管理システムを提供する。 - 特許庁
  • In this process, resin is applied to the surface of the side of the ABS of the bar 102 (S3) and the thickness of the resin is made thin with solvent (S4) and the bar 102 with the resin applied is etched from the side of the resin (S5).
    この工程では、バー１０２のＡＢＳ側の面に樹脂を塗布し（Ｓ３）、この樹脂の厚さを溶剤で薄くし（Ｓ４）、この樹脂が塗布されたバー１０２を、樹脂の側からエッチングする（Ｓ５）。 - 特許庁
  • The relation 1≤D_H-D_B≤5 (wherein, the beam diameter of the electron beam is D_B[mm]; and the inner diameter of the opening part of the housing device is D_H[mm]) is satisfied in a process for forming the coating 3.
    被膜３を形成する工程における、電子ビームのビーム径をＤ_Ｂ［ｍｍ］、前記収納器の前記開口部の内径をＤ_Ｈ［ｍｍ］としたとき、１≦Ｄ_Ｈ−Ｄ_Ｂ≦５の関係を満足する。 - 特許庁
  • In a drawing process, supplying a driving current (including a standby current) is interrupted to motors 71a, 72a, 73a, limit sensors 71d, 71e, 72d, 72e, 73d, 73e, and an encoder 73f placed near the optical path of a projection optical system.
    描画処理時に、投影光学系の光路の近傍に配置されたモータ７１ａ，７２ａ，７３ａ、リミットセンサ７１ｄ，７１ｅ，７２ｄ，７２ｅ，７３ｄ，７３ｅ、およびエンコーダ７３ｆへの駆動電流（待機電流を含む）の供給を遮断する。 - 特許庁
  • The microwave firing furnace gives a drying process to a body to be fired before a biscuit firing or a great firing is given, when the body to be fired placed in the cavity of the furnace is fired by microwave radiation.
    マイクロ波焼成炉は、マイクロ波の輻射によってキャビティ内の被焼成体を焼成する際に、被焼成体の素焼き工程又は本焼き工程に先立って乾燥工程を実施する。 - 特許庁
  • Thereby, e.g. in the production process of a small diameter ball, such nonconformity that smooth processing of the small diameter ball is disturbed by sticking of the ball to a device (e.g. a vessel) caused by static electricity can be suppressed.
    これにより、例えば小径ボール等において、製造中にボールが静電気により装置（例えば容器）用に付着してスムーズな工程進行が妨げられたりする不具合が生じにくくなる。 - 特許庁
  • To provide a method for estimating a number and a position of a power pads, which enables a designer to cut a design cost by shorting a design time period as a result of eliminating a redesign process in a design flow.
    設計フローにおける手戻り工程を少なくし、設計期間の短縮、延いては設計コストの削減を図ることのできる電源パッドの数及び位置見積もり方法を提供する。 - 特許庁
  • This game machine changes the number of times (a round number) by which a big winning port is opened to each big jackpot in three kinds, 5 times, 10 times and 15 times, depending on a drawing result by a round number drawing process (S411).
    １回の大当たりに対して大入賞口が開放される回数（ラウンド数）は、ラウンド数抽選処理（Ｓ４１１）による抽選結果によって、５回、１０回、１５回の３種類に変化させる。 - 特許庁
  • In a process for producing malted rice from Tokomomi (floor rubbing) for sprinkling seed malt on steamed rice to a discharge of malted rice for discharging a prepared malted rice from a malted rice chamber, the steamed rice sprinkled with the seed malt is irradiated with a light, preferably a red light.
    蒸米に種麹をふる床もみから、でき上がった麹を麹室から出す出麹までの製麹工程において、好ましくは赤色光である光を種麹をふった蒸米に照射する。 - 特許庁
  • Furthermore, the treatment method includes: a condensation step (primary step) of reusing the dehydrated solid matter to be generated in the fourth process as a gelatinizer; and a secondary step of minimizing the nuclear fuel substance.
    さらに、第４工程で生成する脱水固形物をゲル化剤として再々使用する濃縮工程（以下１次工程という）と、極小化する２次工程を附設することを特徴とする。 - 特許庁
  • After types of devices of which a power system is composed, and setting conditions are inputted in a step 107, if the display of a curve is commanded (103: C and 113: D), the process is transferred to a step 115.
    ステップ１０７にて、電力系統を構成するデバイスの機種や設定条件が入力された後、曲線の表示が指示されると（１０３：Ｃ，１１３：Ｄ）ステップ１１５へ移行する。 - 特許庁
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