「In process」を含む例文一覧(50000)

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  • To shorten a manufacturing process for forming a ridge in a semiconductor layer.
    半導体層にリッジ部を形成する際の製造プロセスを短縮化する。 - 特許庁
  • To reduce a gas enclosed in imprint layers during imprinting process.
    インプリンティング・プロセス中にインプリント層に閉じ込められるガスを減少させる。 - 特許庁
  • A self-transition section 152 performs self-transition of each state hypothesis in search process.
    自己遷移部１５２は、探索過程で各状態仮説を自己遷移させる。 - 特許庁
  • Object data after a geometry process (after perspective conversion) are saved in a main memory.
    ジオメトリ処理後（透視変換後）のオブジェクトデータをメインメモリに保存しておく。 - 特許庁
  • CLEANING EQUIPMENT FOR WATER STORAGE FACILITY AND CLEANING PROCESS OF STORED WATER IN THE WATER STORAGE FACILITY
    貯水施設の浄化装置及び貯水施設の貯水の浄化方法 - 特許庁
  • In the preparation process, it is preferable that a compound semiconductor wafer is prepared.
    準備工程では、化合物半導体ウエハを準備することが好ましい。 - 特許庁
  • To execute a reforming process thermally optimally in a smaller space.
    熱的に最適に且つより小さい空間内で改質プロセスを実行する。 - 特許庁
  • In the process, a mixed solution of phosphoric acid and sulfuric acid is used as an etchant.
    このとき、エッチング液として、リン酸および硫酸の混合液を用いる。 - 特許庁
  • At the completion of a process, the processed wafer is housed in the cassette.
    プロセスが終了した後、処理されたウェハを前記カセット内に収容する。 - 特許庁
  • ACRYLIC RESIN FILM IMPROVED IN APPEARANCE DESIGN CHARACTERISTICS AND PRODUCTION PROCESS THEREOF
    外観意匠性を改善したアクリル系樹脂フィルムおよびその製造方法 - 特許庁
  • Thus, in the electrolytic washing process, mainly stains of the washing are removed.
    このように、電解洗い行程では主に洗濯物の汚れが落とされる。 - 特許庁
  • An ECU 100 executes ignition control process in an engine system 10.
    エンジンシステム１０において、ＥＣＵ１００は点火制御処理を実行する。 - 特許庁
  • To easily cope with an increase in process information for a wire harness production system.
    ワイヤハーネス製造システム用の工程情報の増加に容易に対応する。 - 特許庁
  • To reduce delay in the calculation process time of a parallel computer system.
    並列計算機システムにおける計算処理時間の遅延を少なくする。 - 特許庁
  • A left-right (LR) transition section 153 performs LR transition of each state hypothesis in the search process.
    LR遷移部１５３は、探索過程で各状態仮説をLR遷移させる。 - 特許庁
  • To precisely detect a temperature of a substrate holder in a substrate bonding process.
    基板貼り合せ過程における基板ホルダの温度を精度よく検出する。 - 特許庁
  • In the cleaning process, the board 11 with solder bumps formed thereon is cleaned.
    洗浄工程では、はんだバンプが形成された基板１１を洗浄する。 - 特許庁
  • To perform the correction of an MR signal frequency and a filtering process in a short time.
    ＭＲ信号周波数の補正とフィルタリング処理を短時間で行なう。 - 特許庁
  • To provide techniques to improve the acquisition process in a spread spectrum environment.
    拡散スペクトル環境における捕捉プロセスの改善技術を提供する。 - 特許庁
  • To efficiently improve the processing of each process in accordance with resource status.
    リソースの状況に応じてプロセスごとの処理を効率良く向上させる。 - 特許庁
  • To fill resin more evenly than before in the resin sealing process of a MAP.
    ＭＡＰの樹脂封止工程において、樹脂をより均一に充填する。 - 特許庁
  • To process PDL data in parallel on a language level step.
    ＰＤＬデータを言語レベルの段階で並列処理することを可能にする。 - 特許庁
  • To provide a production process for levodione of high purity in high yield by a microorganism.
    微生物による、高純度レボディオンの高収率製造方法の提供 - 特許庁
  • To improve filling speed of an electrolytic liquid in a battery assembling process.
    電池組立工程における電解液の注液速度を向上させる。 - 特許庁
  • To obtain a method to remove metallic contamination substance in substrate cleaning process.
    基板洗浄プロセスにおける金属汚染物質を除去する方法を得る。 - 特許庁
  • To provide a spring back factor analysis method in multi-process press molding.
    多工程プレス成形におけるスプリングバック要因分析方法を提供する。 - 特許庁
  • A composition useful for the using liquid in the process is provided.
    本発明は、また前記工程で使用液として有用な組成物に関する。 - 特許庁
  • To make an exhausted gas dust generated in a cement clinker- calcining process as a regenerated resource.
    セメントクリンカ焼成工程で発生する排ガスダストを再資源化する。 - 特許庁
  • METHOD OF DECIDING TUNING RATE IN COLD ROLLING PROCESS AND COLD ROLLING METHOD
    冷間圧延工程でのチューニング率の決定方法と冷間圧延方法 - 特許庁
  • WASTE LIQUID TREATMENT METHOD IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS AND SUBSTRATE TREATMENT DEVICE
    半導体製造工程における廃液処理方法、及び基板処理装置 - 特許庁
  • In the hating and kneading process, water is mixed by 0.05-0.5 mass%.
    上記の加熱混練工程にて水を０．０５〜０．５質量％配合する。 - 特許庁
  • PROCESS UNIT REPLACEMENT SYSTEM AND IMAGE FORMING APPARATUS USED IN THE SAME
    プロセスユニット交換システムおよびそのシステムで使用される画像形成装置 - 特許庁
  • In this process, the brushes 131 and 132 undergo gradual deformation.
    この過程で、ブラシ１３１及び１３２は徐々に変形していくことになる。 - 特許庁
  • In process E, the semi-cured gel is cooled to form a gel electrolyte membrane.
    工程Ｅでは、半硬化ゲルを冷却して、ゲル電解質膜を形成する。 - 特許庁
  • After wire extending process (S4, S5), the tensile force is applied in a warm state (S6).
    伸線工程（Ｓ４、Ｓ５）の後に温間で引っ張り力を付与する（Ｓ６）。 - 特許庁
  • To acquire and process data in response to an authentication request from a server.
    サーバからの認証要求に応えてデータを取得し、処理を行うこと。 - 特許庁
  • A process in the development includes a designing stage, an implementing stage, and a testing stage.
    開発のプロセスは設計段階、実装段階および試験段階を含む。 - 特許庁
  • In a third process, the preheated base material 19 is molded by a mold.
    第３工程では、予熱された基材１９が金型により成形される。 - 特許庁
  • The wooden chips are treated in an adsorption process by the heated steam of a fatty acid.
    木片チップに、脂肪酸を加熱した蒸気で吸着処理がしてある。 - 特許庁
  • There are no access methods and no control blocks in a typical UNIX user process.
    通常の UNIX ユーザープロセスには、 アクセスメソッド や コントロールブロックは存在しません。 - FreeBSD
  • Next, you will need to emerge distcc on all the machines that will be involved in the process.
    次に、行程に関わるすべてのマシンでdistccをemergeする必要があります。 - Gentoo Linux
  • changes the root directory of the calling process to that specified in path .
    は、呼び出し元プロセスのルート・ディレクトリをpathで指定されたディレクトリに変更する。 - JM
  • A list of the signals which cause a process to dump core can be found in signal (7).
    どのシグナルを受けたときにプロセスがコアダンプを生成するかのリストはsignal (7) - JM
  • The address pointed to by optval is not in a valid part of the process address space.
    optvalで指定されたアドレスがプロセスのアドレス空間の有効な部分ではない。 - JM
  • changes the I/O privilege level of the calling process, as specified in level .
    は呼び出し元のプロセスの I/O 特権レベルをlevelで指定した値に変更する。 - JM
  • resulting from references by the process to pages not loaded in core.
    そのプロセスによるコアにロードされていないページへの参照によるディスクI/O - JM
  • creates a new mapping in the virtual address space of the calling process.
    は、新しいマッピングを呼び出し元プロセスの仮想アドレス空間に作成する。 - JM
  • pathname is currently in use by the system or some process that prevents its removal.
    pathnameがシステムや別のプロセスにより使用中で削除することができない。 - JM
  • In the Projects window, the IDE adds a HelloSample.wsdl node under the Process Files node.
    「プロジェクト」ウィンドウで、IDE によって「HelloSample.wsdl」ノードが「プロセスファイル」ノードの下に追加されます。 - NetBeans
  • In the Projects window, expand the SynchronousSample node, then expand the Process Files node.
    「プロジェクト」ウィンドウで「SynchronousSample」ノードを展開し、さらに「プロセスファイル」ノードを展開します。 - NetBeans
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