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＜前へ 1 2 .... 975 976 977 978 979 980 981 982 983 .... 999 1000 次へ＞- A predetermined position is calculated based on movement information of a mobile body when a predetermined condition for causing an effect to generate within an object space is satisfied, a process is performed for disposing the effect object toward the predetermined position from a position where the effect is generated in the object space, and a process for producing an image which can be viewed from the virtual camera is performed.
オブジェクト空間内でエフェクトを発生させるための所定条件を満たした場合に、移動体の移動情報に基づいて、特定位置を算出し、オブジェクト空間において、エフェクト発生位置から特定位置に向かって、エフェクトオブジェクトを配置する処理を行い、仮想カメラから見える画像を生成する処理を行う。 - 特許庁 - The system and the method provide a unified set of model parameter values that result in better accuracy and robustness of simulations at nominal process conditions, as well as the ability to predict lithographic performance at any point continuously throughout a complete process window area without a need for recalibration at different settings.
システムおよび方法は、公称プロセス条件でのシミュレーションのよりよい精度および堅固性、ならびに、異なる設定での再キャリブレーションの必要なく、完全なプロセスウィンドウ領域全体に連続的にわたるいずれかの点でリソグラフィの性能を予測する能力を結果としてもたらす、統合された１組のモデルパラメータ値を提供する。 - 特許庁 - The method for forming the film includes a process for applying the coating liquid containing a melamine derivative, a resin having a functional group capable of reacting with the melamine derivative, a material having a hydrophobic group, and a solvent, onto the surface of the object and a process for reacting the melamine derivative with the resin contained in the coating liquid coated on the surface of the object.
膜の形成方法は、メラミン誘導体、メラミン誘導体と反応することが可能な官能基を有する樹脂、疎水性基を有する材料及び溶媒を含む塗布液を物体の表面に塗布する工程と、物体の表面に塗布された塗布液に含まれるメラミン誘導体と樹脂を反応させる工程を有する。 - 特許庁 - Here, even when a process for heat treatment is not specially performed additionally after the CeZrO film 125 is formed on the side face of the capacitor having been processed, heating is performed in a CVD process of forming an interlayer insulating film after the CeZrO film 125 is formed to supply oxygen to the PZT film 120 and the electrode of the capacitor.
但し、加工後のキャパシタ側面にＣｅＺｒＯ膜１２５を形成した後に、熱処理の工程をあえて追加して行わない場合であっても、ＣｅＺｒＯ膜１２５の形成後に層間絶縁膜を形成するＣＶＤ工程において加熱が行われ、ＰＺＴ膜１２０およびキャパシタの電極に酸素供給が行われることとなる。 - 特許庁 - The method for manufacturing the epitaxial wafer includes an epitaxial layer forming step of forming an epitaxial layer on a silicon wafer and a polishing step of polishing the main surface of the epitaxial wafer, and further includes a storing step of storing the wafer in a liquid up to just before the start of the polishing process after the epitaxial layer forming process.
シリコンウェーハ上にエピタキシャル層を形成するエピタキシャル層形成工程と、エピタキシャルウェーハの主面を研磨する研磨工程とを含むエピタキシャルウェーハの製造方法であって、エピタキシャル層形成工程後、研磨工程を行う直前まで、ウェーハを液体中で保管する保管工程を更に含むことを特徴とする、エピタキシャルウェーハの製造方法である。 - 特許庁 - There is disclosed a method for producing a cell comprising a passage process in which passage of a cell adhered to a cell culture carrier is produced as a cell adhered to a new cell culture carrier, wherein the cell culture carrier and a new cell culture carrier contain a microcarrier (A) with a specific polypeptide (P), and the passage process is as follows.
細胞培養担体に付着した細胞を新たな細胞培養担体に付着した細胞として継代させる継代工程を含む細胞の生産方法であって、細胞培養担体及び新たな細胞培養担体が特定のポリペプチド（Ｐ）を有するマイクロキャリア（Ａ）を含む細胞培養担体であり、継代工程が下記の工程である細胞の生産方法。 - 特許庁 - In the mandrel with the composite material structure formed closely attached to an outer peripheral face, a rotation process of rotating a pair of support rings to position one segment to be removed to the highest part; and a segment removing process of removing the segment to be removed set on the highest part from the pair of the rings are performed.
外周面に密着して複合材料構造物が形成されている状態のマンドレルにおいて、取外し対象である１個のセグメントを最上部に位置させるように、一対のサポートリングを回転させる回転工程と、最上部に位置した取外し対象の前記セグメントを、一対のサポートリングから取り外すセグメント取外し工程とが行われる。 - 特許庁 - In the hydrogen generation material generating hydrogen by contact with water and generating water by contact with hydrogen, a hydrogen storage metal storing-releasing hydrogen by oxidation-reduction is used as a matrix, and at least one of substances selected from metals and metal oxides is added to the surface of the hydrogen storage metal by an ALD (Atomic Layer Deposition) process or an LPD (Liquid Phase Deposition) process.
水の接触により水素を発生し、水素の接触により水を発生する水素発生材において、酸化還元によって水素を吸蔵・放出できる水素吸蔵金属を母材とし、前記水素吸蔵金属の表面に、金属又は金属酸化物の少なくとも一方の物質がＡＬＤ法又はＬＰＤ法を用いて添加されている。 - 特許庁 - The method and apparatus for monitoring during a dynamic process determine when effective measurements of thermal effusivity and/or thermal conductivity are made during a part of a cycle during a calibration stage, then measure thermal effusivity and/or thermal conductivity during a subsequent dynamic process in dependence upon a time delay value and a measurement duration value until a desired value is obtained.
動的プロセス中にモニタする方法及び装置は、熱浸透率及び／又は熱伝導率の効率的な測定が較正段階のサイクルの一部でいつ行われたかを判定し、所望の値が獲得されるまで時間遅延値及び測定持続値に基づいて次の動的プロセス中に熱透過率及び／又は熱伝導率を測定する。 - 特許庁 - The sterilizing cleaning method of the indoor unit of the air conditioner includes a process of forming a thin film of hydrogen peroxide water by spraying mist of hydrogen peroxide water to the indoor unit of the air conditioner, and a process of exposing the indoor unit of the air conditioner with the thin film of the hydrogen peroxide water to ozone containing gas in this order.
空気調和機室内機に過酸化水素水ミストを噴霧して過酸化水素水の薄膜を形成する工程と、前記過酸化水素水の薄膜が形成された空気調和機室内機をオゾン含有気体に曝す工程とをこの順序で含むことを特徴とする空気調和機室内機の殺菌洗浄方法とする。 - 特許庁 - A CPU 56 executes, in a common processing routine (special symbol processing): a process from the start of variation of a first special symbol based on winning into a first start pocket 13 to the stop of a stopping symbol; and a process from the start of variation of a second special symbol based on winning into a second start pocket 14 to the stop of a stopping symbol.
ＣＰＵ５６が、第１始動入賞口１３への入賞にもとづく第１特別図柄の変動開始から停止図柄の停止までの処理と第２始動入賞口１４への入賞にもとづく第２特別図柄の変動開始から停止図柄を停止するまでの処理とを共通の処理ルーチン（特別図柄プロセス処理）で実行する。 - 特許庁 - In response to the movement of the process cartridge which occurs when the process cartridge is removed from the body of the electrophotographic image forming device, a coupling member, which is capable of inclined and parallel movement relative to the rotational axis of a flange member, enters a concave section of the body-side engaging section provided on the body of the device and receives rotational force from the body-side engaging section.
電子写真画像形成装置本体からプロセスカートリッジを取り外す際のプロセスカートリッジの移動に応じて、フランジ部材の回転軸線に対し傾斜移動且つ平行移動が可能なカップリング部材が、前記装置本体に設けた本体側係合部の凹部の内側に進入し、本体側係合部から回転力を受ける。 - 特許庁 - To inspect shadow mask irregularity with a standardized method regardless of types of the shadow mask irregularity without being affected by components of the intensity distribution of transmitted light due to design which are present in the shadow mask to which an offset cone process or a grating process was performed.
シャドウマスクのむらの種類によらず統一した方法で、しかもオフセットコーン加工またはグレーティング加工が施されているシャドウマスクに存在する設計による透過光の強度分布の成分に影響されることなく、むらによる透過光の強度分布の成分を抽出することによって、シャドウマスクのむらを検査することを可能にする。 - 特許庁 - This manufacturing method of semiconductor parts includes a process that starts the work of a semiconductor wafer, where the new element materials are subjected to film formation by using a conventional manufacturing device, and a process that cleans the region of the surface of the wafer which is in contact with the conventional manufacturing apparatus.
課題を解決する半導体部品の製造方法は、新規な素子材料を成膜された半導体ウェハを、従来の製造装置を用いて着工する工程と、当該ウェハの表面であって、前記の従来の製造装置と接触する領域を洗浄する工程(以下、本発明にかかる洗浄工程という)とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a process for fabricating a semiconductor device in which the characteristics can be enhanced by planarizing a crystalline semiconductor film when mechanical chemical polishing is performed on the surface of the crystalline semiconductor film having an unsettled crystal orientation, and to provide an integrated circuit, an electrooptical apparatus and electronic apparatus fabricated by that process.
結晶方位が一定でない結晶性半導体膜表面に機械的化学的研磨を行った際、結晶性半導体膜を平坦化し、半導体装置の特性を向上させることを可能とする、半導体装置の製造方法、そしてこの製造方法により得られた集積回路、電気光学装置、及び電子機器を提供する。 - 特許庁 - The membrane formation method for the surface of the porous cylindrical body comprises: the immersing/pulling-up process of immersing the porous cylindrical body in a liquid with membrane forming components and then pulling it up; and the rotating/drying process of rotating the porous cylindrical body, scattering the excess liquid with gas separation membrane forming components by centrifugal force at the time of rotation and then drying it.
多孔質円筒体を膜成形性成分を有する液に浸漬したのち引き上げる浸漬・引き上げ工程と、該多孔質円筒体を回転させ、回転時の遠心力によって、過剰なガス分離膜成形性成分を有する液を飛散させた後、乾燥させる回転・乾燥工程とを有する多孔質円筒体の表面の製膜方法。 - 特許庁 - The image forming device provided with an electrophotographic process has a temperature detecting means (thermister) 2 to detect the temperature in the vicinity of the photoreceptor as a temperature compensating means of the electrophotographic process, and a destaticizing means (LED) 3 of the photoreceptor and the temperature detecting means 2 are formed integrally on the same surface of a printed circuit board 1.
電子写真プロセスを有する画像形成装置において、電子写真プロセスの温度補正手段として感光体近傍の温度を検出するための温度検出手段（サーミスタ）２をもち、感光体の除電手段（ＬＥＤ）３と温度検出手段２とをプリント基板１の同一の基板面に配置して、一体に形成する画像形成装置とする。 - 特許庁 - The method for forming a dye-sensitized semiconductor porous layer comprises: a process for forming the semiconductor porous layer 20 on the surface of an electrode substrate 15; and a process for immersing the substrate 15, on which the semiconductor porous layer 20 has been formed in the dye solution 30, filling the dye solution 30 inside the semiconductor porous layer 20 by the action of centrifugal force, and performing drying.
電極基板１５の表面に半導体多孔質層２０を形成する工程；表面に半導体多孔質層２０が形成された基板１５を色素溶液３０に浸漬し、次いで遠心力を作用させて色素溶液３０を半導体多孔質層２０の内部に充填した後、乾燥を行なう工程；からなることを特徴とする。 - 特許庁 - The supporting substrate 80 is formed by integrating two sheets of conductive foils 82, 83 and a thermosetting resin film 81 disposed between these foils with a thermal pressurizing process, and a conductive material 87 is also provided through the thermosetting resin film 81 in above thermal pressurizing process to form the conductive material 87 for electrically connecting both conductive foils 82, 83 without via-hole.
２枚の導電箔８２、８３とその間に配置された熱可塑性樹脂フィルム８１を熱圧着で一体化して支持基板８０を形成し、この熱圧着の時に導電材８７も熱可塑性樹脂フィルム８１を貫通させてビアホールなしで両導電箔８２、８３を電気的に接続する導電材８７を形成する。 - 特許庁 - This manufacturing method comprises a process for forming the holder having the pocket 3 storing double rows of rollers 2 and a process for arranging all of the double rows of rollers in the pocket as rollers 2a with crowning to reduce differential slide, although contact face pressure rises above contact face pressure applied on each roller when all of the double rows of rollers are straight rollers.
複列ころ２を収納するポケット３を有する保持器を形成する工程と、接触面圧が、複列ころをすべてストレートころとした場合に各ころに加わる接触面圧よりも大きくなるが、しかし差動すべりが軽減するように、複列のころすべてをクラウニング付ころ２ａとして、ポケットに配置する工程とを含む。 - 特許庁 - The method for processing waste plastics into a dust fuel comprises the press molding process of molding a plate-form plastic plate 30 by pressing waste plastics in the hot state and the saw-blade breaking process of cutting the plate-form molded plastic plate 30 with a plurality of saw blades into saw dust and consequently of processing waste plastics into the dust fuel consisting of the saw dust.
廃棄プラスチックを微粉末燃料に加工する方法は、廃棄プラスチックを加熱状態でプレスして板状のプラスチック板３０に成形するプレス成形工程と、板状に成形されたプラスチック板３０を複数の鋸刃で切断して鋸屑として、廃棄プラスチックを鋸屑からなる微粉末燃料に加工する鋸刃破砕工程とからなる。 - 特許庁 - In the cured coating film forming method for curing the coating film formed after predetermined coating is applied to an article to be coated, two or more cured coating film forming processes 203 and 209 for curing the coating film are provided, and at least one process of the cured coating film forming processes 203 and 209 is provided after a coating quality inspection process 208.
被塗装物に所定の塗料を塗布した後に、塗膜を硬化させる硬化塗膜形成方法であって、塗膜を硬化させるための硬化塗膜形成工程２０３・２０９を、二工程以上設け、前記硬化塗膜形成工程２０３・２０９のうち、少なくとも一工程は、塗装品質検査工程２０８後に設けられる。 - 特許庁 - The manufacturing method of the solid electrolyte has a first reaction process advancing polymerization of mainly only one acrylate group out of two acrylate groups of the asymmetric dimethacrylate, and preparing a copolymer soluble in a solvent, and a second reaction process preparing a crosslinked copolymer by reacting the other acrylate group.
固体電解質を製造する固体電解質の製造方法は、非対称ジ（メタ）アクリレートにおける二つのアクリレート基のうち、主に一方のアクリレート基のみの重合を進行させ、溶剤可溶の共重合体を作製する第一の反応工程と、他方のアクリレート基を反応させることにより架橋共重合体とする第二の反応工程とを有する。 - 特許庁 - The print control system comprises resources including a plurality of host computers 1, and a plurality of printing device 2, both of which are connected with a high-speed line 3, wherein accessible memory devices in the resources are shared according to need, a printing calculation process for the printing operation is separated into prescribed units to distribute the process by the resources.
複数のホストコンピュータ１と複数の印刷装置２とからなる資源が高速回線３で接続された印刷制御システムにおいて、前記資源が持つ記憶装置群を利用可能な数だけ必要に応じて共有使用し、印刷処理を行なう際に印刷計算処理を所定の単位毎に分割し、前記資源毎に適切に処理を分散させる。 - 特許庁 - To provide a slot machine using game balls capable of preventing a fraudulent program from being resident in an unused area of a storage means of a microcomputer controlling a game, surely executing a power recovery process by a sub-control means and, when erroneously detecting a power cut, preventing the erroneous execution of the power recovery process.
遊技の制御を行うマイクロコンピュータの記憶手段の未使用領域に不正プログラムが常駐することを防止できるとともに、サブ制御手段の停電処理を確実に行うことができ、更に、電断を誤って検出した際に、誤って停電処理が行われてしまうことを防止できる遊技球を用いたスロットマシンを提供すること。 - 特許庁 - After the maintenance process to maintain flaws examined by an automatic examination, a magnetic particle examination device to perform reexaminations of the maintenance portion, irradiating with a black light 3a from above and a billet grinder with magnetic particle examination device provided with the billet grinder to maintain flaws in series after the reexamination are provided so that the maintenance process after the automatic examination is combined into a line.
自動検査で探傷した疵を手入れする手入れ工程の後に、前記手入れ部分の再検査を上方からブラックライト３ａで照射して行なう磁粉探傷装置と、再検査後の疵手入れを連続して行うビレットグラインダーを備えた磁粉探傷装置付ビレットグラインダーを配置して自動検査後の手入れ工程とライン化する。 - 特許庁 - To provide a spin electronics material having the properties that transition temperature is higher than room temperature, spin polarlizataion degree is high, a manufacturing process is compatible with that of an existent semiconductor electronics material, hetero structure is available and no byproduct deteriorating the property of the hetero structure in the manufacturing process occurs.
スピンエレクトロニクス材料の特性として、室温以上の転移温度と高いスピン偏極率とを備え、また既存の半導体エレクトロニクス材料との相性として、作製プロセスの互換性、ヘテロ構造が作製可能であること、ヘテロ構造作製時に特性を劣化させる副生成物が現れないことといった要求を満たすことができるようにする。 - 特許庁 - This method for regenerating the substrates of the electrophotographic photoreceptors having the photosensitive layers essentially consisting of a binder resin on the substrates includes the process step of swelling the photosensitive layers by immersing the photoreceptors in the swelling liquid and the process step of peeling away the swollen photosensitive layers by the brush secured with the particulates.
基体上にバインダー樹脂を主成分とする感光層を有する電子写真感光体の基体再生方法に於いて、該感光体を膨潤液に所定時間浸漬して感光層を膨潤させる工程及び該膨潤した感光層を微粒子を固着したブラシで剥離除去する工程を含む電子写真感光体の基体再生方法。 - 特許庁 - This method for producing silicon carbide powder, characterized by having a solidification process for solidifying a mixture of at least one kind of liquid silicon compound with at least one of thermally carbon-generating liquid organic compound by the irradiation of ultrasonic waves to obtain the solidified product, and a calcination process for calcining the obtained solidified product in a non-oxidizing atmosphere.
液状のケイ素化合物の少なくとも１種、及び加熱により炭素を発生する液状の有機化合物の少なくとも１種の混合物を、超音波の照射により固化し、固化物を得る固化工程と、得られた固化物を、非酸化性雰囲気下で焼成する焼成工程と、を有することを特徴とする炭化ケイ素粉体の製造方法である。 - 特許庁 - When it is manufactured, ions with corrosive properties are replaced with ions with lower corrosive properties by an ion exchanging process replacing the ions by the ion exchanging method in the manufacturing process.
本発明の処理液の製造法は、色材及び水を含有する記録液と接触した際に、該色材と反応性を有する成分を１種類以上含有する処理液の製造法であってを製造する際に、製造過程でイオン交換法によりイオンを置換するイオン交換法により、腐食性を有するイオンを腐食性のより低いイオンに置換する。 - 特許庁 - The solution analysis method includes a process for cooling the solution S which is an analyzing target to lower the solubility of the solution S, to make the solute of the solution precipitate in a solvent but also to make the solution S freeze; and a process for irradiating the substance produced by freezing with the terahertz wave, to obtain the data of the transmission or absorption spectrum of the substance.
分析対象としての溶液Ｓを冷却することにより、この溶液Ｓの溶解度を下げてその溶質を溶媒中に析出させるとともに溶液Ｓを凍結させる工程と、前記凍結を生じた物質にテラヘルツ波を照射してその透過または吸収スペクトルのデータを得る工程と、を有していることを特徴としている。 - 特許庁 - In a work setting process part 11, a worker 17 feeds an inner panel Wi on an outer panel Wo of the work Wa after the worker 17 feeds the outer panel Wo of the work Wa and after an adhesive is applied by a mastic robot 15 for sealing, and the work Wa is transferred to the press working process part 9a by the handling robot 1.
ワークセット工程部１１には、作業者１７がワークＷａのアウタパネルＷｏを投入後、シーリング・マスチック用ロボット１５により接着剤の塗布を行った後、作業者１７がインナパネルＷｉをアウタパネルＷｏ上に投入し、このワークＷａは、ハンドリングロボット１によりプレス加工工程部９ａに移送される。 - 特許庁 - To provide a display device and a manufacturing method of a display device capable of omitting a high-vacuum process, after formation of an electron emission part by eliminating a process of exposing the electron emitting part in the atmosphere, capable of reducing the manufacturing cost, restraining to a minimum a volume of gas molecules desorbing from a substrate surface, and restraining degradation of the lifetime.
電子放出部を大気に晒す工程をなくすことで、電子放出部形成後の高真空工程を省略でき、製造コストを低減できるとともにガス分子が基板表面から脱離する量を最小限に抑え、寿命劣化を抑制することが可能となる表示装置及び表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The smear removing method comprises (a) a process of applying an ultraviolet laser beam to the insulating resin layer of a workpiece having an insulating resin layer coating a metal-made inner wiring layer for the formation of a via hole in the insulating resin layer, and (b) a process of removing smears residual on the via hole bottom floor by exposure to rare gas plasma.
スミアの除去方法は、（ａ）金属からなる内層配線層を被覆する絶縁樹脂層を有する加工対象物の該絶縁樹脂層に紫外レーザを照射して前記絶縁樹脂層にビアホールを形成する工程と、（ｂ）前記ビアホールの底面に残留するスミアを、希ガスのプラズマに晒して除去する工程とを有する。 - 特許庁 - There is provided a process for producing a carboxy polysaccharide by oxidizing it with a combination of a ruthenium compound with an oxidizing agent, which process comprises: reacting the polysaccharide in the presence of reaction additives; adding an oxidizing agent to the reaction mixture after the reaction to bring the ruthenium into a highly oxidized state; and separating the ruthenium by extraction with a water-insoluble organic solvent.
多糖類をルテニウム化合物と酸化剤との組み合わせにより酸化してカルボキシ多糖類を製造する方法において、反応添加剤を共存させて反応した後、反応後の混合溶液に酸化剤を添加してルテニウムを高酸化状態にし、次いで水に不溶な有機溶媒によりルテニウムを抽出・分離させる。 - 特許庁 - Fabrication process is simplified by forming a Co silicide layer 20 simultaneously on the surface of the gate electrode 7B, source, and drain (n^+-type semiconductor region 16) of an MISFET constituting a logic LSI, and on the surface of a polysilicon film 7 becoming the gate electrode of an MISFET for selecting the memory cell of a DRAM in a subsequent process.
ロジックＬＳＩを構成するＭＩＳＦＥＴのゲート電極７Ｂ、ソース、ドレイン（ｎ^＋型半導体領域１６）のそれぞれの表面と、後の工程でＤＲＡＭのメモリセル選択用ＭＩＳＦＥＴのゲート電極となる多結晶シリコン膜７の表面とにＣｏシリサイド層２０を同時に形成することによって、製造プロセスの簡略化を実現する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a semiconductor device and a harmful particle removal device of a spraying air, by which any corrosive reaction formation impurity is hard to be formed, even if any adhesion prevention process of a harmful particle caused by the spraying of a cleaning gas accompanied by using an ionizer is added to a manufacturing process of a semiconductor wafer in a clean room.
クリーンルーム内での半導体ウエハの製造工程に対して、イオナイザーの使用を伴う清浄ガスの吹き付けによる有害パーティクルの付着防止工程を加えても、腐食性のある反応生成不純物が生成され難い半導体装置の製造方法および吹き付けエアーの有害パーティクル除去装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide an image recording system, an image recording method, a conversion apparatus and a conversion method by which a printed wiring pattern with a desired line width can be drawn on a substrate in an exposure apparatus without carrying out an electron variable magnification process on raster data rasterized with predetermined resolution, that is, without carrying out an electron variable magnification process on digital data.
所定の解像度でラスタライズされたラスターデータに電子変倍処理、つまり、デジタルデータに電子変倍処理を実施することなく、露光装置において、基板上に所望の線幅を有するプリント配線パターンを描画することができる画像記録システム、画像記録方法、変換装置および変換方法を提供することにある。 - 特許庁 - To prevent a blade from sounding by making the friction small between a cleaning member and a photosensitive drum when a process speed is lowered without consuming much toner in an image forming apparatus that removes toner on an image carrier with a cleaning member which wipes and cleans the toner, for example, a blade and can vary an image forming speed (process speed) according to image formation modes.
像担持体上のトナーの除去を掻き取ってクリーニングするクリーニング部材、例えばブレードにて実施しており、又、画像形成速度（プロセス速度）を画像形成モードに対応して変更できる画像形成装置において、多量のトナー消費を伴わずに、プロセス速度を下げている時のクリーニング部材と感光ドラムの摩擦を小さくし、ブレード鳴きを防止する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the dielectric element 1 includes a process of heating a film 20 of a solution of a precursor on a metal layer 11 in an oxidizing atmosphere, to form a calcined film 20 comprising a dielectric material generated from the precursor, and a process of annealing the calcined film 20 to form a dielectric film 20 comprising the dielectric material that has been crystallized.
金属層１１上の前駆体の溶液の膜２０を酸化雰囲気下で加熱して、前駆体から生成した誘電体材料を含む仮焼き膜２０を形成させる工程と、仮焼き膜２０をアニールして、結晶化した誘電体材料を含む誘電体膜２０を形成させる工程とを備える、誘電体素子１の製造方法。 - 特許庁 - The process for producing mesoporous silica particles relates to a process for producing mesoporous silica particles having a meso-micropore structure and includes a step to conduct a reaction in which not less than one kind of a surfactant (a) selected from among cationic surfactants and nonionic surfactants and a silica source (b) are added over time to a water-containing reaction medium (A).
メソ細孔構造を有するメソポーラスシリカ粒子の製造方法であって、水を含有する反応溶媒（Ａ）に、陽イオン界面活性剤及び非イオン界面活性剤から選ばれる１種以上の界面活性剤（ａ）とシリカ源（ｂ）とを経時的に添加して反応を行う工程を含む、メソポーラスシリカ粒子の製造方法である。 - 特許庁 - In this plasma processing method, after the film containing the magnetic material (magnetized free layer 33) is subjected to the etching process, processing is carried out for exposing the film containing the magnetic material (magnetized free layer 33) subjected to the etching process into the plasma atmosphere of a gas mixture having a gas containing hydrogen gas or at least hydrogen atoms and also having oxygen gas or nitrogen gas.
磁性体材料を含む膜（磁化自由層３３）をエッチング加工した後、水素ガスもしくは少なくとも水素原子を含むガスを有するとともに酸素ガスもしくは窒素ガスを有する混合ガスのプラズマ雰囲気中にエッチング加工した磁性体材料を含む膜（磁化自由層３３）をさらす処理を行うプラズマ処理方法である。 - 特許庁 - Information related with a programming/re-programming process is read according to each programming/re-programming process of a programmable memory device, and stored in the independent memory area of the memory device capable of being only programmed, and the contents of the independent memory area are read and compared with prescribed information so that the operation can be confirmed.
プログラミング可能なメモリ装置の各プログラミング／再プログラミングに伴って，プログラミング／再プログラミングプロセスに関する情報が，読み出され，かつプログラミングされることのみが可能な，メモリ装置の独立したメモリ領域に格納され，前記独立メモリ領域の内容が読み出されて，所定情報と比較されることにより操作が確認される。 - 特許庁 - The method of producing a cell sheet includes: a process which cultivates a cell on a substrate for cell culture containing an iron crosslinking alginic acid gel; and a process in which a chelating agent which specifically combines with iron (deferoxamine mesilate, deferasirox or deferiprone) is used, thereby the substrate for cell culture containing an iron crosslinking alginic acid gel is dissolved to obtain a cultivated cell as a cell sheet.
鉄架橋アルギン酸ゲルを含む細胞培養用基質の上で細胞を培養する工程、及び、鉄架橋アルギン酸ゲルを含む細胞培養用基質を鉄に特異的に結合するキレート剤（デフェロキサミンメシル酸塩、デフェラシロクス、またはデフェリプロンである）を用いて溶解し、培養した細胞を細胞シートとして得る工程、を含む細胞シートの製造方法。 - 特許庁 - The manufacture method of polarizing film comprises a process of forming a film by casting a solution prepared by dissolving or dispersing the thermoplastic norbornene resin and the dichroic pigment in a solvent on a substrate, drying the film and stripping the obtained resin film from the substrate and a process of stretching the resin film.
本発明の偏光フィルムの製造方法は、熱可塑性ノルボルネン系樹脂と二色性色素とを溶媒に溶解または分散した溶液を基材上へキャストしてフィルムを形成し、このフィルムを乾燥して、得られた樹脂フィルムを基材から剥離する工程と、前記樹脂フィルムを延伸処理する工程とを含むことを特徴としている。 - 特許庁 - A multiplex controller is provided with a plurality of process control arithmetic units 1, 2, and 3 for realizing arithmetic processing for the same control in parallel, and each output signal based on the processed results of those process control arithmetic parts is selected based on a prescribed standard, and the selected output signal is used as an output for control.
多重化制御装置は、同一な制御のための演算処理を並行して個々になす複数のプロセス制御演算１，２，３を備え、これら複数のプロセス制御演算部の処理結果に基づく各出力信号から所定の基準で選択をなし、この選択された出力信号を制御用の出力として用いるようにされている。 - 特許庁 - This manufacturing method of reformed graphite for a nonaqueous electrolyte secondary battery comprises: an oxidation treatment process for forming oxidized graphite by oxidatively treating material graphite; and a hydrogen plasma treatment process for forming reformed graphite having an expansion coefficient of 1.1 to 1.4 with respect to the material graphite by heat-treating the oxidized graphite in a hydrogen plasma atmosphere at 1,000-2,800°C.
原料黒鉛を酸化処理して酸化黒鉛となす酸化処理工程と、酸化黒鉛を、１０００℃以上２８００℃以下の水素プラズマ雰囲気中で熱処理して、原料黒鉛に対する膨張率が１.１以上、１.４以下である改質黒鉛となす水素プラズマ処理工程と、を備える非水電解質二次電池用改質黒鉛の製造方法。 - 特許庁 - To provide a display device for which a more practical method for correcting a defect is easily and certainly applied and the method for correcting the defect by omitting a drawing process of an insulating film, preventing another short-circuitting in a wiring drawing process, making a drawn pattern a simple shape and preventing a wiring performance from lowering when correcting the defect.
絶縁膜の描画工程を省略し、配線の描画工程で新たな短絡の発生を抑止し、描画パターンを単純な形状として欠陥修正による配線性能の低下を防止して、より実用的な欠陥修正を容易且つ確実に行うことを可能とする表示装置及び欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - The hard coating film 3 is formed of a diamond-like carbon film deposited by a plasma CVD process and composed of an aggregate of many acicular diamond-like carbon 31 grown along the normal direction of the face 1a to be treated in the base material 1, and the lubricating coating film 5 is composed of a polymer-like carbon film deposited by a plasma CVD process.
硬質被膜３は、プラズマＣＶＤ法により形成され基材１の上記被処理面１ａの法線方向に沿って成長された多数の針状ダイヤモンドライクカーボン３１の集合体からなるダイヤモンドライクカーボン膜により構成され、潤滑被膜５は、プラズマＣＶＤ法により形成されたポリマー状カーボン膜により構成されている。 - 特許庁 - A command for displaying register information in a necessary process part (CPU) 9 and register information of a driver part 8 is inputted from a PC terminal 11 and then the mentioned pieces of register information are send out of the process part (CPU) 9 to the PC terminal 11 and displayed, so that the states of the ICs of those parts can be monitored.
ＰＣ端末１１より、必要な処理部（ＣＰＵ）９内部のレジスタ情報やドライバ部８のレジスタ情報を表示させるコマンドを入力することにより、処理部（ＣＰＵ）９内部のレジスタ情報やドライバ部８のレジスタ情報を処理部（ＣＰＵ）９からＰＣ端末１１に送出して表示し、これら各部のＩＣ自体の状態監視を可能とする。 - 特許庁
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