「Line width」を含む例文一覧(3396)
＜前へ 1 2 .... 54 55 56 57 58 59 60 61 62 .... 67 68 次へ＞- First of all, a light source 14a is structured as a line-segment light source extended in a car-width direction, and a first additional reflector 32 is provided at a lower part of a reflector 16, in front of which, second additional reflectors 34, 34A, 34B are provided, with a diffusion lens 40 provided in further front.
光源１４ａを車幅方向に延びる線分光源として構成した上で、リフレクタ１６の下方に第１付加リフレクタ３２を設け、その前方に上下３段で第２付加リフレクタ３４、３４Ａ、３４Ｂを設け、その前方に拡散レンズ４０を設ける。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for supplying a coating material capable of always obtaining stable coating finish, even in such a state that the fluctuation width of coating atmosphere condition and surface temperature of an object to be coated is large, in the coating of an aqueous coating material in an industrial coating line, or the like.
工業用塗装ライン等における水性塗料塗装において、塗装雰囲気条件や被塗物表面温度の変動幅が大きい状態でも常に安定した塗装仕上りが得られる塗料供給方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - Volume resistance of the silver layer 35 forming the heat-treated electromagnetic wave shield layer 31 should be 0.5-2.0[10^-5Ω cm], its film thickness be 4-18[μm], its line width be 8-20[μm], and its surface resistance be 0.06-0.15[Ω/square].
そして、熱処理された電磁波シールド層３１を形成する銀層３５の体積抵抗値を０．５〜２．０〔１０^−５Ω・ｃｍ〕、銀層３５の膜厚を４〜１８〔μｍ〕、銀層３５の線幅を８〜２０〔μｍ〕、銀層３５の表面抵抗値を０．０６〜０．１５〔Ω／□〕とする。 - 特許庁 - To the inner side in a vehicular width direction to the belt line skeleton portion 25 on the door inner panel 18, an inner reinforcement 30 making a closed cross-section structure 32 longitudinal in the vehicle body fore-and-aft direction with the door inner panel 18 over a predetermined range in the vehicle body fore-and-aft direction is joined.
このドアインナパネル１８におけるベルトライン骨格部２５に対する車幅方向内側には、車体前後方向の所定範囲に亘りドアインナパネル１８とで車体前後方向に長手の閉断面構造３２を成すインナリインフォースメント３０が接合されている。 - 特許庁 - A shell-type outer ring is such that on the basis of the inside diameter surface of a reference ring in which this shell type outer ring is pressed, the generating line shape of a range where the roller rolls in the width direction in the rolling surface is set to a straightness of 0.008 or less, and a parallelism of 0.015 or less.
シェル型の外輪は、このシェル型外輪が圧入される基準リングの内径面を基準として、転走面における前記ころが転動する幅方向範囲の母線形状を、真直度：０．００８以下で、かつ平行度：０．０１５以下とする。 - 特許庁 - The dust-proof garment is structured as follows: a back face knit part 2 made of dust-proof knit material is formed at a position corresponding to the width-direction center of the back body part and upper than an intermediate position M between a waist line 5 and a neckline 4; and underarm knit parts 3a, 3b are formed at both of underarm parts.
後身頃の幅方向中央であって、ウェスト線５と襟ぐり線４との中間位置Ｍよりも上方の位置に、防塵性ニット素材によって構成された背面ニット部２を配置し、両脇下部分に、脇下ニット部３ａ，３ｂを配置した。 - 特許庁 - To realize a debug function-incorporated microcomputer that can create a debugging environment facilitating analysis and compress output information even when tracing contents of an instruction bus via an output signal line smaller in bit width than the instruction bus.
命令バスのビット幅よりも少ないビット幅の出力信号線で命令バスの内容をトレースする場合でも、解析しやすいデバック環境を生み出し、出力情報を圧縮することが可能なデバック機能内蔵型マイクロコンピュータの実現を課題とする。 - 特許庁 - To provide means capable of improving line width linearity by optimizing current density uniformity of a figure 8 having restricted dimensions, as to an automatic adjusting method of a charged particle beam drawing device and the charged particle beam drawing device.
荷電粒子ビーム描画装置の自動調整方法及び荷電粒子ビーム描画装置に関し、寸法の制限された図形８の電流密度均一性を最良化し、線幅線形性を向上させることができる手段を提供することを目的としている。 - 特許庁 - Preferably, an inclination sensor 8 which detects the inclination of the machine frame in the width direction and a controller 12 which acts the cylinder actuator to have a predetermined inclination against the horizontal line depending on a detected signal by the inclination sensor are installed.
好ましくは、機体フレームの機幅方向の傾きを検出する傾斜センサ（８）と、この傾斜センサが検出した検出信号に基づいてシリンダアクチュエータを、上記傾きを水平に対して所定範囲内に保持するように作動させるコントローラ（１２）とを備えた。 - 特許庁 - A cell definition information generation processing part 11 generates format cell definition information 21 and overlay definition information 23 deciding column width and line height showing the arrangement of the items of business forms and overlay from format definition information 31 and overlay definition information 33.
セル定義情報生成処理部１１は，フォーマット定義情報３１とオーバレイ定義情報３３から，それぞれ，帳票およびオーバレイの項目の配置を示す列幅および行高を定めるフォーマット・セル定義情報２１，オーバレイ・セル定義情報２３を生成する。 - 特許庁 - A coefficient which is set individually for the linewidths is stored in a coefficient storing part 113, and a linewidth compensation coefficient multiplying part 111 acquires compensating coefficients, corresponding to the linewidth, regarding edge and detected pixel detected, and performs multiplication to thereby correct the line width.
係数記憶部１１３には、線幅に対して個別に設定された係数が記憶され、線幅補正係数乗算部１１１は、エッジと検出された画素について、検出された線幅に対応した補正係数を取得し、乗算することで、その線幅を補正する。 - 特許庁 - The semiconductor device is provided with, on the upper side of a base 21: a plurality of gate electrodes 13 formed mutually parallel to a gate width direction 15; a base line part 17 formed extending to the gate length direction 11; and a plurality of main electrodes 19.
半導体装置は、ゲート幅方向１５に互いに平行にかつ離間して形成されている複数のゲート電極１３と、ゲート長方向１１に延在して形成されている基線部１７と、複数の主電極１９とが下地２１の上側に設けられている。 - 特許庁 - A filter 20 is composed of a column 4 made by shaping a strip 8 comprised of metal mesh or metal nonwoven fabric into a corrugated strip 3 comprised of an edge line 7 extending into at least the width direction and grooves 6 and winding up or laminating the corrugated strip 3 spirally.
フィルタ２０は，金網又は金属製不織布から成る帯体８を少なくとも幅方向に延びる稜線７と溝６から成る波状帯体３に成形し，波状帯体３を螺旋状に巻き上げた又は積層した柱状体４で構成されている。 - 特許庁 - The radiation patterned coating material can have a high contrast with respect to material properties, such that development of a latent image can be successful to form lines with very low line-width roughness and adjacent structures with a very small pitch.
この放射状パターン形成されたコーティング材が材料特性に関して高いコントラストを有し得ることによって、潜像の現像にきわめて低いライン幅粗さを有するラインおよびきわめて小さなピッチを有する隣接構造体をうまく形成し得る。 - 特許庁 - Copper foil and resist are laminated on a substrate, drawing is directly performed by using the width of the pattern line specified by pattern data for machining for exposure, the exposed resist is developed for forming a resist pattern, and the copper foil on the substrate is etched for forming a formation pattern.
基板上に銅箔およびレジストを積層し、加工用パターンデータにより指定されたパターン線の線幅を用いて直接描画して露光し、露光されたレジストを現像してレジストパターンを形成して、基板上の銅箔をエッチングして形成パターンを形成する。 - 特許庁 - To reduce occurrence of SBS, restrict occurrence of distortion and prevent deterioration in C/N brought about by a radical drop in the optical modulation degree of an optical signal, reduction in the chirping of a wavelength spectrum and an extreme narrowing down of line width when analog broadcasting is terminated following a transition to digital broadcasting.
デジタル放送への移行に伴うアナログ放送終了時の光信号の光変調度の極端な低下、光波長スペクトルのチャーピングの減少、線幅の極端な狭幅化に伴うSBSの発生の軽減、歪発生の抑制、C/Nの悪化を防止する。 - 特許庁 - In the cross section in the tread width direction section area, a fold back height XN parallel with a tire equator line CL from an inside end part X of a bead core 12 to a fold back end N of a carcass layer 20 where the bead core 12 is folded back is 35-65% for a tire height SH.
また、トレッド幅方向断面において、ビードコア１２の内側端部Ｘから、ビードコア１２を折り返したカーカス層２０の折返端Ｎまでタイヤ赤道線ＣＬと平行な折り返し高さＸＮは、タイヤ高さＳＨに対して３５〜６５％である。 - 特許庁 - The orifice 38 to flow out fuel is formed in the position out of both two virtual ranges va1 and va2 which are sandwiched by the injection ports 39b opposed to each other and extended in the axis line L1 direction and have the same width as the air injection port 39b.
燃料を流出するオリフィス３８は対向するエア噴射口３９ｂ同士に挟まれ同エア噴射口３９ｂと等しい幅を有して軸線Ｌ１方向に延在する二つの仮想領域ｖａ１，ｖａ２の双方から外れた位置に設けられる。 - 特許庁 - To provide an exposure method and exposure apparatus, and a method of manufacturing a device and the device, where a pattern having a line width larger than a resolution limit is transferred in desired contrast to secure a desired resolution when a projection optical system clearing in midsection is used.
本発明は、中抜けのある投影光学系を使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁 - A toner ejection pattern P, formed on a photoreceptor drum 14 when performing the refresh process, is obtained by repeating development of a line image L, which has a predetermined inclination to a main scan direction, at predetermined intervals over a width H of a development region of a developing roller 35.
リフレッシュ工程の実行時に感光体ドラム１４上に形成するトナー吐出パターンＰを、主走査方向に所定の傾きを有するライン画像Ｌを現像ローラ３５の現像領域の幅Ｈに亘って所定の間隔で繰り返し現像した構成とする。 - 特許庁 - In this case, a bar code processing part 15 and a display processing part 17 generate and arrange the bar code following a bar code display layout (a peripheral margin region, the width of the narrowest line, the color of a character or the like displayed together with the bar code, or the like) corresponding to a display part specification of the display 18.
このとき、バーコード処理部１５および表示処理部１７が、ディスプレイ１８の表示部仕様に応じたバーコード表示レイアウト（周囲の余白領域、最細線の線幅、バーコードとともに表示する文字等の色など）に従ってバーコードを作成・配置する。 - 特許庁 - Magnetization vibration can be excited by spin transfer from the magnetization fixed layer to the magnetization free layer through conduction in the direction perpendicular to the surface of the multilayer film, and noise is lowered in the vicinity of oscillation frequency by narrowing the oscillation line width of the magnetic oscillation element.
多層膜の膜面に対して垂直方向の通電によって磁化固定層から磁化フリー層へのスピントランスファによる磁化振動が励起でき、磁性発振素子の発振線幅を狭くすることによって発振周波数付近の雑音を低下させる。 - 特許庁 - The wiring line 102 is led out of a bump electrode formation region where a bump electrode BP1 is formed, toward pad electrodes P1 and P1 for output, but the wiring width W1 of a lead-out portion is larger than the diameter R1 of the bump electrode R1.
また、配線１０２は、バンプ電極ＢＰ１が形成されたバンプ電極形成領域から出力用のパッド電極Ｐ１，Ｐ１の方向へ引き出されるが、その引き出し部の配線幅Ｗ１はバンプ電極ＢＰ１の直径Ｒ１よりも大きくなっている。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition adaptable to a normal dry process as well as an immersion process, having excellent sensitivity, and reducing LWR (line width roughness) and blob defects, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.
通常のドライプロセスに加え、液浸プロセスにも適合した、感度に優れ、ＬＷＲ及びブロッブ欠陥が低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The guide part 110 and the extension part 513 are arranged in a line in the width direction of the paper P, and an upstream end 514 of the extension part 513 is retreated with regard to a guide surface 111 for guiding the paper P among the guide part 110 when feeding the paper P.
ガイド部１１０と延出部５１３とは、用紙Ｐの幅方向に並ぶように配置され、延出部５１３の上流端５１４は、用紙Ｐを供給するときに、ガイド部１１０のうち用紙Ｐをガイドするガイド面１１１に対して没入している。 - 特許庁 - By disposing the second coated optical fiber 18 and the third coated optical fiber 19, excluding the first coated optical fiber 17 and the fourth coated optical fiber 20 at both ends, being deviated from the center axis line A0, the ribbon width L1 can be reduced.
これにより、両端の第１光ファイバ心線１７及び第４光ファイバ心線２０以外の第２光ファイバ心線１８及び第３光ファイバ心線１９が中心軸線Ａ０からずらして配置されることでテープ幅Ｌ１を狭めることができる。 - 特許庁 - To provide a reduced pressure drying device, which performs drying processing on a coating film formed on a substrate to be processed, reduces within-wafer nonuniformity of the coating film after the drying processing, and improves uniformity of the remaining film thickness and line width of the coating film in a wiring pattern forming process.
被処理基板に形成された塗布膜に乾燥処理を施す減圧乾燥装置において、乾燥処理後の塗布膜の面内均一性を向上し、配線パターン形成過程における前記塗布膜の残膜厚及び線幅の均一性を向上する。 - 特許庁 - To prevent adverse effect on the product quality even if the line width of a conductive convex pattern layer formed by the "drawing primer system intaglio printing method" becomes thicker when the print speed is increased in order to highly reconcile the electromagnetic wave shielding performance and the optical transparency of an electromagnetic wave shielding material.
電磁波遮蔽材の電磁波遮蔽性能と光透過性を高度に両立させる為に「引抜プラマイ方式凹版印刷法」で形成した導電性凸状パターン層の線幅が印刷速度を速くした時に太っても、製品品質への悪影響を防ぐ。 - 特許庁 - The semiconductor chip 1 includes a plurality of electrode terminals where, among the plurality of electrode terminals, a fixed terminal 2 is arranged within 50% of the width of the semiconductor chip 1 with a symmetric line of the semiconductor chip 1 as a center.
本発明にかかる半導体チップ１は、複数の電極端子を備えた半導体チップであって、複数の電極端子のうち、固定端子２が半導体チップ１の対称線を中心として半導体チップ１の幅の５０％の範囲内に配置されている。 - 特許庁 - The operation handle 65 can freely be turned according to the operation form to both positions at the operator 147 side and the opposite side by bordering the extended line 49 of a handle post 45 by using a handle spindle part 74 extending in the width direction of the transmission case 12.
この操作ハンドル６５は、作業形態に応じて、トランスミッションケース１２の幅方向に延びるハンドル支軸部７４を支点にして、ハンドルポスト４５の延長線４９上を境に操作者１４７側とその逆側との双方の位置に揺動自在とした。 - 特許庁 - The lane width dx and its y-coordinate values are approximated to the linear function expression collectively concerning the whole of the pick-up image, and the combination of the right and left white line candidate points existing near the approximated approximate expression is extracted as a candidate point group B (steps S5, S6).
この車線幅ｄｘとそのｙ座標値とを、撮像画像全体について一括で一次関数式に近似し、近似した近似式の近傍に存在する左右の白線候補点の組み合わせを、候補点群Ｂとして抽出する（ステップＳ５、Ｓ６）。 - 特許庁 - A break line 11 of the view field adjusting section 10 uniformly tilts downwardly from the top T disposed at a position offset from the driver toward both sides in the vehicle width direction, so that the driving attitude of the driver becomes stable to suppress disturbance of steering.
また、視界調整部分１０の見切り線１１は、運転者からオフセットした位置に配置した頂点Ｔから車幅方向両側に向けて一様に下降傾斜しているので、運転者の運転姿勢が安定し、操舵の乱れを抑制することができる。 - 特許庁 - A plurality of circumferentially stretching grooves 50 are formed at the tread surface 11 of this tire, and the groove bottom deepest part center 72 of that one of the grooves 50 which is located between a shoulder rib 41 and a second rib 45 is positioned nearer the second rib 45 than the center line 85 of the groove width W.
トレッド面１１に複数形成される周方向溝部５０のうち、ショルダーリブ４１とセカンドリブ４５との間に位置する周方向溝部５０の溝底最深部中心７２を、溝幅Ｗの中心線８５よりもセカンドリブ４５寄りに位置させる。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern, with which the reciprocal problem between the resolution and the depth of focus can be solved and a microresist pattern be accurately formed at a sufficiently practical depth of focus than a line width which is sufficient to obtain the depth of focus.
解像度と焦点深度の相反する問題を解決し、充分に焦点深度が得られる線幅よりも微細なレジストパターンを十分な実用焦点深度をもって高精度に形成することができるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In addition, an auxiliary ruler 24 which is formed of the same width as the reference ruler 10 and the movable ruler 16 and is transparent extending on the straight-line ruler 12, is fitted on the side face, which away from the reference ruler 10, of the movable ruler 16.
移動定規１６の前記基準定規１０と離反する側の側面には、前記基準定規１０および移動定規１６と同一の幅寸法に形成され、前記直線定規１２上に延出する透明な補助定規２４が取り付けられている。 - 特許庁 - An analysis part 522 obtains a shape profile based on the extracted light cutting line and approximates the obtained shape profile with Chebyshev series expansion to obtain a coefficient of extension of the width direction of the rolled plate 7 at an arbitrary position using the coefficient of the series expansion.
解析部５２２は、抽出した光切断線をもとに形状プロファイルを求めて、求めた形状プロファイルをチェビシェフ級数展開して近似し、級数展開の係数を用いて圧延板７の板幅方向の任意の位置での伸び率を求める。 - 特許庁 - In the display device having display electrodes made of a transparent electrode 24 and a bus electrode 25 formed on a substrate, the width of the line of the bus electrode 25 at the screen display region is made smaller on the downstream side of feeding direction than on the upstream side.
基板上に形成された透明電極２４とバス電極２５からなる表示電極を有する表示装置において、画面表示領域におけるバス電極２５の線幅を給電方向上流側より下流側の方を小さくしたものである。 - 特許庁 - To exactly control the line width of electrodes formed on an inorganic film and an organic film, in a transverse field system liquid crystal display device having the inorganic film consisting of an inorganic substance and the organic film consisting of an organic substance as base layers of the electrodes.
電極の下地膜として無機性物質からなる無機膜及び有機性物質からなる有機膜を有する横電界方式の液晶表示装置において、それらの無機膜及び有機膜上に形成される電極のライン幅を正確に制御する。 - 特許庁 - At the time, the line width of the belt-like conductors 3a-3c is gradually narrowed from the thickness direction center area (3b) of lamination to an upper area (3a) and a lower area (3c), corner parts are increased stepwise and they are formed so as to approximate to a nearly polygonal shape.
このとき、帯状導体３ａ〜３ｃの線幅は積層の厚み方向中央域（３ｂ）から上部領域（３ａ）及び下部領域（３ｃ）に向かって漸次狭くなっており、階段状に角部を増加させ略多角形状に近似するように形成する。 - 特許庁 - This invention is characterized by transposing dot area sorting result, line width sorting result, color sorting result, primary edge detection result, and 2nd edge detection result, to logical value, respectively, distinguishing and outputting image field identification result, in the image field identification portion in the image processing apparatus.
画像処理装置における像域識別部において、網点領域判別結果、線幅判別結果、色判別結果、第１エッジ検出結果、および第２エッジ検出結果を、それぞれ論理値に置き換えて判別して像域識別結果を出力する。 - 特許庁 - Since the light source image projected on the irradiation region below the cut-off line CL centered around the elbow portion becomes thick (wide in width), and the region in which adjoining light source images a, a are overlapped is increased, thereby, color unevenness and luminous intensity unevenness in light distribution are not conspicuous and visibility of front area is improved.
エルボー部を中心にカットオフラインＣＬ下方の照射領域に投影される光源像は太く（幅広に）なって、隣接光源像ａ，ａ同士の重なる領域が増え、配光における色ムラや光度ムラが目立たず、前方視認性が改善される。 - 特許庁 - The corner reinforcing material is formed by bending a long reinforcing material 1 in a longitudinal direction along a separation line 3 formed at an arbitrary position according to the width of a strap B and separating into a size suitable for protecting the external surface of a corner Aa of the article A to be packed around which the strap B is wound.
長尺の補強材１を、バンドＢの幅に応じて、任意位置に形成した分離線３に沿って長さ方向に対して折り曲げ、バンドＢが巻き付けられる被梱包物Ａのコーナー部Ａａ外面を保護するのに適したサイズに分離する。 - 特許庁 - To provide a data transmission circuit that can enhance a data transfer rate without increasing a bus width by using one signal line and sending a plurality of data at the same time, and to provide a data reception circuit and a data transmission reception system.
一本の信号線を用いて同時に複数のデータを伝送することにより、バス幅を増やすことなく、データ転送速度を向上することが可能なデータ送信回路、データ受信回路及びデータ送受信システムを提供することを目的としている。 - 特許庁 - To provide a color filter forming material for maskless exposure capable of forming a color filter which is low in cost and excellent in display properties with high sensitivity, less variation in line width due to variation in exposure power and high definition without using a photomask.
フォトマスクを用いることなく、高感度でかつ露光パワーの変動による線幅変動が極めて少なく、高精細に形成可能であり、低コスト、かつ表示特性に優れカラーフィルタを形成することができるマスクレス露光用カラーフィルタ形成材料などの提供。 - 特許庁 - By the existence of the base material pressing portion 54, on a back side elastic layer 32 of the skin 14 stuck to the base material 12, a back side compressed portion 56 wherein a bubble structure is crushed and air is eliminated is formed along an extending line of a breakage estimated portion 22 to have the required width.
この基材押圧部５４の存在により、基材１２に貼着された表皮１４の裏側弾力層３２に、気泡構造が押し潰されて空気が排除された裏側圧縮部５６が、破断予定部２２の延設ラインに沿って所要幅で形成されている。 - 特許庁 - The dummy features 14 are aligned with isolated edges of the features in a position away from the isolated edges by a prescribed distance in a line width equal to the above minimum size in such a way that the intensity of light at the dense edges of the features and that at the isolated edges are made nearly equal to each other.
ダミーフィーチャー１４は複数のフィーチャーの密集エッジでの光の強さと孤立エッジでの光の強さがほぼ同一になるように、前記孤立エッジから所定距離離れた位置に前記最小寸法の線幅で前記孤立エッジに並べて配列される。 - 特許庁 - When a bead base line is made as a reference, a ratio (Hc/Hm) of the height Hc in a radial direction to the center of the projection 24 to the height Hm in a radial direction up to a point of the axially maximum width of a side surface 64 is 0.35 or more and less than 0.45.
ビードベースラインが基準とされたとき、この突起２４の中心までの半径方向高さＨｃの、この側面６４の軸方向最大幅となる点までの半径方向高さＨｍに対する比（Ｈｃ／Ｈｍ）が、０．３５以上０．４５未満である。 - 特許庁 - In a ceramic integral substrate 1 which is used in an interposer of a chip-size package and on which a semiconductor element can be mounted, a trapezoidal groove 3 is made in a rear surface of the substrate along a division line, the width of the groove 3 is made larger than that of a blade 14.
チップサイズパッケージのインターポーザーに用いられ、表面に半導体素子が搭載可能なセラミック集合基板１において、裏面に分割ラインに沿って台形溝３を形成し、台形溝３の幅をブレード１４の厚さよりも大きく形成する。 - 特許庁 - Moreover, since line springs (elastic members) which support the lens holder 81 are provided at parts where driving means are provided in the conventional device, that is, at the side of the tangential direction of the holder, increase of a width to the tracking direction of the actuator is suppressed as much as possible.
また、レンズホルダ８１を支持する線ばねが、従来の装置において駆動手段が設けられていた部分、すなわち、レンズホルダのタンジェンシャル方向側に設けられることにより、アクチュエータのトラッキング方向への幅の増大を極力抑制することが可能である。 - 特許庁 - The tape body has elasticity, has an adhesive layer on one surface, and includes small holes 4 at fixed or unfixed interval along a center line passing the center of the tape body in the width direction.
また、テープ本体が伸縮性を持つこと、テープ本体の片面には粘着剤層が設けられていること、及び、テープ本体の幅方向の中心を通る中心線上に沿って小孔４が一定間隔または不定間隔をおいて設けられていることを特徴とする。 - 特許庁
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