「Line width」を含む例文一覧(3396)
＜前へ 1 2 .... 56 57 58 59 60 61 62 63 64 .... 67 68 次へ＞- To provide equipment and a method for cooling a steel sheet by which cooling water is supplied uniformly in the width direction even when a camber is generated on the steel sheet and the whole steel sheet is uniformly cooled in a hot-rolling line of the steel sheet.
鋼板の熱間圧延ラインにおいて、鋼板に反りが発生した場合でも冷却水を鋼板幅方向に均一に供給でき、鋼板全体を均一に冷却することができる鋼板の冷却設備および冷却設備方法を提供する。 - 特許庁 - To finely suppress positional deviation between the center of a die and the height center of a slab by maintaining the slab on the pass line even when thickness increases after reduction of the slab width and the tip part or the rear end part of the slab overhangs in a sizing press.
サイジングプレスにおいて、スラブ幅圧下後に板厚が増加しても、またスラブの先端部若しくは後端部が片持ち支持の状態であってもスラブをパスラインに維持し、金型中心とスラブ高さ中心の位置ずれ量を微少に抑制し得るようにする。 - 特許庁 - In a first working groove formation step, a first laser beam is radiated to a functional layer 13 along a division scheduled line 12 of a semiconductor wafer 1 to form a pair of first working grooves 141 and 142 along the division scheduled line 12 with an interval wider than the width of a cutting blade that is used for a cutting step at a later stage.
本発明のある実施の形態における切削方法において、第１の加工溝形成工程は、半導体ウェーハ１の分割予定ライン１２に沿って機能層１３に第１のレーザー光線を照射し、後段の切削工程で用いる切削ブレードの幅より広い間隔で分割予定ライン１２に沿った一対の第１の加工溝１４１，１４２を形成する。 - 特許庁 - The control scanner 4 outputs a control signal of a predetermined time width to the scanning line WS to make the sampling transistor T1 conductive while the signal line SL is at the signal potential Vsig, then holds the signal potential Vsig in the holding capacitor C1, and at the same time applies compensation to the signal potential Vsig for the mobility μ of the driving transistor T2.
制御用スキャナ４は、信号線ＳＬが信号電位Ｖｓｉｇにある時間帯にサンプリング用トランジスタＴ１を導通状態にするため、所定の時間幅の制御信号を走査線ＷＳに出力し、以って保持容量Ｃ１に信号電位Ｖｓｉｇを保持すると同時に駆動用トランジスタＴ２の移動度μに対する補正を信号電位Ｖｓｉｇに加える。 - 特許庁 - A heating unit 1 equipped with meandering heating cables 9 with the straight line-shaped portions 10 repetitively bent at almost constant width and being parallel to each other is arranged in such a manner that each straight-line portion 10 becomes almost parallel to the longitudinal direction A of the road in this laying method for heating unit 1 and in this road construction 2 obtained by that method.
直線状の部分を形成するように略一定幅で反復的に屈曲させて各直線状部分１０が略平行となるように蛇行させてなるヒーティングケーブル９を備えるヒーティングユニット１を、各直線状部分１０が、道路の長手方向Ａに略平行となるように配置するヒーティングユニット１の敷設方法、およびそれによって得られた道路構造物２。 - 特許庁 - In the line patterning method, functional liquid X is ejected from each ejecting position of lyophilic part H1 displaced in the width direction from the center A in the width direction of each lyophilic part H1 so that the functional liquid X temporarily overflowing from adjacent lyophilic parts H1 do not touch each other thus arranging the functional liquid simultaneously at the plurality of lyophilic parts H1.
線パターンの形成方法であって、隣合う親液部Ｈ１から一時的に溢れ出した上記機能液Ｘ同士が接触しないように各親液部Ｈ１の幅方向の中央Ａに対し当該幅方向に変位した位置を各々の親液部Ｈ１の吐出位置として上記機能液Ｘを吐出することによって複数の上記親液部Ｈ１に同時に機能液を配置させる。 - 特許庁 - Thereby the runway is kept horizontal in the width direction through the gravity to form a perfect straight line.
走行路幅方向を水平に保つための錘部をゴルフボール走行路に設け、ゴルフボール走行路縦長方向中心軸部を支点とし、揺動可能に装着保持する支点保持部を設けた支持部材に装着保持され、ゴルフボール走行路幅方向を重力により水平に保ち、完全なストレートラインを構成する。 - 特許庁 - A masking rib 26 extended along each side is formed on both sides of back surfaces of the long side walls 13, and a support projecting part 27 which is located on the extension line of a longitudinal rib 23 and extends in the width direction of the long side walls 13 is formed on both sides of the masking rib 26.
長側壁１３の裏面の両側部にはそれぞれ各側辺に沿って延びる目隠しリブ２６が形成され、その目隠しリブ２６の両側には縦リブ２３の延長線上に位置するとともに、長側壁１３の幅方向に延びる支持突部２７が形成されている。 - 特許庁 - The upper rail 12 and the lower rail 11 have structures comprising the cross-sectional shape of the line symmetry that ties, in a shape inverting two pieces of one kind of rail parts RP having prescribed cross-sectional shapes that connect mutually to the rail width direction mutually respectively, and mutually comprise one common kind of part.
アッパレール１２とロアレール１１とが、それぞれ、互いに掛かり合う所定の断面形状を持つ１種類のレールパーツＲＰをレール幅方向に２個ずつ互いに反転させた形で繋げた線対称の断面形状から成る構成とされており、互いに共通の１種類の部品から成る。 - 特許庁 - To provide positive resist composition and a pattern forming method using it capable of preferably using super-micro lithographic processes or the other photo-fabrication process, such as manufacturing a VLSI or a micro chip of large capacity etc., with a wide latitude for exposure, and excellent in uniformity of line width.
超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて、好適に使用することができ、露光ラチチュードが広く、線幅の面内均一性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Specially, the processing part 54 performs the process of carrying out the process so that the processing intensity gradually decreases from inside the processing object area toward the peripheral edge at the part in the source image corresponding to the outline of the specific line width by an outline processing part 54a.
特に、処理部５４では、元画像データ上の前記所定の線幅の輪郭線に対応する部分においては、前記処理対象領域の内側から周縁に向かって処理強度が漸次低下するように前記処理を施す処理を、輪郭線処理部５４ａによって行なう。 - 特許庁 - The second luminaire 2B arranged on the side opposite to the first luminaire 2A so as to hold the line of sight of an image input device 3 between both luminaires irradiates the whole surface in the width direction of the roll with second light so as to suppress the generation of a dummy flaw on the surface of a roll-shaped film 1.
また、画像入力装置３の視線を挟んで第１照明装置２Ａに対して反対側に配設された第２照明装置２Ｂが、ロール状フィルム１の表面の疑似欠陥の発生を抑制しうるようにロール幅方向全面に第２光を照射する。 - 特許庁 - When a thickness of the magnetic thin film 10 is T, a line width of the zigzagging pattern is W, and a length of the pattern is L, T is within a range of one to five μm, and L/(W×T) is within 10 to 400×106m-1 or more preferably within 28 to 100×106m-1.
そして、磁性薄膜１０の厚さをＴ、つづら折り状パターンの線幅をＷ、パターンの長さをＬとして、Ｔが１〜５μｍの範囲内にあり、Ｌ／（Ｗ×Ｔ）が１０〜４００×１０^6ｍ^-1の範囲内、より好ましくは２８〜１００×１０^6ｍ^-1の範囲内とされる。 - 特許庁 - A head part 30 irradiates the object to be measured 2 with a line focus beam to generate transverse waves polarized in the direction of rolling or transverse waves polarized, in the width direction inside and introduces a second laser beam to a prescribed location in the object to be measured 2, to acquire a second laser beam reflected there.
ヘッド部３０は、ラインフォーカスビームを測定対象物２に照射してその内部に圧延方向偏波横波又は幅方向偏波横波を発生させると共に、測定対象物２の所定位置に第二レーザビームを導き、そこで反射した第二レーザビームを取得する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist satisfying excellent resolution, small LWR (Line Width Roughness), excellent pattern collapse resistance and excellent in non-defectiveness, and to provide a polymer usable as a resin component in the radiation-sensitive resin composition.
解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物およびこの感放射線性樹脂組成物に樹脂成分として使用できる重合体を提供する。 - 特許庁 - To provide a photopolymerization type photosensitive phosphor paste composition using pure water as a developing solution, ensuring a low baking temperature after the formation of a fluorescent membrane and capable of easily regulating the line width and sharpness of a fluorescent membrane pattern and to provide a method for forming a fluorescent membrane using the composition.
純水を現像液として使用し、蛍光膜の形成後、焼成温度が低く、且つ蛍光膜パターンの線幅及びシャープネスを容易に調節することのできる光重合型の感光性蛍光体ペースト組成物及びこれを用いた蛍光膜の形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positively chargeable toner giving a toner image having stable line width and no density unevenness and free of image deletion even in an image forming apparatus with a large mode difference, such as a color high-speed machine, and excellent also in toner recyclability, and to provide a positively chargeable developer and an image forming method.
カラー高速機のようにモード差の大きい画像形成装置においても、線幅が安定し、濃度ムラが無く、画像流れも発生しないトナー画像が得られ、さらにトナーリサイクル特性にも優れた正帯電トナー、正帯電現像剤及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁 - In the pattern formation method forming a pattern using a letterpress, ink is fed to the letterpress with a stripe shape using an anilox rolls in which the pitch a of a surface pattern satisfies a>w to the line width w of the letterpress, and a pattern is transferred to the body to be printed.
凸版を用いてパターンを形成するパターン形成方法において、ストライプ形状の凸版に、表面パターンのピッチａが該凸版の線幅ｗに対してａ＞ｗとなるアニロックスロールを用いてインキを供給し、被印刷体にパターンを転写することを特徴とするパターン形成方法とした。 - 特許庁 - A plurality of environmental conditions around a substrate to affect processing when a resist pattern is formed are extracted, function models using the above environmental conditions as parameters such as a line width model CD, a film thickness model T and the like are previously formed, and these models are stored in storages 64 and 65 respectively.
レジストパターンを形成する際に影響を及ぼす上記各処理における基板周囲の環境条件を複数抽出し、これらをパラメータとする関数モデル、例えば線幅モデルＣＤ、膜厚モデルＴ等を予め作成し、それぞれ格納部６４，６５に記憶しておく。 - 特許庁 - The method for measuring wall thickness of steel pipe is employed for keeping effective radiation dose to be maximum to the measuring object, by turning the width directional projection line of the radiation source, until being included in the longitudinal projectional surface of the pipe in correspondence with the outer diameter of the measuring object.
被測定物の外径に対応して、放射線源の幅方向投影線が、鋼管の管長手方向投影面に包含されるまで、放射線源を回転して被測定物に対する有効放射線量を最大とする事を特徴とする鋼管の肉厚測定方法である。 - 特許庁 - To provide a semiconductor integrated circuit including a plurality of cells, each cell has a cell width and input pin position in the widthwise direction of the cell within the specified size, for enabling reduction of wiring resource by arranging the wires for input signal in the shape similar to a straight line.
セル幅とセルの幅方向における入力ピン位置とが規定寸法であるセルを複数有する半導体集積回路において、入力信号用の配線を直線に近い形で配して、配線リソースの削減を可能とする半導体集積回路を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition for negative development excellent in line width roughness (LWR), exposure latitude (EL) and depth of focus (DOF) and a pattering process using the same, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly-integrated and high-accuracy electronic device.
高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The degree in which the current flowing in the electricity-feeding wire 3 is deviated from the axis center line 3a is reduced, and since the width in which a current route is deviated from a central part 6a of the pickup coil 6 becomes small, lowering of induction voltage when the pickup coil 6 passes through the connector 1 is reduced.
これにより給電線３を流れる電流が軸中心線３ａを外れる程度が軽減され、電流経路がピックアップコイル６の中央部６ａを外れる幅が小さくなるので、ピックアップコイル６が接続装置１を通過するときの誘起電圧の低下が軽減される。 - 特許庁 - In this solid electrolytic capacitor with an anode lead-out line led out from within a sintered body consisting of a valve-action metal powder; the sintered body 1 has a plurality of concave strips 1a, and the concave strip 1a has a depth of 80 to 150 μm, and a width of 80 to 150 μm.
弁作用金属粉末からなる焼結体に陽極導出線を引き出した固体電解コンデンサにおいて、焼結体１が、表面に複数本の凹条部１ａを有しており、凹条部１ａが、深さ８０乃至１５０μｍ、幅８０乃至１５０μｍである。 - 特許庁 - The transmission line is composed by a pair of signal lines that are embedded adjacent to the same wiring layer of a dielectric layer, and has thickness larger than width, and at the same time, the coupling impedance between the signal lines is set lower than that between the lines and the conductor of other wiring layers.
伝送線路を、誘電体層の同一配線層に隣接して埋め込まれた厚みが幅より大なる一対の信号線路によって構成し、かつ信号線路間の結合インピーダンスを前記線路と他の配線層の導体間との結合インピーダンスより低くなるように構成する。 - 特許庁 - The blindfold portion 42 reaches outside in the car width direction of a member side mounting portion 22A of a hinge 22, and a parting line 44 is, in a side view, positioned at a position at the back of a car body than the member side mounting portion 22A of the hinge 22, and is bent toward the inside of the rear part of the car body.
この目隠し部４２は、ヒンジ２２のメンバ側取付部２２Ａの車幅方向外側に達しており、見切り線４４の位置は側面視において、ヒンジ２２のメンバ側取付部２２Ａより車体後方の位置となっていると共に、車体後方内側へ向けて湾曲されている。 - 特許庁 - Thus, in a conveyance path without an allowable margin of the path width in a PDP manufacturing line, it is possible to easily convey the screen printing plate without using a truck designed for conveying the screen printing plate, without feeling the weight of the screen printing plate as a burden and, further, without deteriorating the workability.
これにより、ＰＤＰの製造ラインにおける経路幅に余裕の無い搬送経路において、スクリーン版を搬送するための台車を使用せずにスクリーン版の重さを負荷に感じることなく、且つ作業性を低下させることなく容易に搬送を行うことができる。 - 特許庁 - In the links 21 disposed outside in the chain width direction, pin moving parts 26 of the front insertion sections 22 and inter piece moving parts 29 of the back insertion sections 23 are large as compared with the reference link indicated with a two-dot chain line in the figure and gaps between these, and the pins 14 and inter pieces 15 are set large.
チェーン幅方向の外側に配置されるリンク21は、図に二点鎖線で示している基準リンクに対して、前挿通部22のピン可動部26および後挿通部23のインターピース可動部29が大きく、これらとピン14およびインターピース15との間の隙間が大きく設定されている。 - 特許庁 - When a worm shaft 23 is inclined in a Z direction by an angle α with a center position F in an axial direction as a fulcrum, positions 52, 53 near to the teeth edges on both sides of a center axial line 230 of the worm 231 are brought into tooth contact with positions 54, 55 near to both the edges of a tooth width b of the worm wheel 22.
ウォーム軸２３を、軸方向中央位置Ｆを支点として、−Ｚ方向に角度αだけ傾動すると、ウォーム２３１の中心軸線２３０の両側の歯先寄りの位置５２、５３が、ウォームホイール２２の歯幅ｂの両端寄りの位置５４、５５で歯当たりすることになる。 - 特許庁 - A slit width (a back and forth direction in Fig.2A and a right and left direction in Fig.2B) is 1 mm from the gas introduction entrance 11i up to above the plasma generating region P and the gas ejection port 11o of an inner diameter 1 to 2 mm is formed in a straight line in a longitudinal direction of the plasma generating region P.
ガス導入口１１ｉからプラズマ化領域Ｐの直上までは、スリット幅（２．Ａの前後方向、図２．Ｂの左右方向）を１ｍｍとし、内径１〜２ｍｍのガス噴出口１１ｏはプラズマ化領域Ｐの長手方向に一直線状に形成されている。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition having sufficient basic characteristics such as sensitivity and excellent lithographic performances represented by an MEEF (mask error enhancement factor) and LWR (line width roughness) as an indicator, to provide a method for forming a resist pattern using the photoresist composition, and to provide a polymer and a compound to be used for the resist composition.
感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲを指標とするリソグラフィー性能に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法、上記フォトレジスト組成物に用いられる重合体、及び化合物の提供。 - 特許庁 - The mirror 12, for continuously inputting a subject image to the line sensor, and a narrow width illumination lamp 13 are mounted on a drive unit 5 for making the mirror 12 and the lamp 13 rotate the mirror 12 and the lamp 13 at 360°, to photograph the subject.
そして被検査体像を１次元ラインセンサに連続的に入力するよう細幅反射鏡１２と細幅照明灯１３とを回転させる駆動装置５に取り付けて細幅反射鏡１２と細幅照明灯１３を３６０°回転させて撮影を行なうものである。 - 特許庁 - The line-type inkjet device includes a conveying part 133 that conveys a transfer sheet in a nearly vertical direction, and an inkjet part 136 that discharges ink on an entire area in a width direction of the transfer sheet that is conveyed by the conveying part 133 from a direction nearly perpendicular to the transfer sheet and forms an image on the transfer sheet.
ライン型インクジェット装置は、略鉛直方向に転写紙を搬送する搬送部１３３と、搬送部１３３により搬送される転写紙の幅方向全域に対して、転写紙に略垂直な方向からインクを吐出し転写紙に画像を形成するインクジェット部１３６とを備える。 - 特許庁 - When the drawing instruction does not consider the resolution (S225: NO), the printer driver executes a drawing processing by increasing the width of a line used as a drawing object or the size of a unit pattern used for fill at magnification equivalent to a ratio of the resolution of a drawing area for display to that of a drawing area for print (S235).
解像度を考慮していない場合は（Ｓ２２５：ＮＯ）、表示用描画領域と印刷用描画領域との解像度比に相当する倍率で、描画対象となる線の太さないし塗りつぶしに使う単位パターンの大きさを拡大して、描画処理を実行する（Ｓ２３５）。 - 特許庁 - There are provided a computer system 900 for storing a quality judgment result of a hot-rolled metal strip, which stores the result of quality judgment of a hot-rolled metal strip 8 conducted by using a near-infrared camera 25A (21A, 27A) capable of photographing the whole width of the hot-rolled metal strip 8 rolled in a hot-rolling line 100.
熱間圧延ライン１００にて圧延する熱延金属帯８の全幅を撮影可能な近赤外線カメラ２５Ａ（２１Ａ、２７Ａ）を用いた、熱延金属帯８の品質判定の結果を記録する熱延金属帯の品質判定結果記録用コンピュータシステム９００。 - 特許庁 - To provide a method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material having a mesh metal conductive layer, in which the mesh pattern by conductive ink can be made thinner without causing distortion of the pattern or unevenness in line width or layer thickness.
メッシュ状の金属導電層を有する光透過性電磁波シールド性窓材を製造する方法であって、パターンの歪みや、線幅や層厚の不均一を生じることなく、導電性インクの印刷によるメッシュ状パターンをさらに細線化ができる製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The above-mentioned problem is solved by configuring an alignment mark formed on a reflective mask with slit structures having a fine line width and a space less than the resolution limit for a wavelength of alignment light of a laser drawing device and reducing intensity of a reflection signal in alignment light irradiation.
反射型マスクに形成するアライメントマークを、レーザ描画装置のアライメント光の波長に対し、解像限界以下の微細な線幅および間隔を有するスリット状の構造体で構成して、アライメント光照射における反射信号の強度を小さくすることにより、上記課題を解決する。 - 特許庁 - Along the scribe line on a semiconductor wafer 360, a groove 363 is formed using a cutter blade 201 thicker than the width of a test pattern 362 on the semiconductor wafer and then the inside of the groove 363 is cut by means of a thinner cutter blade 202.
半導体ウエハ３６０におけるスクライブラインに沿って、まず、半導体ウエハ上のテストパターン３６２の幅よりも厚い刃厚を有する切断刃２０１を用いて凹溝３６３を形成し、次に、この凹溝３６３内を、薄い刃厚を有する切断刃２０２によって切り込み、切断する。 - 特許庁 - Thus, it is realized to form the deep source/drain regions prior to the shallow source/drain regions, and to control an overlap of the impurities ion-implanted into the shallow source/drain regions created through the gate pattern line width gradually reducing with the second spacer for offsetting.
これにより、深いソース/ドレーン領域を浅いソース/ドレーン領域より先に形成することと同時に前記オフセット用第２スペーサにより次第に縮まるゲートパターン線幅により発生する浅いソース/ドレーン領域にイオン注入される不純物の重畳を抑制できる。 - 特許庁 - Since actual waveforms reach respective high levels VIH and low levels VIL within the minimum pulse width before reaching the high level VIHH for adjustment and the low level VILL for adjustment and return from there, approximately the same waveforms as when they are free from influence of the characteristics of the transmission line 9 can be obtained.
実際の波形は調整用ハイレベルＶＩＨＨ、調整用ローレベルＶＩＬＬまで到達せずに、最小パルス幅の間にそれぞれハイレベルＶＩＨ、ローレベルＶＩＬに到達し、そこから折り返していくので、伝送ライン９の特性の影響を受けない場合とほぼ同一の波形が得られる。 - 特許庁 - In a step of etching the passivation film 336, a through-hole 344 having the size including the width of the wiring 330 inside is formed in the passivation film 336, on a position furthermore in the cutting line direction of a substrate 310 than a drain electrode 334 and a source electrode 332 of the wiring 330.
パッシベーション膜３３６をエッチングする工程で、配線３３０の、ドレイン電極３３４及びソース電極３３２よりも基板３１０の切断ライン方向の位置で、配線３３０の幅を内側に含む大きさの貫通穴３４４をパッシベーション膜３３６に形成する。 - 特許庁 - In the thin-film solar cell module having a conductive metal oxide layer, a photoelectric conversion layer, and a back electrode on a translucent insulating substrate, the finger electrode of a preset pattern of a narrow line width for reducing the resistance loss of the conductive metal oxide layer is provided.
透光性絶縁基板上に、導電性金属酸化物層と、光電変換層及び裏面電極とを有する薄膜系太陽電池モジュールにおいて、導電性金属酸化物層の抵抗損を低減する、線幅の細く予め設定したパターンのフィンガー電極が設けられる。 - 特許庁 - A moving vector detecting part 24 detects moving vectors in the respective areas of the image on the basis of these frame image data and car speed data and a moving vector processing part 25 evaluates the pattern of the moving vector on a reference horizontal line and finds a distance and road width up to the wall surface of a road end.
移動ベクトル検出部２４では、これらのフレーム画像データと車速データに基づき画像の各領域の移動ベクトルを検出し、移動ベクトル処理部２５では、基準水平ライン上の移動ベクトルのパターンを評価して、道路端の壁面までの距離と道幅を求める。 - 特許庁 - The pattern edge of a discharge inactive membrane 22 is formed at a position near the bus-bar portion b side or at the position at a distance of 50 μm or more from the electrode part fb, and the line width of the portion of the address electrode W facing the membrane 22 is narrower than the portion of the electrode YG facing the electrode part fp.
放電不活性膜２２のパターンエッジは、母線部ｂ側に近い位置か、電極部ｆｐから５０μｍ以上の距離を隔てた位置に設けられ、アドレス電極Ｗの膜２２に対面する部分の線幅は、電極ＹＧの電極部ｆｐに対面する部分よりも細い。 - 特許庁 - The gate driving module is connected with gate driving signal input lines (253 etc.), and gate driving signal by-pass lines (254 etc.), and it is made possible to easily inspect whether or not the gate driving signals are effective by providing either or both of the lines with a pattern having a width larger than each line.
ゲート駆動モジュールにはゲート駆動信号入力線（２５３等）及びゲート駆動信号バイパス線（２５４等）が接続されており、これらの一方あるいは両方に各線より大きな幅寸法のパターンを設けゲート駆動信号の有効可否を容易に検査することができるようにした。 - 特許庁 - A mask 30 for use in an electron beam proximity aligner 1 is provided while altering the line width (Wma-Wmc) of each aperture (35a-35c) depending on the distance between a mask thin film 32 and a sample 40 at the position of the aperture (35a-35c) which varies due to the deflection of the thin film 32.
電子ビーム近接露光装置１に使用するマスク３０を、その薄膜部３２のたわみにより変化する、各開口（３５ａ〜３５ｃ）位置におけるマスク薄膜部３２と試料４０との距離に応じて、当該開口（３５ａ〜３５ｃ）の線幅（Ｗｍａ〜Ｗｍｃ）を変更して設ける。 - 特許庁 - A pattern of electromagnetic wave shielding ink comprising two or more ink lines each of which has a width of L and crosses with each other to form a mesh is provided on one surface of the film base material to form the electromagnetic wave shielding member, and the intersections of the ink lines are each 1.2 to 3 times as thick as the ink line.
電磁波遮蔽性インキからなるメッシュ等の２本以上の線幅Ｌのラインが交差するパターンがフィルム基材の一面上に配設された、電磁波遮蔽性を有する電磁波シールド用の部材であって、ライン交点部分の膜厚がライン部分の１. ２倍〜３倍である。 - 特許庁 - To raise a controllability of a line width of a pattern, while reducing a developing defect, in case of forming a protective film of a water repellent property on a substrate an which a resist film is formed, and performing a development processing to the substrate after forming a liquid layer on a front surface of the protective film and carrying out an oil immersion exposure.
レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。 - 特許庁 - Besides, by using an optical observation apparatus utilizing the interference and refraction of light, without shrinking the resist pattern like the conventional case of recognizing the resist pattern by using an electron microscope, the line width can be precisely measured in a nondestructive manner.
また、光の干渉、回折を利用した光学観察装置を用いることにより、従来において電子顕微鏡を用いてレジストパターンの認識を行った場合のようにレジストパターンの収縮を発生させることはなく、非破壊で精密に線幅を測定することができる。 - 特許庁 - To provide a multilayer film for wiring formation that can form high-precision wiring of ≤30 μm in line width on a multilayer wiring board and compatibly provide peeling easiness and adhesive strength of a positive type photosensitive resin film, and a method of manufacturing multilayer wiring board using the same.
多層配線基板に線幅３０μｍ以下の高精度な配線を形成することができ、ポジ型感光性樹脂膜の剥離容易性と接着性とを両立させた配線形成用多層フィルムおよびこれを用いた多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
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