「Line width」を含む例文一覧(3396)
＜前へ 1 2 .... 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 次へ＞- To provide a gate line driving circuit which adjusts a pulse width of a scanning signal to reduce a phenomenon of variation in liquid crystal applied voltage during gate pulse application to a front stage and adjust the scanning frequency of a non-display part by a partial display function intending to reduce power consumption.
本発明は、前段のゲートパルス印加時において液晶印加電圧が変動してしまう現象を低減するために走査信号のパルス幅が調節可能であり、低消費電力化を目的としたパーシャル表示機能で非表示部の走査頻度を調節可能なゲート線駆動回路を提供することにある。 - 特許庁 - To make the pulse width of a scanning signal Yi not become short even if a selection signal Sel-i delays to an instruction signal yINH, in an output limiting circuit 134 which permits or prohibits the scanning signal Yi from becoming H level showing selection of a scanning line 112 according to the instructions signal yINH.
走査信号Ｙｉが走査線１１２の選択を示すＨレベルとなることを、指示信号ｙＩＮＨにしたがって許可または禁止する出力制限回路１３４において、選択信号Ｓｅｌ−ｉが指示信号ｙＩＮＨに対し遅延しても、走査信号Ｙｉのパルス幅が短くならないようにする。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method which is excellent in roughness performance such as line width roughness, local pattern dimension uniformity, and exposure latitude and capable of suppressing reduction in film thickness (so-called film reduction) at a pattern portion formed by development, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used in the method, and a resist film.
ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。 - 特許庁 - The groove parts 44a and 44b are formed by welding the linear sheets to each other across a specified width, and arranged along the contours 28, 30, 32 and 34 and folded parts 20, 22, 24 and 26 of a case blank (a part encircled by a broken line 46) cut out of the hollow resin sheet material 42.
この溝部４４ａ、４４ｂは、そのライナー板どうしを所定の幅にわたって相互に溶着して形成したもので、当該中空樹脂板材４２から切り抜かれるケースブランク１０（破線４６で囲まれる部分）の輪郭２８、３０、３２、３４及びその折曲部２０、２２、２４、２６に沿って設けられている。 - 特許庁 - On the other hand, the Raman amplifier performs Raman amplification of the signal light by adjusting the light power of the respective excitation channels included in excitation light in such a manner that the light power of the signal channels increases from the long wavelength side toward the short wavelength side of the signal wavelength band width in order to improve the noise characteristics over the entire part of the line (20).
一方、ラマン増幅器は、光ファイバ伝送路（２０）全体の雑音特性を改善すべく、励起光に含まれる各励起チャネルの光パワーを調節することにより、信号波長帯域の長波長側から短波長側に向かって信号チャネルの光パワーが大きくなるよう信号光をラマン増幅する。 - 特許庁 - A middle vehicle 110 following the first vehicle 100 in the vehicle convoy and the last vehicle receive a signal corresponding to the travel position of the vehicle 100 through a signal line 48 and calculate the positional deviation quantity ΔY in the vehicle width direction between the position of the vehicle 100 and the position of their own vehicle.
車両隊列内の先頭車両１００に後続する中間車両１１０および最後尾車両は、先頭車両１００の走行位置に応じた信号を信号線４８を介して受信し、先頭車両１００の位置と自己の車両の位置との車幅方向の位置ずれ量ΔＹを算出する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a film carrier tape for mounting multiple-strip electronic components, capable of markedly improving the manufacturing capability of the film carrier tape for mounting the component via one-row manufacturing line without the need for replacing various components which correspond to the width of the carrier tape for mounting a plurality of types of the electronic components.
複数種類の電子部品実装用フィルムキャリアテープの幅に対応した諸々の部品に交換する必要がなく、一系列の製造ラインによって、電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造能力の大幅な向上を可能とする多条電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The tire 100 has a constitution wherein a tire center line CL is located in a tread width W1 of a first tread 141, and therefore a fuel consumption is reduced by grounding the first tread 141 having small rolling resistance in such a state that a comparatively small (0° or its vicinity) camber angle is formed.
タイヤ１００によれば、第１トレッド１４１のトレッド幅Ｗ１内にタイヤ中心線ＣＬが位置する構成であるので、比較的小さな（０°またはその近傍の）キャンバ角がつけられた状態では、転がり抵抗の小さい第１トレッド１４１を接地させて、省燃費化を図ることができる。 - 特許庁 - Slits 7a, 7b exposed to both end parts in a cavity 4 for forming a foamed molding are arranged along the parting line part of a pair of combined molds 51, 61 not provided with vent holes surrounding the cavity 4 at a time of mold closing so that the opening width of each of the slits is smaller than the particle size of supplied raw material beads.
型閉時に、発泡成形体を形成するためのキャビティ４を包囲する、ベントホールを備えていない一対の組合せ金型５１、６１の合わせ目部分に沿って、キャビティ内の両端部分に露出したスリット７ａ、７ｂを、その開口幅を供給される原料ビーズの粒径より小さいものとして配設する。 - 特許庁 - The tab 30 comes in line contact with the flat part 16B in a width direction at the beginning of contact with the contact protrusion 16, so that an insertion posture is stabilized and an insertion feeling is improved, and on the other hand, comes in point contact with the contact part 16A at completion of the insertion, so that contact becomes clear enabling a stable connection.
タブ３０は、接触突部１６との当り始めで平坦部１６Ｂと幅方向に線接触するから、挿入姿勢が安定化して挿入フィーリングが向上する一方、挿入が完了したときに接点部１６Ａと点接触するから、接点が明確となって安定した接続をとることができる。 - 特許庁 - To suppress decrease of power generation capacity because of narrowing of an MEA (Membrane Electrode Assembly) reaction area by properly controlling width of the rubber impregnation area to the peripheral edge part of a GDL (Gas Diffusion Layer) in a seal structure body having a structure wherein rubber constituting a seal lip line is impregnated in a peripheral edge part of the GDL constituting the MEA.
ＭＥＡを構成するＧＤＬの周縁部にシールリップラインを構成するゴムを含浸する構造のシール構造体において、ＧＤＬ周縁部に対するゴム含浸領域の幅を適切に制御し、もってＭＥＡ反応領域が狭くなって発電容量が低下するのを抑制する。 - 特許庁 - On one side of a base paper 10, a roller receptor part 11 is arranged in a straight line to be parallel in the longitudinal direction of the base paper 10 with a lateral width W1 extending to be uniform from the center part in one short side of the base paper 10 up to the center part in the other short side of the base paper 10.
基材紙１０の片面に、基材紙１０の長手方向と平行を成し、かつ、基材紙１０の一方の短辺における中央部分から基材紙１０の他方の短辺における中央部分まで横幅Ｗ１が一律となるように延在する直線状のローラー受け部１１を配置する。 - 特許庁 - A rolling mill 16, whose upper and lower work rolls can be individually shifted in an arbitrary direction along the axial line by an arbitrary amount, is provided on the downstream side of a continuous casting machine 1 of a single or twin roll, which continuously casts a cast slab 6 with a specified width by supplying a molten metal 4 into a tundish 3 arranged in its upper part.
上部に配置されたタンディッシュ３から溶湯４を供給されて所定幅の鋳片６を連続鋳造する双ロール又は単ロールの連続鋳造機１の下流側に、上下ワークロールを個別に軸線方向に沿った任意のシフト方向へ任意の量だけシフトし得るようにした圧延機１６を設置する。 - 特許庁 - In the respective optical transmitters 10-1 to n, the monitor signals are taken out as frequency component monitor signals with frequencies to be outputted by each of them by a BPF (band path filter) and when ratio of monitor levels of the reflected lights is larger than a prescribed value, a degree of modulation of signals to be outputted is controlled so as to broaden line width.
各光送信器１０−１〜ｎでは、これらモニタ信号はＢＰＦによりそれぞれが出力する周波数の周波数成分モニタ信号として取出され、線幅制御回路で比較され、反射光のモニタレベルの比が所定値より大きい場合、線幅を広げるよう出力する信号の変調度が制御される。 - 特許庁 - The laser irradiation mark 100a is structured of a recrystallized part 102a formed at a part spread in all directions from the center part of a line width toward the inside of a plate material of the outer package can 10, and a heat-affected zone 101a formed at a circular part in contact with the outside of the recrystallized part, from the viewpoint of metal composition.
レーザ照射痕１００ａは、金属組成の観点から、線幅中央部から外装缶１０の板材内側に向けて放射状に広がる部分に形成された再結晶部１０２ａと、これの外側に接する環状部分に形成された熱影響部１０１ａとから構成されている。 - 特許庁 - Only when a scanner input image (A4) is magnified (A3) and then exceeds a main scanning width (e.g., A3 portrait size) determined as a capacity of a line buffer of an image processing means 25, data is output through a first route shown in Fig.12(A) wherein image is rotated by an image rotating means (1)26 prior to image processing.
スキャナ入力画像（Ａ４）が変倍後（Ａ３）に、画像処理手段２５のラインバッファの容量として決められている主走査幅（例えば、Ａ３縦）を超える場合にのみ、画像回転手段（１）２６画像処理前に画像回転を行う図１２（Ａ）の第一の経路で出力データ処理を行う。 - 特許庁 - With respect to the width direction, a film thickness difference between the thickest film part having the largest film thickness of the uneven-thickness resin sheet and the thinnest film part having the smallest film thickness thereof is 0.5 mm to 5 mm and the angle which a straight line B connecting the lip port 42 and the nipping part 46 forms with respect to the vertical direction A is 7° to 10°.
幅方向に関して、偏肉樹脂シートのうち膜厚が最も大きい最膜厚部と膜厚が最も小さい最膜薄部との膜厚差は０．５ｍｍ以上５ｍｍ以下であり、リップ口４２と挟圧部４６とを結ぶ直線Ｂが鉛直方向Ａに対して成す角度は、７°以上１０°以下である。 - 特許庁 - A substrate, a closed-end main UV-hardening sealant on the substrate and a closed-end dummy UV-hardening sealant on a periphery of the main UV-hardening sealant, wherein a width of one portion of the closed-end dummy UV-sealant overlapped with a scribing line is narrower than that of the other portions are included.
本発明は、基板と、基板上に形成された閉鎖型主ＵＶ硬化型シール剤及び主ＵＶ硬化型シール剤の外郭領域に形成され、セル切断ラインと重なる領域の幅が他の領域の幅に比べて狭く形成されている閉鎖型ダミーＵＶ硬化型シール剤とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide an undercoat liquid and an ink-jet recording method, that, irrespective of a recording medium, excels on picture homogeneity between various recording media, enables to control the occurrence of ink bleeding, non-uniformity of line width and color irregularities and at the same time maintains the uniform dot diameter and enables to record with sufficient consistency over details regardless of the kinds of the pictures.
被記録媒体に依らず、種々の被記録媒体間における画像均一性に優れ、インク滲み及び線幅の不均一や色ムラ等の発生を抑制できると共に、均一なドット径を保ち、画像形態に関わらず細部にわたり高い濃度で再現よく記録できる下塗り液、並びにインクジェット記録方法。 - 特許庁 - An image processor uses a method for determining an area of arbitrary width adjacent to an inner side or an outer side of character edges by extracting an inner edge area and an outer edge area of edges of characters and line drawing and expanding the inner edge area in the outer direction of the edges, and the outer edge area in the inner direction of the edges.
文字・線画エッジ部の内エッジ領域・外エッジ領域の抽出を行い、内エッジ領域をエッジの外側方向に、外エッジ領域をエッジの内側方向に拡張させることによって、文字エッジの内側または外側に近接する任意の幅の領域を判定する方法を用いる。 - 特許庁 - Flat sections 113 and 100, 113 with the prescribed width are formed on the end insides 111' and 100, 111' of the plain tile sections 111 and 100, 111, and straight line sections 115 and 100, 115 to be kept in contact with the flat sections 113 and 100, 113 are formed on the end sides of the convex tile sections 113 and 100, 113.
本発明は、段付きを一部形成した平板瓦部111、100111と、尻部に段落し玉口部を有する丸瓦部112、100112で構成する軒瓦、棧瓦1、100であって、平板瓦部の端側内部111'、100111'に所定幅の平坦部113、100113を形成し、この平坦部に接触する直線部115、100115を丸瓦部の端側に形成する構成である。 - 特許庁 - The slot antenna 11 is provided with: a conductor layer 13 formed on one side of a base board 12 made of a dielectric body or the like; a slot 14 opened to the conductor layer 13; and the feeder line 15 formed on the other side of the base board 12 and for traversing the slot 14 along a width direction while facing the middle part of the slot 14 in its length direction.
スロットアンテナ１１は、誘電体等からなる基板１２の片面に形成された導体層１３と、導体層１３に開設されたスロット１４と、基板１２の他面に形成されてスロット１４の長手方向中央部と対向し該スロット１４を幅方向に沿って横切る給電線路１５とを備えている。 - 特許庁 - The imaging apparatus having a function for printing a list performs line feed at a specified position of the list when the size of a sheet set in a sheet feed tray is smaller than a preset size so that the lateral width of the list falls within the sheet size thus printing the list.
リストをプリントする機能を有する画像形成装置において、給紙トレイにセットされた用紙サイズが予め定めた設定サイズより小さい場合には、前記リストの所定の位置で改行を行い、前記リストの横幅が前記用紙サイズに収まるようにして該リストをプリントすることを特徴とする。 - 特許庁 - This rare earth-iron-nitrogen-based magnet powder has a Th2Zn17 type crystal structure, and the integral width of a diffracted line of its crystal structure (113) is 0.06 degrees or less, and the powder orientation exceeds 1.44.
Ｔｈ_２Ｚｎ_１７型結晶構造を有する希土類−鉄−窒素系磁石粉末であって、Ｔｈ_２Ｚｎ_１７型結晶構造（１１３）回折線の積分幅が０．０６度以下であり、かつ粉末配向度が１．４４を超えることを特徴とする希土類−鉄−窒素系磁石粉末、及びその製造方法により提供。 - 特許庁 - To provide a semiconductor wafer processing system for improving the manufacturing yield of a semiconductor by drastically making uniform the thickness distribution of a photoresist film on a wafer, for reducing the deviation of the line width of a pattern, and efficiently suppressing the contamination of the wafer in a housing by dust or the like.
ウェハ上のフォトレジスト膜の厚さ分布が格段に均一になってパターンの線幅の偏差が減少し、しかも塵埃等によるハウジング内におけるウェハの汚染を効率よく抑制することによって、半導体の製造収率を向上させることができる半導体ウェハプロセッシングシステムを提供すること。 - 特許庁 - To provide an acrylic acid derivative useful as a raw material of a polymer compound with less swelling in development, a polymer compound obtained by polymerizing a raw material containing the acrylic acid derivative, a photoresist composition with improved LWR (line width roughness) containing the polymer compound, and a method for producing the acrylic acid ester.
現像時の膨潤が小さい高分子化合物の原料として有用なアクリル酸誘導体、該アクリル酸誘導体を含有する原料を重合して得られる高分子化合物、該高分子化合物を含有するＬＷＲが改善されたフォトレジスト組成物、並びに前アクリル酸エステルの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an interlayer insulating resin film suitable for manufacturing a printed wiring board that has conductor circuits made high in density without making a wiring width small and also has superior inter-line and interlayer insulation and connection reliability between the conductor circuits in order to provide the printed wiring board having the conductor circuits made high in density.
導体回路の高密度化されたプリント配線板を提供するために、配線幅を小さくすることなく導体回路を高密度化し、かつ線間と層間での導体回路間の絶縁性および接続信頼性に優れたプリント配線板の製造に適した層間絶縁樹脂フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a technology for controlling the presence of laser oscillation oscillating from a liquid crystal cell by applying any external stimulus other than temperature or pressure to a cholesteric liquid crystal, and changing the array status of liquid crystal molecules in a liquid crystal cell, and to provide a laser oscillation technology for applying a sharp spectrum whose spectral line width is small.
コレステリック液晶に、温度や圧力以外の外部刺激を与えて、液晶セル中の液晶分子の配列状態を変化させ、液晶セルから発振されるレーザー発振の有無を制御する技術を提供すること、スペクトル線幅の小さいシャープなスペクトルを与えるレーザー発振技術を提供すること。 - 特許庁 - To obtain a multilayer wiring substrate that can simplify the manufacturing process and which does not include close contact failures between wiring circuit layer and insulation layer, even when a wiring circuit layer having large line width and a wiring circuit layer consisting of a wide area metal foil are arranged within the insulation substrate, and also to obtain a method of manufacturing the same multilayer wiring substrate.
製造工程の簡略化を図ることのできるとともに、線幅の広い配線回路層や、グランド層などの広面積の金属箔からなる配線回路層を絶縁基板内部に配設した場合においても配線回路層と絶縁層間の密着不良のない多層配線基板とその製造方法を得る。 - 特許庁 - Bristle tufts 7 of the toothbrush 1 are planted by driving flat lines 6, whose width is longer than the diameter of the tuft hole 5, into a plurality of tuft holes 5 formed on a planting base 4 and double-folding the bristles 7 via each flat line 6 to be planted.
植毛台４に形成された複数個の植毛穴５に、該植毛穴５の径よりも長い幅の平線６をそれぞれ打ち込むことにより各平線６を介して二つ折りされた毛束７を植毛してなる歯ブラシ１において、平線６の幅方向の両端縁に、突出部６１又は切り込み部を形成する。 - 特許庁 - To provide a resist composition that can be preferably used in an ultra-micro lithography process such as manufacture of an ultra LSI and a high-capacity microchip and the other photo-fabrication and is superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin.
超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁 - A new phase compensated 180° rat race hybrid type power distributor can improve the RF.LO isolation on wide band width by adding a short transmission line 11 and a capacitor 10 (or resistor) of a low value to the topology of a conventional 180° rat race hybrid device and is allowed to be simply assembled.
新しい位相補償１８０度ラットレースハイブリッド型電力分配器は、従来の１８０度ラットレースハイブリッド装置のトポロジー上に、短い伝送路１１と、値の低いコンデンサ１０（または抵抗器）を加えることにより、広い帯域幅上でミキサーのＲＦ・ＬＯアイソレーションを向上させると共に、簡単に組み立てられる。 - 特許庁 - In the grating in which both ends of many respective members 2 are welded to inner faces 4, 4 facing end plates 1, 1 in which a welded protruding line 6 projecting at the inner face 4 side are formed in cold work at an intermediate position in the vertical width direction of a plate main body 1a along the longitudinal direction of the plate main body 1a.
エンドプレート１・１の対向する内面４・４に多数の各メインバー２の両端が溶接されたグレーチングにおいて、各エンドプレート１は、プレート本体１ａの上下幅方向の中間に、内面４側に突出する溶接突条６が、プレート本体１ａの長手方向に沿って冷間加工で形成されている。 - 特許庁 - To broaden the working width for the settling of topdressing sand scattered on a lawn by vertically movably suspending a main frame from a running machine body and by equipping the machine body with right and left rockable redistribution members for traversing bristle tips of brushes in right and left directions by a preferred stroke while adjusting bearing pressures of the brush extending in right and left directions with respect to the line.
走行機体に昇降可能にメインフレームを吊設し、該メインフレームに進行方向に対して左右に伸延するブラシの毛先を接地圧を調整しつつ左右に所定量往復動させる揺動すり込み部を左右に並設し、芝生上にまかれた目砂を芝内にすり込ませる作用幅を広くする。 - 特許庁 - The inspection device 15 of the rolling roll flaw is installed on a run-out table behind a cooling zone 12 between the final stand of the finish rolling machine 11 of a hot rolling line and the pinch roll 13 before a down coil 14 and its floodlight projection part emits light to the surface to be inspected by an inspection target obliquely in the width direction of the inspection target.
熱延ラインの仕上げ圧延機１１の最終スタンドとダウンコイラ１４前のピンチロール１３との間の、冷却帯１２の後のランナウトテーブル上に、圧延性ロール疵検出装置１５を設置し、その投光部は、被検査体の幅方向斜めより被検査体の検査対象面上に光を照射する - 特許庁 - The initial resist pattern 22 in the lattice shape is anisotropically etched by using a method for plasma etching etc., to form a lattice-shaped resist pattern 23 which is reduced in line width and further the plasma etching is carried on to form a resist pattern 24 in a pillar shape and a pillar-shaped resist pattern 25 of desired shape at an intersection part.
プラズマエッチングなどの手法を用いて、格子状の初期レジストパターン２２を等方的にエッチングし、線幅が縮小された格子状レジストパターン２３を、さらに、プラズマエッチングをさらに進め、交点部にピラー形状のレジストパターン２４及び所望の寸法のピラー形状レジストパターン２５を形成する。 - 特許庁 - Capacitor conductor patterns 3, 4 are composed of large areas 11, 21 arranged in a line in a lengthwise direction (Y direction) of a ceramic green sheet 2; narrow areas 12, 22; and small width portions 13, 23 arranged between the portions 11, 21 and the portions 12, 22 to connect the portions 11, 21 to the portions 12, 22, respectively.
コンデンサ導体パターン３，４はそれぞれ、セラミックグリーンシート２の長さ方向（Ｙ方向）に一列に配置された大面積部１１，２１と、小面積部１２，２２と、大面積部１１，２１および小面積部１２，２２の間に配置されて大面積部１１，２１と小面積部１２，２２を繋ぐ幅狭部１３，２３とからなる。 - 特許庁 - To provide an actinic-ray- or radiation sensitive resin composition superior in line width roughness (LWR), depth of focus (DOP) and pattern profile, so as to more stably form a high-precision minute pattern for manufacturing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a method of forming a pattern using the same.
高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a resist pattern forming method which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using a high energy beam, X-ray, electron beam or EUV light and satisfies high sensitivity, high resolution, good line width roughness and process margin at the same time, and a developer used for the method.
本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁 - To provide an electromagnetic wave shielding material with a pattern line width further miniaturized to prevent moire even if a contrast improving layer is also used when the material is used for a front filter for display where electric resistance is low irrespective of the miniaturization and permeability is prevented from being deteriorated due to the scumming of a pattern opening.
ディスプレイ用前面フィルタに用いるときにコントラスト向上層を併用してもモアレが出ないよう、パターンの線幅をより一層微細化した電磁波シールド材であって、そのように細線化しても低い電気抵抗であり、かつパターン開口部の地汚れによる透過率の低下がない電磁波シールド材を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition enabling a pattern to be formed, the pattern having improved line width roughness, remedied development defects and pattern collapse and exhibiting good conformability to an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.
ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist pattern forming method which, in double patterning, can form a second resist pattern while retaining a first resist pattern without dissolving the first resist agent in the second resist agent, and which can suppress a line width variation of the first resist pattern and is suitably adopted even for a liquid immersion exposure process.
ダブルパターニングにおいて、第二のレジスト剤に第一のレジスト剤が溶解することなく、第一のレジストパターンを保持したまま第二のレジストパターンを形成することができ、更には第一のレジストパターンの線幅変動を抑制することができ、液浸露光プロセスにも好適に採用されるレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a simply structured substrate exposure apparatus capable of reducing variations in a gap between a substrate to be exposed and a photomask, at a proximity exposure without having to prepare special peripheral equipment for correcting the deflection, thereby attaining reduction in the variations in the line width and the film thickness of a pattern formed on the substrate to be exposed.
構造が単純であり、撓み補正に特別な周辺機材を準備することなく、被露光基板とフォトマスクとの近接露光時のギャップのバラツキを低減させ、それにより被露光基板に形成されるパターンの線幅、膜厚バラツキの低減を図ることを可能とする基板露光装置を提供する。 - 特許庁 - Width of the original to be read for every one line period is held constant and the color shift and the deviation of the copied image are prevented by defining a correction coefficient [cosθ] using the derived inclination angle θ and conveying the original at corrected speed to be calculated by multiplying default conveyance speed of the original by the correction coefficient [cosθ].
導出された傾き角度θを使用して補正係数[ｃｏｓθ]を定義し、原稿のデフォルト搬送速度に補正係数[ｃｏｓθ]を乗じて求められる補正速度で原稿を搬送することよって、１ライン周期当たりに読み取られる原稿の幅が一定に保持され、複写画像の色ズレやゆがみが防止される。 - 特許庁 - The scanning type display device control circuit includes a pin-pon-buffer, a data storage controller, a line scanning controller, a display buffer, and a scrambled-pulse width modulation (PWM) signal generator, wherein the display device control circuit can prevent a large amount of data from being transmitted repeatedly by using frame data cyclically and repeatedly.
この走査型表示装置制御回路は、ピン・ポンバッファと、データ記憶制御器と、ライン走査制御器と、表示バッファと、スクランブルド・パルス幅変調（ＰＷＭ）信号生成器とを備え、フレームデータを循環的にかつ繰り返し使用することで、多量のデータを繰り返し送信することを避けることが出来る。 - 特許庁 - The signal processor superposes and displays risk prediction regions 26 and 27 where a risk factor actually exists or where the existence of a risk factor is predicted around a vehicle 22, on an imaged image depending on a running condition of the vehicle 22, using a transparent line at least one of whose color, concentration, and width is changed or a mask.
信号処理部は、車両２２の周辺において危険要因が現に存在又はその存在が予測される危険予測領域２６、２７を、車両２２の走行状態に応じて、色、濃度及び幅のうち少なくとも一つを変えた透過性の線又はマスクを用いて、撮像された画像に重畳表示する。 - 特許庁 - The apparatus 15 is installed on a run-out table behind a cooling zone 12 between the final stand of a finish rolling machine 11 of a hot rolling line and a pinch roll 13 before a down coiler 14 and its floodlight projection part emits light to the surface to be inspected by an object under inspection obliquely in the width direction of the object under inspection.
熱延ラインの仕上げ圧延機１１の最終スタンドとダウンコイラ１４前のピンチロール１３との間の、冷却帯１２の後のランナウトテーブル上に、圧延性ロール疵検出装置１５を設置し、その投光部は、被検査体の幅方向斜めより被検査体の検査対象面上に光を照射する - 特許庁 - When a collision load toward the inside in the vehicle width direction is input to the center pillar 12 positioned above a rocker 14, a trough line 58 at an upper wall of a floor cross member 54 is deformed downward, thus causing wave deformation in the vertical direction in which a joint side with a rocker inner panel 30 is raised up, that is buckling deformation.
ロッカ１４より上方に位置するセンタピラー１２に対して車幅方向内向きの衝突荷重が入力されると、フロアクロスメンバ５４の上壁部分の谷線５８が下方へ向けて変形し、ロッカインナパネル３０との結合側が上方へ持ち上がるような上下の波打ち変形、即ち座屈変形を生ずる。 - 特許庁 - When the buckling deformation amount increases, the projection (trough line 58), that is a wave projecting downward, extends downward to interfere a third wall part 46C of a gusset 46 to restrain an increase of a wave height of the wave deformation, that is the buckling deformation of the floor cross member 54, thus restraining the advance amount of the rocker 14 and center pillar 12 toward the inside in the vehicle width direction.
座屈変形が進行すると、下方へ凸となる波の凸部分（谷線５８）が下方に延びてガセット４６の第３壁部分４６Ｃに干渉し、波打ち変形の波高の増大、即ち、フロアクロスメンバ５４の座屈変形が抑制され、ロッカ１４及びセンタピラー１２の車幅方向内側への進入量が抑えられる。 - 特許庁 - The carrying upstream side edge of a lower horizontal plane part 65a of a lower guide plate 65 is formed in straight line shape parallel with the movable blade 40b from the width direction terminal side to a center position and formed to incline to the carrying downstream side from the center position to the base end side.
また、下側ガイド板６５における下側水平面部６５ａの搬送上流側の端縁部は、その幅方向の終端側から中央位置にかけて可動刃４０ｂと平行な直線形状とされ、中央位置から基端側にかけて搬送下流側に傾斜した形状とされている。 - 特許庁
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