「Microstructure」を含む例文一覧(960)

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  • In the process for fabricating a microstructure of Si, SiGe crystal is deposited on an Si substrate and etched to form an SiGe crystal 504 exposing the sidewall onto which a planar microstructure of Si is grown.
    微細なSi構造の製造方法では、Si基板上にSiGe結晶を堆積し、エッチングする事で側壁が露出したSiGe結晶504を形成し、この側壁に板状Si微細構造506を成長させる。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a structure having a fine microstructure by removing a sacrifice layer composed of a silicon oxide film by a small quantity of a solvent in a short time without damaging the structure having the microstructure.
    微小構造を有する構造体に損傷を与えることなく、短時間でしかも少量の溶剤で、シリコン酸化膜からなる犠牲層を除去して、良好な微小構造を有する構造体を作製する方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a microstructure for easily obtaining a resist tapered in a depth direction without using a complicated device, and to provide a microstructure manufactured by the method.
    微細構造体の作製において、複雑な装置を用いることなく、簡単に深さ方向にテーパのついたレジストを得ることができる微細構造体の作製方法およびその方法を用いて作製された微細構造体を提供する。 - 特許庁
  • For example, in a diagnosis of the mamma, the liver or the pancreas, this ultrasonic diagnostic device executes a microstructure extraction process for extracting the microstructure distributed discontinuously using information on a substantially orthogonal direction (direction of depth) with respect to the image.
    例えば乳房、肝臓、膵臓等の診断において、不連続に存在する微小構造物を、当該画像と実質的に直交する方向(奥行き方向)関する情報をも用いて、微小構造物抽出処理を実行する。 - 特許庁
  • To provide a microstructure array being a mold for a microlens array or the like, easily controlled in its shape and capable of easily eliminating the unused region between the microstructure arrays such as adjacent lenses or the like, and a method for manufacturing the same.
    マイクロ構造体の形状の制御が容易で、隣接するレンズなどのマイクロ構造体間の未使用領域を容易に無くし得るマイクロレンズアレイ用金型などであるマイクロ構造体アレイ、及びその作製方法である。 - 特許庁
  • The semiconductor device includes a photoelectric conversion layer 2, a metal microstructure 3 in a continuous or discontinuous cylindrical form embedded in the photoelectric conversion layer 2, and a dielectric film 4 covering an internal side and an external side of the metal microstructure 3.
    光電変換層2と、光電変換層2内に埋め込まれた連続あるいは不連続の筒状の金属微細構造体3と、金属微細構造体3の内側面及び外側面を被覆する誘電体膜4とを有する。 - 特許庁
  • A preferred embodiment of using the implant device for facilitating the healing of a human joint lesion includes a cartilage region invested with an alginate microstructure joined with a subchondral bone region invested with a hyaluronan microstructure.
    人間の関節障害の回復を促進するための移植装置を用いた好適な実施の形態は、アルギナートミクロ構造に取り囲まれた軟骨部を含み、これは、ヒアルロナンミクロ構造に取り囲まれた軟骨下骨部に結合される。 - 特許庁
  • To provide a method for etching a material layer to be used for the manufacture of a microstructure and a method of forming a lithography mask.
    微細構造物の製造に用いられる物質層の蝕刻方法及びリソグラフィーマスクの形成方法を提供する。 - 特許庁
  • Further, in microstructure observation in the cross section of the sintered compact, closed pores with a pore diameter of 100 to 200 nm is observed.
    また、焼結体の断面の微構造観察を行ったところ、気孔径100〜200nmの閉気孔が観察された。 - 特許庁
  • To provide a process of processing a martensitic stainless steel which may develop a gage and a microstructure suitable for the production of razor blades.
    剃刀の刃の製造に適した厚み及びミクロ組織を持つマルテンサイト系ステンレス鋼を加工する方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of modifying a microstructure of a titanium alloy for use in manufacturing an orthopedic prosthesis.
    整形外科用人工器官を製造する時に使用するチタン合金の微細構造を改良する方法の提供。 - 特許庁
  • To fabricate a planar microstructure of Si applicable to an MOSFET having a three-dimensional structure with high controllability.
    3次元構造を有するMOSFET等に応用可能なSiの板状微細構造を制御良く製造する。 - 特許庁
  • If the transfer die 61 is released after hardening the resin layer 35a, a microstructure having the desired shape is obtained.
    この樹脂層35aを硬化させた後、転写型61を離型すれば所望の形状をもつ微細構造体が得られる。 - 特許庁
  • To provide a simple method for manufacturing a metallic mold for molding a structure having a nanostructure and a microstructure.
    ナノ構造及びマイクロ構造を有する構造体の成形用金属製モールドの簡便な製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing III-V semiconductor optical device for reducing variation of the shape of microstructure.
    微細構造の形状のばらつきを低減させることが可能なIII-V族半導体光デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • In the processing method of the microstructure of this invention, a fine recess 30 is formed in a substrate 10.
    本発明の微細構造の加工方法は、基板10に微細な凹部30を形成する微細構造の加工方法である。 - 特許庁
  • METHOD AND SYSTEM FOR LOCALLY ANNEALING MICROSTRUCTURE FORMED ON SUBSTRATE AND ELEMENT FORMED THEREBY
    基板上に形成されたマイクロ構造を局所的にアニーリングする方法およびシステムならびにそれにより形成された素子 - 特許庁
  • The blotting material has a metal microstructure capable of producing a local plasmon.
    局所プラズモンを発生させることができる金属微細構造を表面に有することを特徴とする、ブロッティング材料。 - 特許庁
  • To provide an image processing apparatus etc., providing a high noise reduction effect while holding a microstructure as much as possible.
    微細構造を極力保持しつつ高いノイズ低減効果を得ることが可能な画像処理装置等を提供する。 - 特許庁
  • To form a complicated microstructure stably by accurately transferring a pattern by using plasmon in photolithography.
    フォトリソグラフィをプラズモンを用いて、正確にパターンを転写し、複雑な微細構造を安定に形成することを目的とする。 - 特許庁
  • CONVEX OR CONCAVE MICROSTRUCTURE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING ELEMENT SUBSTRATE PROVIDED WITH MICROLENS USING THE SAME
    凸型または凹型マイクロ構造体、その作製方法、及びこれを用いたマイクロレンズ付き素子基板の作製方法 - 特許庁
  • To provide a microstructure, and a light emitting device improved in emission power of white light using the same.
    微細構造体、および、この微細構造体を用いて白色系の発光出力を向上させた発光素子の提供。 - 特許庁
  • Further, ferrite fraction Vf (area%) in a microstructure satisfies inequality 1.05 Vfe1≤Vf≤2.0 Vfe1 in relation with ferrite fraction Vfe1 specified by equation Vfe1=106.7-142.6[C]-0.256[Si]-4.219[Mn]
    Vfe_1=106.7−142.6[C]−0.256[Si]−4.219[Mn] ……(1) 但し、[C],[Si]および[Mn]は、夫々C,SiおよびMnの含有量(質量%)を意味する。 - 特許庁
  • To provide a method for simplifying the process of forming a microstructure and a semiconductor element over one surface.
    同一表面上に微小構造体及び半導体素子を形成する工程を簡略化する方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a microstructure having thin wall sections formed with high accuracy with respect to thickness dimensions.
    厚み寸法について高精度に形成された薄肉部を有するマイクロ構造体の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • In a method for exciting a resonance element (14) of a microstructure, the element moves with one degree of freedom.
    微細構造の共鳴エレメント(14)を励起する方法に関し、このエレメントは1つの自由度に従って可動する。 - 特許庁
  • In the method for producing the steel sheet, heating temperature and cooling conditions in the annealing are limited to obtain the above microstructure.
    この鋼板の製造方法は、焼鈍の加熱温度および冷却条件を限定して上記のミクロ組織を得る。 - 特許庁
  • To obtain piezoresistance characteristics in a microstructure made of diamond like carbon manufactured with focused ion beams.
    集束イオンビームを用いて作製したダイアモンドライクカーボンによる微小構造体で、ピエゾ抵抗特性が得られるようにする。 - 特許庁
  • To provide a miniature drill made of a pressure sintered body of microstructure displaying excellent breakage resistance at high-speed boring work.
    高速穴あけ加工ですぐれた耐折損性を発揮する微粒組織加圧焼結体製ミニチュアドリルを提供する。 - 特許庁
  • To provide a component of a cast turbine having a desirable microstructure of crystalline grains while the machining process is significantly reduced.
    、機械加工プロセスを大幅に低減しつつ、望ましい結晶粒ミクロ組織を有する鋳鉄タービン部品を提供する。 - 特許庁
  • MICROSTRUCTURE IN WHICH FINE PARTICLE IS SELECTIVELY FIXED IN MINUTE METAL REGION ON SOLID SURFACE BY USING DNA
    DNAを利用して固体表面上の微小金属領域に微粒子を選択的に固定化した微小構造体 - 特許庁
  • The diffusion portion has a diffusion surface having a microstructure comprising greater than or equal to 40% by volume α-chromium.
    さらに、拡散部分は、40体積%以上のα−クロムを含有するミクロ組織からなる拡散表面を有する。 - 特許庁
  • To form an air gap in a microstructure by degrading a sacrificial membrane material by diffusion of a chemical etchant through a membrane.
    化学エッチング液の膜を通じた拡散による犠牲膜材料の分解により、微細構造のエアギャップを形成する。 - 特許庁
  • The substrate 20 includes on it the microstructure comprising linear elements extending along an atomic step on the surface of the substrate.
    基板20は、基板表面の原子ステップに沿って延びた線状要素からなる微細構造をその上に備える。 - 特許庁
  • To provide a method for repairing a nickel-based alloy article giving a repaired portion having a fine crystal grain microstructure.
    微細結晶粒ミクロ組織を有する修復部分を与えるニッケル基合金製品の修復方法を提供する。 - 特許庁
  • To manufacture a thin film suitable for use as a negative resist for electron beam lithography in a microstructure semiconductor process.
    微細構造半導体プロセスにおける電子線リソグラフィー用ネガレジストとして使用に適した薄膜を作製すること。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of such a microstructure as is made of metal and a photoresist used in the method.
    金属で作成されるような超小型構造体の製造法並びにそこにおいて使用するフォトレジストを提供する。 - 特許庁
  • METHOD OF MANUFACTURING MICROSTRUCTURE OF NITRIDE SEMICONDUCTOR, SURFACE EMITTING LASER BY TWO-DIMENSION PHOTONIC CRYSTAL, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
    窒化物半導体の微細構造の製造方法、二次元フォトニック結晶による面発光レーザとその製造方法 - 特許庁
  • Through evaluation of the hydrogen occlusion material, a microstructure development is found in progress by only 10 min treatment.
    この水素吸蔵材料を評価したところ、わずか10分間の処理で、微細構造化が進行していることが分かった。 - 特許庁
  • The invention relates to adjustment of the position of the milling-cutter (3) used in a microstructure of a material (2) with respect to a working head (1).
    この発明は、加工ヘッド(1)に対して、物質(2)のマイクロ構成に用いられるフライス(3)の位置の調整に関する。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device with a movable microstructure reducing a driving voltage of the movable microstructure by reducing a stray capacitance between a micro movable structure and a semiconductor substrate, and enlarging a ratio of the movable component of static capacitance caused by the operation of the movable part of the movable microstructure formed on the semiconductor.
    微小可動構造体と半導体基板との浮遊容量を少なくし、半導体基板上に形成された微小可動構造体の可動部分の動作に起因する静電容量の可動成分の割合を大きくすることにより、微小可動構造体の駆動電圧の低電圧化を図った微小可動構造体を有する半導体装置を提供することにある。 - 特許庁
  • To provide a method capable of producing an optical fiber strong against staining, and having microstructure and a reduced operation by workers.
    汚染に対し強くかつ作業者の介在が少ない、微細構造の光ファイバを製造できる方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a coating method capable of forming "a coated layer whose surface becomes a simple plane" on a microstructure region and a flat region.
    微細構造領域とフラット領域とに「表面が単平面となるコート層」を形成できるコーティング方法を提供する。 - 特許庁
  • The microstructure optical waveguide having periodic sequence of "plug" of an optically active material in an inner clading air tunnel is formed.
    光活性材料の「プラグ」の周期シーケンスを内部クラッド・エア・トンネル内に備えた微小構造光導波路が形成される。 - 特許庁
  • As a result, phase difference AF can be performed with good accuracy in the imaging element so that even if the pixel is advanced in microstructure, it can be favorably manufactured.
    その結果、撮像素子において位相差AFを精度良く行え、画素の微細化が進んでも良好に製造できる。 - 特許庁
  • Both the first separation section 5 and the second separation section 8 have a microstructure equipped with one or a plurality of microstructural elements.
    第1分離部5および第2分離部8のいずれも、1または複数の微細構造要素を備えた微細構造を有する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a microstructure having a high aspect ratio, which reduces cost and uses a batch type machining.
    バッチ式加工を用い、且つコスト低減化が可能である高いアスペクト比をする微小構造の製造方法を提供する - 特許庁
  • To improve for drastically increasing flexural rigidity as a beam without increasing the film thickness of bridge in a microstructure.
    マイクロ構造体において、ブリッジの膜厚を増すことなしに梁としての曲げ剛性を大幅に増強できるように改良する。 - 特許庁
  • To provide a highly airtight penetration electrode, a microstructure using the same, and their manufacturing methods.
    気密性の高い貫通電極及びこれを用いた微小構造体、並びにそれらの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • This microstructure is a building block (19), which aligns itself at a dent (55) on a substrate (50) such that it is integrated with it.
    この微細構造は成形ブロック(19)であり、基板(50)上にある窪み(55)にセルフアラインして、この基板と一体化する。 - 特許庁
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