「O2」を含む例文一覧(673)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 次へ＞- In the dry etching system 10, a chamber 12 for containing an Si wafer W is coupled with supply sources 32, 38, 40 and 42 of SF6 gas, N2 gas, CF4 gas and O2 gas through a gas mixing chamber 30.
ドライエッチング装置１０は、ＳｉウェハＷが収容されるチャンバ１２に、ガス混合室３０を介して、それぞれＳＦ_6ガス、Ｎ_2ガス、ＣＦ_4ガス及びＯ_2ガスの供給源３２，３８，４０，４２が接続されたものである。 - 特許庁 - While the tool 3 is rotated (autorotated) by making the rotation center O1 as the center, the tool 3 is revolved along the outer periphery of the convex lens 1 by making the center O2 of the convex lens 1 as the center, so as to process the convex lens 1.
工具３を回転中心Ｏ１を中心に回転（自転）させると共に、凸レンズ１の中心Ｏ2 を中心に凸レンズ１の外周に沿って工具３を公転させることによって凸レンズ１を加工する。 - 特許庁 - To treat NO-containing waste gas so that the NO is sufficiently reduced and made harmless at a low running cost with a reduced consumption of NH3 without requiring the installation of an equipment for supplying O2.
Ｏ_2 の供給設備を設ける必要がなく、ＮＨ_3 の消費量も抑え、十分にＮＯを還元してこれを無害化でき、ランニングコストも安い、一酸化窒素含有排ガスの処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - An AF auxiliary light window 7 adjacent to a finder window 6 is decentered so that the center 03 of the window 7 may be separated from the window 6 with respect to the optical axis center 02 of a light beam passing through the window 7.
ファインダー窓６に隣接するＡＦ補助光窓７を、ＡＦ補助光窓７の中心O3がＡＦ補助光窓７を通過する光線の光軸中心O2に対してファインダー窓６から離れるように偏心させた。 - 特許庁 - This microscope is equipped with cylindrical optical path partitions 31, 32 and 33 partitioning an observation optical path O1 near the optical axis of an objective lens from an illumination optical path for vertical dark-field O2 around the optical path O1, and realizes a vertical dark-field observation.
対物レンズの光軸近傍の観察光路（Ｏ１）とその周辺の落射暗視野用照明光路（Ｏ２）とを隔てる筒状の光路隔壁（３１、３２、３３）を備えており、落射暗視野観察が可能である。 - 特許庁 - At this time, the X-ray lens 10 is arranged, in such a way that a front focus O1 of the X-ray lens 10 is located at the surface of the sample 2 and that its rear focus O2 is located between the X-ray lens 10 and the flat analyzing crystal 4A'.
この際、Ｘ線レンズ１０は、その前焦点Ｏ_1が試料２の表面に位置し、その後焦点Ｏ_2がＸ線レンズ１０と平板分光結晶４Ａ′の間に位置するように配置する。 - 特許庁 - An orifice 25 is bored by means of oxygen plasma 33 using a helicon wave etching system and O2 gas for processing and a Ti oxide film 32-2 is formed, as a hydrophilic region 28, on the surface of the Ti film 32.
ヘリコン波エッチング装置と処理用Ｏ_2 ガスを用い、酸素プラズマ３３によるオリフィス２５の孔空けを行なうと共にＴｉ膜３２表面に酸化Ｔｉ膜３２−２を形成し、これを親水性領域２８とする。 - 特許庁 - In the stoichiometric operation mode, the reducing state of NOx of the catalytic device 3 is grasped on the basis of the estimated value of the output of the O2 sensor 5, and it is judged according to the reducing state whether the switching to the lean operation mode is performed or not.
このストイキ運転モードにおいて、Ｏ_2センサ５の出力の推定値に基づいて、触媒装置３のNOxの還元状態を把握し、該還元状態に応じてリーン運転モードへの切換えの可否を判断する。 - 特許庁 - The grindstone 2 has a rotation axis O2 which is tilted relative to the rotation axis O1 of the drive board 1 and grinds the workpiece W supported by the carrier 3, the drive board 1, and the guide 24.
前記砥石２は、前記駆動定盤１の回転軸心Ｏ１に対して傾斜した回転軸心Ｏ２を有し、前記キャリア３、駆動定盤１、およびガイド２４によって支持されているワークＷを研削する。 - 特許庁 - When the trunnion 14 and the power roller 8 are synchronized, to the offset in the direction of a head swing axial line (O2) from the non-speed change position, as shown in the figure at the same phase, they are fitted and rotated about the same axial line to perform speed change.
トラニオン１４およびパワーローラ８をサーボピストン４２により同期して同位相で図示の非変速位置から首振り軸線（Ｏ_2 ）方向にオフセットさせると、これらが同軸線周りに傾転して変速を行う。 - 特許庁 - The ground voltage suppressor 130 has a discharge gap 131 connected to the open terminal O1 at its one end and a load resistor 132 provided between the other end of the discharge gap 131 and the open terminal O2.
対地電圧抑制装置１３０は、オープン端子Ｏ１に一端が接続された放電ギャップ１３１と、放電ギャップ１３１の他端とオープン端子Ｏ２との間に設けられた負担抵抗１３２とを有する。 - 特許庁 - An ejection port 14 and the heating element 18 are arranged with a center O2 of the ejection port 14 being shifted in a direction towards the ejection port 14 from an ink supply port 11 with respect to a center O1 of the heating element 18.
そして、吐出口１４の中心Ｏ２が、発熱素子１８の中心Ｏ１に対してインク供給口１１から吐出口１４に向かう方向にずれて吐出口１４及び発熱素子１８が配置されている。 - 特許庁 - To realize high-response and high-accuracy EGR control by estimating a change in exhaust O2 concentration caused by the opening and closing operation of an EGR control valve 5 in every operation range of a diesel engine 1 to correct the EGR amount.
ＥＧＲ制御弁５の開閉動作に伴う排気Ｏ_2 濃度の変化をディーゼル機関１の運転域毎に予想してＥＧＲ量を補正することにより、高応答、高精度なＥＧＲ制御を実現する。 - 特許庁 - A target air-fuel ratio KCMD to feedback-control the O2 output value SVO2 is calculated such that the converted output deviation SVO2P will be zero, and the calculated target air-fuel ratio KCMD is used to control the exhaust gas air-fuel ratio A/FEX.
変換された出力偏差ＳＶＯ２Ｐが０になるように、Ｏ２出力値ＳＶＯ２をフィードバック制御するための目標空燃比ＫＣＭＤを算出し、これを用いて排ガス空燃比Ａ／ＦＥＸを制御する。 - 特許庁 - When the tungsten film 3 is subjected to etching using a photoresist film 4 covering the tungsten film 3 as a mask, a mixed gas of SF6 and SiF4 as fluorine gas series, O2, Cl2, and N2 is used as etching gas.
このタングステン膜３をタングステン膜３を被覆したフォトレジスト膜４をマスクとしてエッチングする場合、エッチングガスとして弗素系のガスであるＳＦ６と、ＳｉＦ４とに、Ｏ２及びＣｌ２とＮ２を混合したものが用いられる。 - 特許庁 - A trench 3 of narrow opening width and a trench 5 of wide opening width are formed in a silicon substrate 1 simultaneously by RIE method employing mixture etching gas of halogen based gas, fluorocarbon-based gas, and O2.
シリコン基板１に開口幅の狭いトレンチ３と開口幅の広いトレンチ５をＲＩＥ法により形成するエッチング加工で、エッチングガスとしてハロゲン系ガス、フロロカーボン系ガス、Ｏ２を混合したガスを用いて同時に形成する。 - 特許庁 - The positive active material for the lithium secondary battery contains a lithium-manganese composite oxide represented by composition formula Li_1-xMnO_2+y (0≤x<1, 0<y<1), and having O2 type layer structure.
組成式Ｌｉ_１−ｘＭｎＯ_２＋ｙ（０≦ｘ＜１，０＜ｙ＜１）で表され，かつＯ２型層状構造を有するリチウム−マンガン複合酸化物を含有してなることを特徴とするリチウム二次電池用正極活物質。 - 特許庁 - The catalyst is a metalloaluminophosphate molecular sieve having the empirical formula (ELxAlyPz)O2 (wherein SL is a metal such as silicon or magnesium; x, y, and z are the mole fractions of EL, Al, and P respectively).
触媒は（ＥＬ_xＡｌ_yＰ_z）Ｏ_2の実験式で示される金属アルミノリン酸塩モレキュラーシーブであり、この式でＥＬはケイ素またはマグネシウムなどの金属であり、ｘ、ｙ、及びｚはそれぞれＥＬ、Ａｌ及びＰのモル分率である。 - 特許庁 - A recessed part 12 for an outer rotor and a recessed part 13 for a cover are formed concentrically with the first center O1, and a hole 21 for a shaft concentrical to the second center O2 is formed in the cover 20 fitted to the recessed part 13 for the cover.
第１の中心Ｏ１と同心的にアウタロータ用凹部１２およびカバー用凹部１３を形成し、カバー用凹部１３に嵌合されるカバー２０に、第２の中心Ｏ２と同心的なシャフト用孔２１を形成する。 - 特許庁 - Consequently, PFM control is performed depending on the weight of a load connected with the output terminal O2 and PWM control of the transistor PM3 is performed depending on the weight of a load connected with the output terminal O1.
それにより、出力端子Ｏ２に接続された負荷の重さに応じてＰＦＭ制御が行われ、出力端子Ｏ１に接続された負荷の重さに応じてトランジスタＰＭ３に対しＰＷＭ制御が行われる。 - 特許庁 - The deburring heads 11 and 12 include a plurality of horizontal spindles 21 provided so as to be rotatable around vertical rotation centers O1 and O2 and radially extend and deburring members 22 provided in the spindles 21.
各バリ取りヘッド１１，１２は、垂直な旋回中心Ｏ１，Ｏ２回りに旋回自在に設けられて放射状に延びる複数の水平なスピンドル２１と、各スピンドル２１に設けられたバリ取り部材２２とを有する。 - 特許庁 - Four arms turned up and down freely are independently provided respectively around the turning centers O1, O2 in parallel to a bent line of the sheet material W bent V-shapedly while interposed between a die 2 and a punch 4 of a press brake.
プレスブレーキのダイ２とパンチ４間に介在してＶ字状に曲げられた板材Ｗの曲げ線と平行な回動中心Ｏ１，Ｏ２回りにそれぞれ独立して起倒回動自在な４本のアームが設けられる。 - 特許庁 - The fin 61 is formed so that a value obtained by dividing a distance between centers of holes as a distance from the center of the through-hole O1 to the center of the through-hole O2 by an outer diameter D of the heat transfer tubes 41, 42 is 3.0 or more.
フィン６１は、貫通孔Ｏ１の中心から貫通孔Ｏ２の中心までの距離である孔中心間距離S１を伝熱管４１、４２の外径Dで除した値が３．０より大きく形成されている。 - 特許庁 - To furthermore enhance the resistance of a castable refractory containing a large quantity of silicon carbide to the oxidation by O2 and FeO by making good use of the characteristic excellent in the resistance to the crack and exfoliation caused by molten iron and slag.
炭化珪素を多量に含有する流し込み不定形耐火物の溶銑やスラグによる亀裂，剥離に対する抵抗性に優れる特性を活かし、よりＯ_２やＦｅＯ酸化に対する抵抗性の向上を図る。 - 特許庁 - A center of rotation O1 of the fan rotor 51 is shifted with respect to a center O2 of the fan storing space SP3 in the direction orthogonal to the direction connecting at least the first supply opening 6 and the second supply opening 7.
そして、ファンロータ５１の回転中心Ｏ１は、ファン収納空間ＳＰ３の中心Ｏ２に対して、少なくとも第１吹出し口６と第２吹出し口７とを結ぶ方向に直交する方向にずらして配置される。 - 特許庁 - An exhaust amount parameter GAIRLNC is calculated corresponding to an accumulated exhaust amount after the time when the output of an O2 sensor 18 arranged at the upstream side of a NOx purifier 15 is changed to a value showing a rich air/fule ratio (S73).
ＮＯｘ浄化装置１５の上流側に配置されＯ２センサ１８の出力がリッチ空燃比を示す値に変化した時点からの積算排気量に対応する排気量パラメータＧＡＩＲＬＮＣを算出する（Ｓ７３）。 - 特許庁 - A positioning means 14 for relatively positioning the housing member 9 and the cover member 10 is arranged on an extension line of a line segment for connecting the rotational center O1 of the internal tooth gear 4 and the rotational center O2 of the external tooth gear 5.
前記内歯歯車４の回転中心Ｏ１と外歯歯車５の回転中心Ｏ２とを結ぶ線分の延長線上に、ハウジング部材９とカバー部材１０との相対的位置決めをする位置決め手段１４を設けた。 - 特許庁 - Values of parameters of models of an exhaust system E including a catalyst device 3 are successively identified from data outputted from an air-fuel ratio sensor 5 and an O2 sensor 6 arranged on an upstream side and a downstream side of the catalyst device 3, respectively, during the operation of an engine 1.
エンジン１の運転中に触媒装置３の上流及び下流にそれぞれ配置した空燃比センサ５及びＯ2センサ６の出力のデータから、触媒装置３を含む排気系Ｅのモデルのパラメータの値を逐次同定する。 - 特許庁 - The transmission mechanism 30 has a swing arm 40 swinging around a swing axis O2 arranged in parallel with a turning axis O1 and an auxiliary arm 50 in the rearward of the turning axis O1 of the winning door 10.
伝達機構３０は、入賞扉１０の回動軸線Ｏ１よりも後方においてその回動軸線Ｏ１と平行状に配置された揺動軸線Ｏ２周りで揺動する揺動アーム４０と補助アーム５０とを有する。 - 特許庁 - After the temperature of the semiconductor wafer reaches approximately 1,200°C, the wafer is fixed at the stopped position, and oxidation or diffusion process is carried out, while stopping feeding of nitrogen gas and instead, feeding oxygen gas (O2) to the semiconductor wafer.
そして、半導体ウエハの温度が約１２００゜Ｃに達した後は、停止位置に固定した状態で、窒素ガスの供給を停止し、代わりに酸素ガス（Ｏ2）を半導体ウエハに供給しながら、酸化または拡散処理を行う。 - 特許庁 - By making oxidizing gas such as O2, O3 or N2O be contained in the gaseous atmosphere for the heat treatment, a p-type group-III nitride semiconductor having sufficient carrier concentration can be manufactured even if the temperature of the heat treatment is lowered.
熱処理を行う際の気相雰囲気中に、Ｏ_2、Ｏ_3、Ｎ_2Ｏなどの酸化性のガスを含ませることで、熱処理の温度を低くしても十分なキャリア濃度を有するｐ型ＩＩＩ族窒化物半導体を製造することができる。 - 特許庁 - In a lithium ion cell equipped with a positive electrode 4 including an active material, a negative electrode 6, and a nonaqueous electrolyte, the active material includes a compound oxide having a composition which is expressed in a chemical formula: Lix(Ni1-yTay)(O2-zXz).
活物質を含む正極４と、負極６と、非水電解質とを備えたリチウムイオン二次電池において、前記活物質は、下記の化学式（１）で表わされる組成を有する複合酸化物を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The cylindrical body 31a is constituted so that its axis O2 is inclined to the axis O1 of a bulb 21 of the electroless lamp 2, and the cylindrical body 31a surrounds the whole circumference outside a diameter of the coil winding part 20a.
筒状体３１ａは、その軸Ｏ２が無電極ランプ２のバルブ２１の軸Ｏ１に対して傾斜しているとともに、コイル巻回部２０ａの径外側の全周を筒状体３１ａが包囲するように構成されている。 - 特許庁 - To estimate the carbon content in molten steel by analyzing CO, CO2 and O2 concentrations in the exhaust gas generated during decarburizing treatment and based on a correlation between the corrected CO+CO2 gas concentration calculated from the above values and the carbon content in the molten steel.
脱炭処理中に発生する排ガス中のＣＯ・ＣＯ_2 ・Ｏ_2 ガス濃度を分析し、この値から算出した補正ＣＯ＋ＣＯ_2 ガス濃度と溶鋼中の炭素量の相関に基づいて、溶鋼中の炭素量を推定する。 - 特許庁 - In a second process, the rotation center of the cutter is lifted up to a position O2 where depth of the other end 6a becomes equal to the set value D, and the cutter is moved in parallel with the axis of the spool so as to keep this position to cut the corner of the other end.
そして、第２工程で、上記他端６ａの深さが設定値Ｄになる位置Ｏ２にカッターの回転中心を持ち上げ、この位置を保つようにカッターをスプールの軸と平行に移動させ、他端の角を切削する。 - 特許庁 - The monitor object selection part 13 selects one mobile object O1 out of the plurality of mobile objects O1 and O2 as a monitor object on the image presented by the image presenting part 11, in accordance with user's selecting operation.
監視対象選択部１３は、利用者による選択操作に従って、画像提示部１１により提示された画像上において、複数の移動体Ｏ１，Ｏ２の中から一の移動体Ｏ１を監視対象として選択する。 - 特許庁 - Once the image is in the correct position and in focus, the filter 11 is inserted into the optical path O2 immediately before imaging and a strobe light source 4 is made to emit light; a fluoroscopic stationary image of the fundus oculi is taken with the black-and- white video camera 16 and recorded in an image recording means 17.
位置及びピントが合うと、撮影の直前に濾過フィルタ１１を光路Ｏ２に挿入してストロボ光源４を発光し、蛍光静止眼底像を白黒ビデオカメラ１６で撮像し、画像記録手段１７に記録する。 - 特許庁 - The upper section of the line O is composed of a curved line O1 having the parameter T as a shared inflection point and having the parameter L as an end point and of a curved line O2 having the parameter R as an end point.
輪郭線Ｏの上部分は、輪郭パラメータＴを共通の変曲点として有し輪郭パラメータＬを終端点として有する曲線Ｏ１と、輪郭パラメータＲを終端点として有する曲線Ｏ２によって構成される。 - 特許庁 - It is advantageous that remote plasma of oxygen (O2) as a reactive gas exposed to microwaves in a gas feed pipe (3) is used in the reactor (1) to generate free radicals of gas enough in amount to induce a deposition reaction.
有利なこととして、蒸着反応を起こすのに十分なガスの自由基を発生させるために反応器（１）にガス供給管（３）内部でマイクロ波にさらされた反応ガスである酸素（Ｏ_2）の遠隔プラズマが用いられる。 - 特許庁 - The electric signals to be transmitted are converted from an electric form to an optical form (E/O1, E/O2 and E/On) and transmitted by using a wavelength division multiplex system (WDM) or a dense wavelength division multiplex system (DWDM).
送信される電気信号は、電気的形式から光学的形式に変換され（Ｅ／Ｏ１、Ｅ／Ｏ２、Ｅ／Ｏｎ）、波長分割多重方式（ＷＤＭ）または高密度波長分割多重方式（ＤＷＤＭ）を使用して送信される。 - 特許庁 - To provide a water area cooling and purifying apparatus high in purifying capacity and low in cost, constituted so that O2 is supplied by using liquefied oxygen and the water of an water area is cooled by utilizing the absorption of heat generated at a time of the evaporation of liquefied oxygen.
液化酸素を用いO_2を供給すると共にこの液化したO_2を気化させる時の吸熱を利用して水域の水を冷却することで、浄化能力が高く低コストの水域冷却及び浄化装置を提供する。 - 特許庁 - Degree of the abnormal condition of the O2 sensor can be reflected on the correction amount by the control width B, and variation of characteristics of an air fuel ratio sensor in the upstream side can be reflected to the plus side guard value sVgrd(+) since the learning value DVG is referred.
制限幅ＢによりＯ2センサの異常状態の程度を補正量に反映でき、学習値ＤＶＧを基準にしているのでプラス側ガード値ｄＶｇｒｄ（＋）には上流側の空燃比センサの特性ばらつきも反映される。 - 特許庁 - Thereafter, the substrate which is already developed is measured or inspected by an integrated measurement device IM, and an acceptable substrate is sent to an input / output port I / O2, and the lot which is already treated is assembled before the lot is transported to another process.
現像済みの基体はその後統合測定装置ＩＭにより測定もしくは検査され合格した基体は入出力ポートＩ／Ｏ２に送られ、そこで処理済みのロットは別のプロセスに移送される前に組み立てられる。 - 特許庁 - It is considered that an exhaust system 17 is equal to the system for producing the output of O2 sensor 12 (exhaust gas sensor) from the composed air-fuel ratio composed the output of air-fuel ratio sensors 13, 14 per respective cylinder group 3, 4 by a mixed model shape filtering treatment.
排気系１７が、気筒群３，４毎の空燃比センサ１３，１４の出力を混ざりモデル形式のフィルタリング処理により合成した合成空燃比から、Ｏ2センサ１２（排ガスセンサ）の出力を生成する系と等価であるとみなす。 - 特許庁 - In the gripper 26 of a handle control section 20, the sectional profile of the grip is formed into the shape in which a couple of arcs having the curvature centers O1 and O2 and also different curvature radii R and (r) are connected with each other.
本発明の手元操作部２０の把持部２６は、断面輪郭形状が、把持部２６の内側に曲率中心Ｏ1 、Ｏ2 を有する曲率半径Ｒ、ｒの異なる二つの円弧を連結した形状に形成される。 - 特許庁 - An SiO2 film 2 and a resist (resist pattern) 3 of an upper layer are formed on a resist 1 of a lower layer, O2 gas singly is used as etching gas and the SiO2 film 2, and the resist 1 of a lower layer are etched by using the resist 3 of an upper layer as a mask.
下層のレジスト１上にＳｉＯ_2 膜２、上層のレジスト（レジストパターン）３を形成し、エッチングガスとしてＯ_2 ガス単体を使用し、上層のレジスト３をマスクにしてＳｉＯ_2 膜２および下層のレジスト１をエッチングする。 - 特許庁 - An abrasion recovery control part 9 has a dispenser and a particle size selecting circuit filled with the abrasion recovery agent, and inputs the crankcase residue HC, exhaust O2 and exhaust CO2 from the exhaust gas sensor 4 via the exhaust gas measuring part 7.
磨耗修復制御部９は、磨耗修復剤を充填したディスペンサと粒径選択回路を備え、排出ガス計測部７を介して排出ガスセンサ４からクランクケース残留ＨＣ、排出Ｏ２、排出ＣＯ２を入力する。 - 特許庁 - In this method of manufacturing a semiconductor device in which a plurality of semiconductor elements formed on the semiconductor substrate is separated from each other by an element separating oxide film, the oxide film is formed at 1,100-1,200°C in a dry O2 atmosphere.
半導体基板上に形成した複数の半導体素子間を素子分離用の酸化膜で分離した半導体装置の製造方法において、前記酸化膜を、温度１１００〜１２００℃、ドライＯ_２ 雰囲気中で形成する。 - 特許庁 - An O2 sensor 10 has a sensor element provided with a solid electrolyte layer, and a pair of electrodes with the solid electrolyte layer therebetween, and for generating an electromotive force between the electrodes in response to an oxygen concentration in a detected gas.
Ｏ2センサ１０は、固体電解質層と該固体電解質層を挟んで設けられる一対の電極とを具備し、被検出ガス中の酸素濃度に応じて前記電極間で起電力を発生するセンサ素子を有する。 - 特許庁 - Postcard paper having a weak adhesive layer on the surface and a strong adhesive layer on the rear and having first to fourth paper parts 11-14 are turned up in a mountain fold along fold lines o1 and o3 and turned down in a valley fold along a fold line o2.
表面に弱接着層、裏面に強接着層を有し、第１の用紙部１１〜第４の用紙部１４を有するハガキ用紙を、折曲線ｏ１、ｏ３でそれぞれ山折りすると共に、折曲線ｏ２で谷折りする。 - 特許庁
- 特許庁
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