「O2」を含む例文一覧(673)

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  • At calculating the sub FB correction quantity FBsub, a difference DVoxsm between an estimation value Voxsm of the output value Voxs calculated by inputting the difference DAF between a catalyst model A13 and a O2 sensor model A14 is calculated.
    サブFB補正量FBsubの算出に際し、差DAFを触媒モデルA13及びO2センサモデルA14に入力して算出される出力値Voxsの推定値Voxsmと、出力値Voxsとの差DVoxsmが算出される。 - 特許庁
  • The composite metal oxide which is represented by general formula of Li_x[(Li_yMn_1-y)_zM_1-z]O_2 and composed of an oxide having O2 structure is used as the positive electrode active material of the lithium secondary battery.
    Li_x{(Li_yMn_1−y)_zM_1−z}O_2の一般式で表され、O2構造を有する酸化物から構成される複合金属酸化物を、リチウム二次電池の正極活物質として用いる。 - 特許庁
  • In addition, the protective films 8 maintain the shape of the film 10 at the time of removing etching residues 9 by performing plasma etching using a mixed gas of CF4 gas and O2 gas after the silicon area 6B is etched.
    次に、シリコン領域6Bをエッチングした後、CF__4ガスとO_2ガスとの混合ガスを用いたプラズマエッチングにより残渣9を除去するとき、側壁保護膜8によりシリコン薄膜10の形状を保つ。 - 特許庁
  • The deburring head 2 includes the roll-like brush member 20 rotatable around a brush axis O1, and a pivoting support member 26 supporting the brush member 20 so as to freely be pivoted around a pivot O2.
    バリ取りヘッド2は、ブラシ軸心O1回りに回転自在なロール状のブラシ部材20と、ブラシ部材20を旋回軸心O2回りに旋回自在に支持する旋回支持部材26とを有する。 - 特許庁
  • While the vertex O2 of an input image IMG2 is moved from a left end to a right end of this display displacement search range, similarity between images within a focused area at each relative position is calculated.
    入力画像IMG2の頂点O2をこの表示ずれサーチ範囲の左端から右端まで移動させて、各相対位置における注目領域FW内の画像間の類似度が算出される。 - 特許庁
  • The position of the support portion 15 is adjusted with respect to a base 11, and the tilt of the holder 20 is adjusted to align an optical axis O2 of the collimate light with a reference optical axis O1 of the base 11.
    ベース11に対して支持部15の位置を調整し、ホルダ20の傾きを調整することで、コリメート光の光軸O2をベース11の基準光軸O1に一致させることができる。 - 特許庁
  • When a movable rail 232 is moved in the horizontal direction on a fixed block 231, the workpiece axial line O2 in agreement with a spindle axial line O1 is shifted to an insertion hole 22 on the second workpiece side W2.
    固定ブロック部231上にて移動レール部232を左右方向へ移動させることにより、スピンドル軸線O1と一致するワーク軸線O2を第二ワークW2側の挿通孔22に変更する。 - 特許庁
  • A cut is given to the cover 12 to enable a portion corresponding to a first opening O1 of the cover 12 and a portion corresponding to a second opening O2 to be opened and closed independently, respectively.
    蓋体12には切り込みが入っており、蓋体12の第1の開口部O1に対応する部分と第2の開口部O2に対応する部分とが、各々独立に開閉可能となっている。 - 特許庁
  • Since the center O2 of the control shaft is offset with respect to one side from a position immediately below the center O1 of the crankshaft, an interface 35 between the main bearing cap 23 and the bulkhead 22 is inclined correspondingly.
    コントロールシャフトの中心O2がクランクシャフトの中心O1の直下から一方にオフセットしているので、これに対応して、メインベアリングキャップ23とバルクヘッド22との接合面35が傾斜している。 - 特許庁
  • Two electrode pads to be connected to one control terminal are provided on a chip and are arranged in the proximity of a common input terminal pad IN and output terminal pads O1 and O2 for connecting a protection device.
    1つの制御端子に接続する電極パッドをチップ上で2つ設け、共通入力端子パッドIN、出力端子パッドO1、O2と近接して配置することで保護素子を接続する。 - 特許庁
  • The first pump cell 6 dissociates O2 and NO in the first chamber 2 to pump generated oxygen ions out of the chamber 2 and controls the concentration of oxygen in the gas coming into contact with the second pump cell 8 so as to lower the same to the utmost.
    第1ポンプセル6は第1室2内のO_2及びNOを解離して、生じた酸素イオンを室外へ汲み出し、第2ポンプセル8が接触するガス中の酸素濃度を可及的に低く制御する。 - 特許庁
  • A passive distribution circuit 23 distributes a clock signal CLK supplied to an input terminal I to output terminals O1 and O2, and matches each impedance between the input terminal and the output terminals to 50.
    受動分配回路23は、入力端Iに供給されるクロック信号CLKを出力端O1及びO2に分配すると共に、これら入出力端の各インピーダンスを50Ωに整合する。 - 特許庁
  • Furthermore, it is equipped with moving means 21 to 25 moving the incident optical axis O2 on the microscope for the assistant 3 in a direction nearly orthogonal to the incident optical axis O1 of the master side microscope 2.
    さらに、助手用顕微鏡3への入射光軸O2を主側顕微鏡2の入射光軸O1に対して略直交する方向に移動させる移動手段21−25を備えている。 - 特許庁
  • Light beams from the strobe light source 6 pass through the optical path O1 and illuminate the fundus oculi R similarly to observation light beams, and the reflected beams pass through the optical paths O2, O3 and form an image on the back-and-white video camera 18.
    ストロボ光源6からの光束は、観察光束と同様に光路O1を通って眼底Rに照明され、その反射光は光路O2、O3を通って白黒ビデオカメラ18に結像する。 - 特許庁
  • A stopper 22 coupled to the antenna main body 20 is formed with a conductor section 50 and a lock section 51A, and a center axis O2 of the conductor section 50 is tilted from a center axis O1 of the antenna main body 20 by an angle θ.
    アンテナ本体20に結合されたストッパー22を導体部50と抜止部51Aで形成し、導体部50の中心軸O2をアンテナ本体20の中心軸O1に対して角度θ傾ける。 - 特許庁
  • Coordinates of inner peripheral circle center positions C1 to Cn of an inner hole H formed in the glass tube G are determined at a plurality of portions to determine a straight line O2 so that deviation with the center positions C1 to Cn may be minimum.
    ガラス管Gに形成された内孔Hの内周円中心位置C1,C2,C3…Cnの座標を複数箇所で求めて、中心位置との偏差が最小となるような直線O2を求める。 - 特許庁
  • The chromium phosphate compd. concentrated and distributed in the vicinity of the boundary with the plating layer functions as a barrier layer checking the intrusion of corrosion factors (H2O, Cl, O2-, or the like) into base steel and strengthens its corrosion resistance.
    めっき層との界面近傍に濃化分布した燐酸クロム化合物は、腐食因子(H__2O,Cl^−,O^2−等)が素地鋼へ浸入するのを阻止するバリヤー層として機能し、耐食性を強化する。 - 特許庁
  • In the work support member 2, the outer peripheral surface 21 is a circle with a smaller diameter than the reference stage 1, and one face side in the axial direction is provided with a work mount part 22 set based on the center O2.
    ワーク支持部材2は、外周面21が基準ステージ1よりも小径の円形状であって、軸方向の一面側に、中心O2を基準にして設定されたワーク取り付け部22を有する。 - 特許庁
  • Back to arrival and shipping information tied by the link number o2 up to arrival information of a pickup point 1 in which the carrying number i1 is written, the distribution route of the case #1 is specified.
    そして、搬入ナンバi1が書き込まれている集荷場1の入荷情報まで、リンクナンバo2によって紐付けられる入出荷情報を遡って、ケース#1の流通経路を特定する。 - 特許庁
  • The right and left divided operation panels 5A, 5B are bi-parting doors, and are freely moved to the position above the opening and closing cover portion 45 and the refuge position by swivelling about vertical swivelling axes O2 provided on side portions of the machine cover 3 respectively.
    左右の分割操作盤部5A,5Bは、それぞれ機体カバー3の側部側に設けた鉛直旋回軸O2回りに前記上方位置と退避位置とに位置切換自在な両開き式とされる。 - 特許庁
  • 20 sccm SiH4, 20 sccm SiF4, 7 sccm B2H6, 100 sccm O2 and 400 sccm Ar are introduced in the chamber 102 and the interior of the chamber 102 is set at a pressure of 0.01 to 10 Torr.
    各々20sccmのSiH_4とSiF_4と,7sccmのB_2H_6と,100sccmのO_2と,400sccmのArを処理室102内に導入し,0.01Torr〜10Torrにする。 - 特許庁
  • The temperature of a wafer stage holding a wafer having the layer 40 treated with the O2 plasma within a chamber of a plasma treatment device is risen to 340°C to perform a 10 minutes' Ar annealing treatment on the wafer.
    プラズマ処理装置のチャンバ内でO_2 プラズマ処理を施した配線層40を有するウエハを保持するウエハステージの温度を340℃に昇温して、ウエハに10分間のArアニール処理を施す。 - 特許庁
  • The breather chamber 47 is preferably formed integrally with a generator cover 15 in a position facing the balancer axis O2 in the axis direction, and the outlet 63 side end part of the balancer shaft 31 is projected into the breather chamber 47.
    ブリーザ室47は、好ましくは、バランサ軸芯O2と軸芯方向に対向する位置に、ジェネレータカバー15と一体成形し、該ブリーザ室47にバランサ軸31の出口63側の端部を突出させる。 - 特許庁
  • X-rays are collected at a solid angle Δϕ by the X-ray lens 10, condensed onto the rear focus O2 of the X-ray lens 10, and is made to be incident on the flat analyzing crystal 4A' at an angle Δθ2 of divergence.
    X線は立体角度ΔφでX線レンズ10で収集され、X線レンズ10の後焦点O_2に集光され、発散角度Δθ_2で平板型分光結晶4A′に入射する。 - 特許庁
  • When the second casing 52 is turned with respect to the first casing 50, the mirror 56 is turned around the optical axis O1, and the ROSA 30 is turned while being positioned on the optical axis O2.
    第2の筐体52を第1の筐体50に対して回動させた場合、ミラー56は光軸O1の周りに回動し、ROSA30は光軸O2上に位置した状態で回動する。 - 特許庁
  • Then, the position coordinate (Xm, Ym) of the unknown point M is computed by computing the position coordinate of the intersection point of the circle C1 and the circle C2 using the position coordinate (X1, Y1) and (X2, Y2) of the center points O1 and O2, respectively.
    そして、中心点O1,O2の位置座標(X1,Y1),(X2,Y2)を用いて円C1と円C2の交点の位置座標を算出することにより、未知点Mの位置座標(Xm,Ym)を算出する。 - 特許庁
  • The first transistor T1 is formed at the first arranging point O1 of four image cells Ca arranged in the row and column directions, and the second transistor T2 is formed at the second arranging point O2.
    行方向及び列方向に配列された4つの画像セルCaの第1配置点O1には第1トランジスタT1が形成され、第2配置点O2には第2トランジスタT2が形成される。 - 特許庁
  • The manufacturing method is as follows: for a specified time of about several seconds after the start of the etching, the flow rate of CHF3 is raised and the flow rate of O2 is dropped, relative to those flow rates in the usual etching.
    エッチング開始後、数秒間程度の所定の時間、通常のエッチングのときのCHF_3 の流量およびO_2 の流量に対して、CHF_3 の流量を大きくし、O_2 の流量を小さくする。 - 特許庁
  • To provide systems for statically eliminating noncondensable gasses from facilities susceptible to damage from combustion of built-up noncondensable gasses, such as H2 and O2 in nuclear power plants.
    原子力発電プラント内のH2およびO2などの滞留した非凝縮性ガスが燃焼することにより損傷を受けやすい設備から非凝縮性ガスを静的に除去するシステムを提供する。 - 特許庁
  • The membrane electrode assembly is locally heated from blow zero to proper operation temperature by a chemical exothermic reaction between H2 and O2 on the catalyst of an anode and/or cathode.
    膜電極アセンブリは、アノード及び/又はカソードの触媒上でH_2及びO_2の間で化学的な発熱反応を引き起こすことにより氷点下の温度から適切な作動温度まで局所的に加熱される。 - 特許庁
  • The occurrence frequency distribution of the output voltage Vo2 of an O2 sensor present on the downstream side of a catalytic converter resulting from cracking in element is deviated to the lean side of a standard occurrence frequency distribution.
    素子割れに起因して触媒コンバータの下流側に存在するO2センサの出力電圧Vo2の出現頻度分布は標準の出現頻度分布に対してリーン側にずれることになる。 - 特許庁
  • The C-rings 73, 97 attached to a pinion gear 14 and an idling gear 15 of the starter motor 1 are formed in a C-shape having a center O1 of an inner diameter and a center O2 of an outer diameter eccentrically arranged.
    始動電動機1のピニオンギヤ14やアイドルギヤ15に取り付けられるCリング73,97は、内径の中心O1と外径の中心O2が偏芯配置されたC形に形成されている。 - 特許庁
  • An Xe2 excimer lamp 1 is lighted over a synthetic quartz window 2, and TEOS and an additive gas O2 are introduced in a vacuum chamber 3 to form a film on a wafer 6 for a forming time of 15 min with a gas flow rate of 100 sccm at a TEOS partial pressure of 300 mTorr.
    合成石英窓2上よりXe_2 エキシマランプ1を照射し、真空チャンバ3内にTEOS、添加ガスであるO_2 を導入することにより、ウエハ6上に成膜を行った。 - 特許庁
  • In the middle part of width directions of the outer rings 2, 3, steps 2b, 3b which allow eccentric rotation around the eccentric axial line O2 are continuously formed all over the whole periphery of the eccentric axial line at prescribed widths W3 in the width directions.
    外輪2,3の幅方向中間部には、偏心軸線O2周りでの偏心回転を可能とする段差部2b,3bが幅方向に所定の幅W3で全周にわたって連続的に形成されている。 - 特許庁
  • A bent part 131a is formed on the periphery of the plate material 131, and a projection 131b is formed to be swollen on a plane part 131c being the largest plane part and on lines O1 and O2 being almost center of the plane part 131c.
    板材131には周縁に曲げ部131aが形成され一番広い面部である平面部131cに当該面部の略中心をなす直線O1,O2上に突起部131bが膨出形成されている。 - 特許庁
  • An orifice 25 is bored by means of oxygen plasma 33 using a helicon wave etching system and O2 gas for processing and a Ti oxide film 32-2 is formed, as a hydrophilic region 28, on the surface of the Ti film 32.
    ヘリコン波エッチング装置と処理用O_2 ガスを用い、酸素プラズマ33によるオリフィス25の孔空けを行なうと共にTi膜32表面に酸化Ti膜32−2を形成し、これを親水性領域28とする。 - 特許庁
  • While the engagement pin 5 is moved in the range of the opening O2, an engagement piece 7 provided in a front side sun shade panel 3 of the second sun shade panel SH2 is engaged to the engagement pin 5 to be moved integrally with the engagement pin 5.
    係合ピン5が開口O2の範囲を移動している間は、第2サンシェードパネルSH2の前側サンシェードパネル3に設けた係合片7が係止ピン5と係合してこれと一体に移動させられる。 - 特許庁
  • This method, since an air-fuel ratio of exhaust gas is changed to the rich side, i.e., in a direction in which exhaust gas purifying efficiency is improved, calculates an O2 storage amount without worsening exhaust emission.
    この方法は、O_2 ストレージ量を算出する際に、排ガスの空燃比をリッチ側(つまり排ガス浄化効率を向上させる方向)に変化させるため、排気エミッションを悪化させずに、O_2 ストレージ量を算出することができる。 - 特許庁
  • A cutter holder 39 for holding a cutter 37 to be movable relatively to the workpiece W fixed to the workpiece mounting tool 25 and rotatable around the rotation axis O2, is further provided on the workpiece mounting tool 25.
    ワーク取付具25上に固定されたワークWに対して相対移動可能にかつ回転軸線O2周りに回転可能にカッタ37を保持するカッタホルダ39をワーク取付具25上にさらに設ける。 - 特許庁
  • An ECU 10 determines whether the O2 sensor 20 is prior to factory shipments or after factory shipments and controls the energization of the heater differently depending on whether it is prior to factory shipments or after factory shipments, on the basis of determination results.
    ECU10は、このO2センサ20について工場出荷前か工場出荷後かを判定し、その判定結果に基づいて、工場出荷前と工場出荷後とで異なるヒータ通電制御を実行する。 - 特許庁
  • When a shift lever 2 is operated further from a D-position to an A1 direction, the shift lever 2 is turned again around an axis O2 of a rotating shaft 22 and changed over and held into the manual transmission mode with the effect of a holding part.
    シフトレバー2をDポジションからさらにA1方向に操作すると、シフトレバー2は回転軸22の軸線O2の周りに再び回動し、保持部の作用により手動変速モードに切り換え保持される。 - 特許庁
  • An out-of-axis photographing beam passing an out-of-axis focus detection area C set up on the outside of the axis of a photographing optical system is deflected to the optical axis O2 side of the focus detecting optical system by a condenser lens part 24b.
    撮影光学系の軸外に設定された軸外焦点検出領域Cを通過する軸外撮影光束は、コンデンサレンズ部24bにより焦点検出光学系の光軸O2側へ偏向される。 - 特許庁
  • In the stoichiometric operation mode, the reducing state of NOx of the catalytic device 3 is grasped on the basis of the estimated value of the output of the O2 sensor 5, and it is judged according to the reducing state whether the switching to the lean operation mode is performed or not.
    このストイキ運転モードにおいて、O_2センサ5の出力の推定値に基づいて、触媒装置3のNOxの還元状態を把握し、該還元状態に応じてリーン運転モードへの切換えの可否を判断する。 - 特許庁
  • A method of depositing a silicon oxide film comprises supplying TEOS(tetraethoxy silane) gas, O2 gas and He gas as raw gas to the surface of a water, and then depositing a silicon oxide film on the wafer by plasma CVD.
    本方法は、ウエハの表面に原料ガスとしてTEOS(Tetra Ethoxy Silan)ガス、O_2 ガス、Heガスを含むガスを供給してプラズマCVD法によりシリコン酸化膜をウエハ上に成膜するシリコン酸化膜の成膜方法である。 - 特許庁
  • An exhaust pipe 14 of an engine 10 includes a gas sensor (O2 sensor 20) provided with a sensor element 21 having a solid electrolytic layer 24 and a pair of electrodes 25 and 26 arranged in the solid electrolytic layer 24.
    エンジン10の排気管14には、固体電解質層24と該固体電解質層24に配置された一対の電極25,26とを有するセンサ素子21を備えるガスセンサ(O2センサ20)が設けられている。 - 特許庁
  • Since the shaft center O1 and the shaft center O2 are separated from each other at a distance L1 and arranged in parallel with each other, a locus of a cylinder linear 23 and a locus of the piston 3 come close to each other and separate from each other in places.
    軸心O1と軸心O2とは、距離L1離間すると共に平行に配設されているので、シリンダライナー23の軌跡とピストン3の軌跡には近接した領域と離間した領域とが存在する。 - 特許庁
  • The air cooling component is located on the LSI 30 shifted laterally, so as to make the center position O2 of a radiation cooler 40 close to a DIMM memory 60 along a mounting surface 20 for the center position O1 of the LSI 30.
    放熱クーラー40の中心位置O2をLSI30の中心位置O1に対して実装面20に沿いDIMMメモリ60に近づけるように横方向にずらして当該LSI30上に設置する。 - 特許庁
  • The assembly of the many ceramic tubes 5 is fixed by an adhesive 7 while arranged densely such that the centers O1, O2, O3, O4 of four adjacent ceramic tubes 5 become the vertexes of a square.
    前記多数のセラミック管5の集合体は隣接する4つのセラミック管5…の中心O1、O2、O3、O4が正方形の頂点となるように稠密配置された状態で接着剤7で固着されている。 - 特許庁
  • The ground voltage suppressor 130 has a discharge gap 131 connected to the open terminal O1 at its one end and a load resistor 132 provided between the other end of the discharge gap 131 and the open terminal O2.
    対地電圧抑制装置130は、オープン端子O1に一端が接続された放電ギャップ131と、放電ギャップ131の他端とオープン端子O2との間に設けられた負担抵抗132とを有する。 - 特許庁
  • When the trunnion 14 and the power roller 8 are synchronized, to the offset in the direction of a head swing axial line (O2) from the non-speed change position, as shown in the figure at the same phase, they are fitted and rotated about the same axial line to perform speed change.
    トラニオン14およびパワーローラ8をサーボピストン42により同期して同位相で図示の非変速位置から首振り軸線(O_2 )方向にオフセットさせると、これらが同軸線周りに傾転して変速を行う。 - 特許庁
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