The defect inspection of the design pattern 3 and the defect inspection of the monitor pattern 5 are performed by using the defect inspection apparatus and after the defect of the monitor pattern 5 is confirmed to be detectable by the defect inspection apparatus, the defect of the design pattern 3 detected in the defect inspection is corrected. そして、欠陥検査装置を用いて設計パタン3の欠陥検査およびモニタパタン5の欠陥検査を行い、欠陥検査装置によってモニタパタン5の欠陥が検出可能であることを確認した後、欠陥検査において検出された設計パタン3の欠陥を修正する。 - 特許庁
To provide an apparatus for correcting a defect in a pattern, which corrects the defect on a photomask, by applying a pattern correcting material at an adequate size onto the defect in the pattern. フォトマスク上の欠陥にパターン修正材料を適切な大きさにて付与して欠陥を修正するパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁
PHOTOMASK PATTERNDEFECT INSPECTING METHOD AND DETECTING METHOD FOR FINE FIGURE PATTERN フォトマスクパタン欠陥検査方法および微細図形パタンの検出方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING DEFECT IN CYCLIC PATTERN 周期性パターンの欠陥検査方法および装置 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR DETECTING DEFECT OF PERIODIC PATTERN 周期性パターンの欠陥検査方法及び装置 - 特許庁
DEFECT INSPECTING METHOD FOR METAL FOIL PATTERN ETCHING PRODUCT 金属箔パターンエッチング製品の欠陥検査方法 - 特許庁
METHOD FOR INSPECTING DEFECT OF CIRCUIT PATTERN AND DEVICE THEREOF 回路パターンの欠陥検査方法及びその装置 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR DETECTING DEFECT OF MICRO PATTERN 微細パタ−ンの欠陥検出方法及び装置 - 特許庁
To inspect a defect in a mask pattern with high accuracy and to prevent a defect in an exposure pattern on a wafer. マスクパターンの欠陥検査を精度良く行い、ウェハ上の露光パターンに欠陥が生じないようにする。 - 特許庁
To remove a defect derived from a correction pattern in a defect inspection of a photomask having the correction pattern. 補正パターンを有するフォトマスクの欠陥検査において、補正パターンに由来する欠陥を除外すること。 - 特許庁
REFERENCE DATA GENERATION METHOD, PATTERNDEFECT INSPECTION DEVICE, PATTERNDEFECT INSPECTION METHOD, AND REFERENCE DATA GENERATION PROGRAM 参照データ生成方法、パターン欠陥検査装置、パターン欠陥検査方法、及び参照データ生成プログラム - 特許庁
The defect detection sensitivity is inspected by using a mask for defect inspection having a photomask pattern which includes a basic pattern and a patterndefect comprising a resist pattern at a specified position of the basic pattern. 基本パターンと、基本パターンの所定の位置に、レジストパターンにより形成されたパターン欠陥とを含むフォトマスクパターンを有する欠陥検査用マスクを用いて、欠陥検出感度検査を行う。 - 特許庁
To provide a patterndefect inspecting device capable of simultaneously inspecting both of a chrome pattern and a phase shift pattern without detecting pseudo defect in a photomask in which the chrome pattern and the phase shift pattern coexist. クロムパターンと位相シフトパターンの混在フォトマスクにおいて、擬似欠陥を検出すること無く、両パターンを同時に検査できるパターン欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
The detection sensitivity for a mask defect is inspected by using a mask for inspection of defect detection sensitivity having a basic pattern region where a pattern is formed based on the design data of a basic pattern and a defectpattern region where a pattern is formed based on the design data of a defectpattern prepared by adding a specified defect to the basic pattern. 基本パターンの設計データを基づきパターンが形成された基本パターン領域と、基本パターンに、所定の欠陥を加えた欠陥パターンの設計データを元にパターンが形成された欠陥パターン領域とを備える欠陥検出感度検査用マスクを用いて、マスク欠陥検出感度の検査を行う。 - 特許庁
To fast and correctly detect the defect of a pattern. パターンの欠陥を高速に、かつ正しく検出する。 - 特許庁
WIRING PATTERNDEFECT REMEDYING METHOD, AND SYSTEM THEREFOR 配線パターンの欠陥修正方法及びその装置 - 特許庁
PATTERNDEFECT INSPECTION METHOD AND DEVICE パターン欠陥検査方法及びパターン欠陥検査装置 - 特許庁
PATTERNDEFECT INSPECTION DEVICE AND METHOD パターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR PATTERNDEFECT INSPECTION パターン欠陥検査装置及びパターン欠陥検査方法 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING PATTERN POSITION DEVIATION AND DEFECT INSPECTING APPARATUS パターン位置ずれ補正方法及び欠陥検査装置 - 特許庁
DEFECT DETECTING UNIT, DEFECT DETECTING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR PATTERN SUBSTRATE 欠陥検出装置及び欠陥検出方法並びにパターン基板の製造方法 - 特許庁
DEFECT CORRECTION DEVICE AND DEFECT CORRECTION METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE 欠陥修正装置及び欠陥修正方法、並びにパターン基板製造方法 - 特許庁
TEST PATTERN, AND METHOD OF MONITORING DEFECT USING THE SAME テストパターン及びこれを用いる欠陥モニタリングの方法 - 特許庁
To accurately evaluate the defect detection sensitivity of an inspection apparatus for a defect in a mask pattern by suppressing influences of the shift of a patterndefect created in a basic pattern from a design value. 基本パターンに作り込んだパターン欠陥の、設計値からのズレによる影響を抑えて、正確にマスクパターンの欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価する。 - 特許庁
PATTERNDEFECT INSPECTING METHOD AND DEVICE THEREOF パターン欠陥検査方法およびパターン欠陥検査装置 - 特許庁
PATTERNDEFECT CORRECTING METHOD AND DEVICE パターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTION OF DEFECT OF PATTERN パターン欠陥検査装置及びパターン欠陥検査方法 - 特許庁
To prevent wrong detection for a patterndefect on a board. 基板上のパターンの欠陥の誤検出を防止する。 - 特許庁
The pattern correcting mechanism 2 automatically corrects a patterndefect of a glass substrate. パターン修正機構2は、ガラス基板のパターン欠陥を自動的に修正する。 - 特許庁
COLORING COMPOSITION FOR CORRECTING COLOR PATTERNDEFECT AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT OF COLOR FILTER 着色パターン欠陥修正用着色組成物およびカラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁
IMAGING CONDITION DETERMINATION METHOD FOR PERIODIC PATTERN, DEFECT INSPECTION METHOD, AND DEFECT INSPECTING DEVICE 周期性パターンの撮像条件決定方法、欠陥検査方法、および欠陥検査装置 - 特許庁
DEFECT INSPECTION MANAGEMENT SYSTEM AND DEFECT INSPECTION SYSTEM AND APPARATUS OF ELECTRONIC CIRCUIT PATTERN 電子回路パターンの欠陥検査管理システム,電子回路パターンの欠陥検査システム及び装置 - 特許庁
HARD DISK DRIVE, METHOD FOR DETECTING DEFECTPATTERN ON DISK AND METHOD FOR DETECTING DEFECT ハードディスクドライブ,ディスク上の欠陥類型検出方法および欠陥検出方法 - 特許庁
COLORANT COMPOSITION FOR CORRECTING COLOR PATTERNDEFECT AND METHOD FOR CORRECTING COLOR FILTER DEFECT 着色パターン欠陥修正用着色組成物およびカラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁
PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD WHICH SUPPRESSES OCCURRENCE OF DEFECT AND DEVELOPING SOLUTION FOR DIMINISHING DEFECT ディフェクトの発生を抑えたホトレジストパターンの形成方法およびディフェクト低減用現像液 - 特許庁
METHOD FOR DETERMINING DEFECT OF FINE CONVEX-CONCAVE PATTERN AND METHOD FOR DETERMINING DEFECT OF PATTERNED MEDIA 微細凹凸パターンの欠陥判定方法、および、パターンドメディアの欠陥判定方法 - 特許庁
To provide a patterndefect classifying and detecting method which can accurately detect a patterndefect and can classify the type of the defect and detect it. パターン欠陥を正確に検出できるとともに、その欠陥の種類を分別して検出することができるパターン欠陥分別検出方法を提供する。 - 特許庁
DEFECT INSPECTING METHOD OF INTEGRATED CIRCUIT PATTERN, AND DEVICE FOR SAME 集積回路パターンの欠陥検査方法、及びその装置 - 特許庁