「Pattern Defect」を含む例文一覧(1125)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 22 23 次へ＞- When a defect is detected, a defect contour is extracted from the generated image data, the extracted defect contour is reflected in the pattern data of a semiconductor integrated circuit, and a first drop recipe is prepared based on the pattern data which has the defect contour reflected therein.
欠陥が検出されたとき、前記生成された画像データから欠陥輪郭を抽出して、前記抽出した欠陥輪郭を前記半導体集積回路のパターンデータに反映させ、前記欠陥輪郭が反映されたパターンデータに基づいて第１ドロップレシピを生成する。 - 特許庁 - To automatically discriminate whether a defect is a short (short- circuit), open (disconnection) or the defect of contamination deposition (dust) in the case that the defect is present on a pattern formed on an inspected body surface.
被検査体表面に形成されたパターンに欠陥が有る場合に、その欠陥がショート（短絡）、オープン（断線）、または異物付着の欠陥（ダスト）であるか否かを自動的に判別すること。 - 特許庁 - The pattern inspection device 1 is equipped with an ideal pattern generation part 30 which automatically generates an ideal pattern PR and a comparison decision part 50 which decides a defect of an inspected pattern by using the result of a comparison between the ideal pattern PR and inspected pattern PS.
パターン検査装置１は、理想パターンＰＲを自動生成する理想パターン生成部３０と、理想パターンＰＲおよび被検査パターンＰＳとの比較結果を用いて被検査パターンの欠陥を判定する比較判定部５０とを備えている。 - 特許庁 - The step of correcting the defect portion includes forming a resist film on the photomask again, performing prescribed pattern drawing on a prescribed region including the defect portion, developing it to form a correction resist pattern, and removing the residual substance at the defect portion by performing etching using the resist pattern as a mask.
欠陥部分を修正する工程は、フォトマスク上に再度レジスト膜を形成し、欠陥部分を含む所定領域に所定のパターン描画を行い、現像して修正用レジストパターンを形成し、該レジストパターンをマスクとしてエッチングを施して欠陥部分の余剰物を除去する。 - 特許庁 - To provide a highly sensitive and high-throughput defect inspection apparatus in defect inspection of a sample in which a pattern is formed such as a semiconductor wafer.
半導体ウェハなどのパターンが形成された試料の欠陥検査において、高感度かつ高スループットの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - Thus, even if there is a defect in a substrate, it is not required that it be discarded, and the substrate cost can be reduced, when the defect does not affect the pattern.
これにより、基板に欠陥があってもパターンに影響を与えなければ廃棄することなく、基板コストの削減を図ることができる。 - 特許庁 - To provide a hot rolled steel strip of special steel free from a scale defect pattern and having less surface roughness.
スケール欠陥模様のない、表面粗さの小さい特殊鋼熱延鋼帯を提供する。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING CIRCUIT PATTERN, METHOD AND SYSTEM FOR DISPLAYING DEFECT CANDIDATE
回路パターンの検査方法及びその装置並びに欠陥候補の表示方法及びそのシステム - 特許庁 - METHOD FOR REDUCING NUMBER OF DEFECT OF PATTERN COLLAPSE IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND RINSING PROCESS SOLUTION
半導体デバイス製造の際のパターンつぶれ欠陥数の低減方法及びリンス処理溶液 - 特許庁 - The extracted pattern is transformed into a graphic format of the ion beam defect correcting device and is transferred.
抽出されたパターンはイオンビーム欠陥修正装置の図形フォーマットに変換し転送される。 - 特許庁 - DEFECT CORRECTION METHOD OF PHOTOMASK, PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD
フォトマスクの欠陥修正方法及びフォトマスクとその製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁 - DEFECT CORRECTING METHOD OF PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK, PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD
フォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの製造方法、及びフォトマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁 - A recess part in which at least a part overlaps the white defect of the transfer pattern is formed on the substrate.
少なくとも一部が転写パターンの白欠陥と重なる凹部が、基板に形成されている。 - 特許庁 - To prevent deviation of specification relating to optical characteristics of a mask blank and to prevent a pattern defect in a transfer material.
マスクブランクの光学特性に係る仕様の逸脱や、被転写体のパターン欠陥を防止する。 - 特許庁 - WORKING APPARATUS AND METHOD, DEFECT CORRECTING DEVICE AND METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE
加工装置、加工方法、欠陥修正装置、欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法。 - 特許庁 - To extract a minute original defect with high precision without being affected by the surface pattern of a steel plate.
鋼板の地肌模様に影響されずに微小な本来の欠陥を高精度に抽出する。 - 特許庁 - To accurately adjust the defect inspection sensitivity of a circuit pattern formed on a semiconductor wafer.
半導体ウェーハ上に形成された回路パターンの欠陥検査感度を正確に調整する。 - 特許庁 - To accurately detect a defect of a pattern in a unit region repeatedly disposed on a substrate.
基板上に繰り返し設けられる単位領域のパターンの欠陥を精度よく検出する。 - 特許庁 - Since the comparison of the wiring pattern to be inspected with the other reference pattern is dispensed with, the defect of a minute pattern can be detected in a short time.
欠陥検出の対象である配線パターンと他の標準パターンとを比較する必要がないため、短い時間で微細パターンの欠陥を検出することができる。 - 特許庁 - As for the completed carrier tape 12, the wiring pattern 3 is irradiated with light, and a defect of the wiring pattern 3 is inspected based upon reflected light from the wiring pattern 3.
完成されたキャリアテープ１２について、配線パターン３に光を照射し、配線パターン３からの反射光に基づいて配線パターン３の不良検査を行う。 - 特許庁 - The fine pattern correcting device is provided for correcting a pattern defect part of a fine pattern provided on a plane substrate by applying correcting liquid with the coating stylus 13.
この微細パターン修正装置は、平面基板上に設けた微細パターンのパターン欠陥部に塗布針１３によって修正液を塗布して修正するものである。 - 特許庁 - Reflected light from an irregular circuit pattern edge such as a logic pattern is eliminated with a simple spatial filter, thus making it possible to detect a defect on the circuit pattern with high precision.
ロジックパターンのように不規則な回路パターンエッジからの反射光を簡易な空間フィルタで除去し、回路パターン上の欠陥を高精度に検出することが可能になる。 - 特許庁 - The arrangement of a formation area of the circuit pattern is determined avoiding a detected defect to remove a continuous pattern formed outside the formation area of the circuit pattern.
検出された欠陥を避けるように回路パターンの形成領域の配置を決定し、回路パターンの形成領域外に形成された連続パターンを除去する。 - 特許庁 - To provide a method for producing a semiconductor device, by which a fine pattern is formed even without using an assist pattern method or a phase shift mask and defect inspection on a mask is easily performed.
補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁 - To inspect a formation defect of a resist pattern formed on an antireflection film by diffracted light of light with which the resist pattern is irradiated.
反射防止膜上に形成されたレジスト・パターンの形成不良を、レジスト・パターンに照射した光の回折光によって検査する。 - 特許庁 - To efficiently suppress charge-up of an isolated pattern without damaging the pattern in photomask defect correction using charged particle beam.
荷電粒子ビームを用いたフォトマスク欠陥修正において、孤立パターンのチャージアップを、パターンを傷つけることなく、効率よく抑止する。 - 特許庁 - To obtain a method for analyzing a defect of a mask blank, which is capable of accurately specifying which process a defect occurred during formation of a thin film for pattern formation in.
パターン形成用薄膜の際、どのプロセスで欠陥が発生したのかを正確に特定することができるマスクブランクの欠陥分析方法を得る。 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method for correcting a defect, by which pixels covered by a large defect are accurately repaired with laser, and further to provide a method for manufacturing a pattern substrate.
大きな欠陥で覆われた画素を正確にレーザーリペアできる欠陥修正装置、欠陥修正方法、及びパターン基板の製造方法を得ること。 - 特許庁 - By recognizing an image of each layer of the pattern, when detecting a defect in a following process, a layer wherein a detected defect exists can be specified.
パターンの各層の像を認識することで、その後に行われる欠陥の検出の際に、検出された欠陥が存在する層の特定が可能になる。 - 特許庁 - Using these parameters, a waveform record file is generated to keep a deviation crest factor emulation defect selectively positioned in the defect serial data pattern.
これらパラメータを用いて波形記録ファイルを発生し、偏差クレスト・ファクタ・エミュレーション欠陥が欠陥シリアル・データ・パターン内に選択的に位置決めされる。 - 特許庁 - To provide a defect inspection apparatus capable of highly accurately detecting pattern defects without reducing the light quantity of a laser beam used for defect detection.
欠陥検出に用いるレーザ光の光量が低減することなく、パターン欠陥の検出を高感度にて行うことができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection method for speedily detecting a defect of a sheet material having a formation pattern such as a fine uneven shape on a surface with good reproducibility.
表面に微細な凹凸形状等の地合パターンを有するシート材の欠陥を、迅速かつ再現性良く検査する方法を提供する。 - 特許庁 - A defect detecting process S4 detects the defect of the wiring pattern of the to-be-inspected object, based on an output value from the foreign substance determining process S3.
欠陥検出工程Ｓ４は、前記異物判別工程Ｓ３の出力値に基づいて前記検査対象物の前記配線パターンの欠陥を検出する。 - 特許庁 - To provide a pattern defect inspection apparatus and an inspection method having enhanced pixel resolution and high defect detection performance, by excluding the noise due to radiation.
画素分解能を高め、また、放射線によるノイズを排除することで、欠陥検出能力の高いパターン欠陥検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁 - The defect detecting device sets and stores a size of a defect subject to a detection, receives a specification of a first direction where the background pattern is uniformly continued and stores it.
検出対象の欠陥のサイズを設定して記憶し、背景模様が一様に連続している第一の方向の指定を受け付けて記憶する。 - 特許庁 - An observation of a region including the defect is performed by an atomic force microscope(AFM), and a shape of the defect and a pattern for alignment is extracted from an AFM image.
原子間力顕微鏡(AFM)で欠陥を含む領域の観察を行い、AFM像から欠陥の形状と位置あわせのためのパターンを抽出する。 - 特許庁 - To achieve a defect inspection apparatus capable of accurately inspecting micro foreign matter or defect at a high speed for an inspection target substrate in which a repetitive pattern and a non-repetitive pattern are mixed.
繰り返しパターンと非繰り返しパターンとが混在する被検査対象基板に対して、微小な異物または欠陥を高速で、しかも高精度に検査できる欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁 - A defect inspection apparatus inspects the defect on a module board by comparing the image pattern picked up by an image pickup apparatus 20 with a reference pattern image of a reference module board previously stored.
画像読取装置２０で読取った画像パターンと予め記憶されている基準モジュール基板の基準パターン画像と比較対照することにより、モジュール基板の欠陥を検査する欠陥検査装置である。 - 特許庁 - Even the small rugged defect which was difficult to identify in a conventional polarization type surface defect inspection device can thereby be identified with high accuracy, not to mention the small pattern-like defect.
これによって小さな模様状欠陥は勿論、従来の偏光式表面欠陥検査装置では識別が困難であった小さな凹凸欠陥についても高精度に識別することができる。 - 特許庁 - Since the gradation of the test pattern displayed on the screen is changed by a transmission defect of each bit, the defect of the low-order bit and the defect of the high-order bit can be visually judged on the single screen.
このとき、各ビットの送信不良によって、画面に表示されるテストパターンの階調は変化するため、一画面上で上位ビットの不良と、下位ビットの不良を視覚的に判断できる。 - 特許庁 - Further, defect inspection data wherein the defect inspections ensitivity and defect inspection positions are defined for the specific pattern of the mask having a plurality of inspection areas are prepared and photomask inspection is performed according to the data.
また、複数の検査領域を有するフォトマスクの所定のパターンに対する欠陥検査感度と欠陥検査位置とを定義した欠陥検査データを用意しこのデータに基づいてフォトマスク検査を行う。 - 特許庁 - To provide a detection method of a defect caused by chemical solution capable of detecting foreign matter in the chemical solution causing such a fine defect undetectable by a conventional defect inspection device of a resist pattern.
従来のレジストパターンの欠陥検査装置では検出不可能となるほど微細な欠陥の起因となる薬液中の異物の検出が可能な、薬液起因の欠陥検出方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a defect inspection method and a defect inspection apparatus capable of improving visibility of a small signal defect within a pattern and preventing information in the whole review area from being lost wherever possible.
パターン中の信号の小さい欠陥の視認性を向上する一方で、レビュー領域全体の情報を可能な限り失わない欠陥検査方法および欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - To preliminarily prevent the occurrence of a large amount of failures by specifying a stamper which is the factor of defect occurrence in an early stage by extracting a defect originated in the stamper from the defect of a pattern generated on the disk.
ディスク上に発生したパターンの欠陥からスタンパに由来する欠陥を抽出して、欠陥発生の原因となっているスタンパを早期に特定して大量の不良の発生を未然に防止する。 - 特許庁 - To provide a resist composition, a resist layer, an imprint method, a pattern forming body, and their associated technique in which there is not a peel-off defect or a pattern defect over the whole pattern forming body, a pattern shape and a remained film are uniform, and productivity is improved for short peel-off time.
パターン形成体の全面にわたって、剥離不良やパターン不良がなく、パターン形状及び残膜を均一なものとし、短い剥離時間で生産性を向上させるレジスト組成物、レジスト層、インプリント方法、パターン形成体、及びこれらに関連する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The memory test circuit constitutes a part of a test pattern, executes the test to a memory 2 according to a pattern mode signal for specifying the partial pattern consisting of a plurality of operation and stores the pattern mode signal in a defect information storing register 17 as the part of the defect information.
本発明にかかるメモリテスト回路は、テストパタンの一部を構成し、複数の動作からなる部分パタンを指定するパタンモード信号に応じてメモリ２に対するテストを実行するとともに、パタンモード信号を不良情報の一部として不良情報格納レジスタ１７に格納するものである。 - 特許庁 - To provide a defect inspection device that can efficiently detect an actual defect by removing a false defect due to unevenness caused by the growth of crystal grains or the like generating on the circuit pattern of a semiconductor integerated circuit, and to provide a defect inspection method.
半導体集積回路の回路パターン上に発生する結晶粒成長等によって生じる凹凸による疑似欠陥を除去し、実欠陥を効率よく検出する欠陥検査装置、および、欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - The line width of the pattern of the absorbing film 4 adjacent to a pattern defect correcting portion is made narrow, thereby improving the reflection rate.
パターン欠陥修正部に隣接する吸収膜４のパターンの線幅を狭くすることにより、反射率を向上させることができる。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method for effectively forming a highly reliable pattern on a substrate by compensating for a defect of mask.
マスクの欠陥を補償して基板上に信頼性の高いパターンを効率よく形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a rinse liquid for lithography which can improve the pattern collapse, surface roughness, and surface defect; and a pattern forming method using the same.
パターン倒れ、表面粗さ、および表面欠陥を改良することができる、リソグラフィー用リンス液とそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
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