「Pattern of」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 972 973 974 975 976 977 978 979 980 .... 999 1000 次へ＞- In addition, the stepwise heating in the dewaxing step is preferably conducted at a temperature zone of ≤250°C, and, in the firing step, the resin pattern (a) is preferably burnt and extinguished at a temperature of 300°C-750°C.
尚、脱ロウ工程での階段状加熱は、２５０℃以下の温度帯域で行われることが望ましく、また前記焼成工程では、３００℃〜７５０℃の温度にて樹脂模型（ａ）を燃焼消失させることが望ましい。 - 特許庁 - To provide a perpendicular magnetic recording head in which blur (blot) of magnetized pattern transition of a recording track edge end part can be improved without reducing a magnetic field required for write-in and which is effective in suppressing side fringing.
書き込みに必要な磁界の低下を招くことなく、記録トラックエッジ端部の磁化パターン遷移のぼけ（にじみ）を改善でき、且つサイドフリンジングの抑制にも有効な垂直磁気記録ヘッドを提供すること。 - 特許庁 - An HVECU 100 makes the vehicle 1 acceleration-travel in the operation state of an internal combustion engine 10, and inertia-travel in the non-operation state of the internal combustion engine 10 according to a set basic travel pattern.
ＨＶＥＣＵ１００は、内燃機関１０を作動状態にしての加速走行と、内燃機関１０を非作動状態にしての惰性走行とを、設定された基本走行パターンに従って車両１に行わせる。 - 特許庁 - To provide a radical-curable composition which can suppress the generation of a wrinkle pattern such as "striae" on a molded product surface in the production of an optical component such as a lens by a casting molding method using a radical curing system.
ラジカル硬化系を用いたキャスティング成形法でのレンズ等の光学部品の製造において、成形物表面における「脈離」等の皺模様の発生を抑制できるラジカル硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - The color of a color-faded clothing with colored pattern can be recovered by dipping the clothing at a bath ratio of (1:2) to (1:500) into a medium comprising 5-2,500 ppm water-insoluble polymer having 1.2-1.45 refractive index at 25°C and water.
２５℃における屈折率が１．２〜１．４５の水不溶性重合体５〜２５００ｐｐｍと水とを含有する媒体に、衣料を浴比１／２〜１／５００で浸漬させることにより、色柄物衣料の色彩を回復させる。 - 特許庁 - In a region ACT, 56 metal balls 106 which are connected with the bonding pads of an SRAM(static random access memory) chip 101 and the bonding pads of a FLASH memory chip 102 are formed, for example in a grid pattern.
領域ＡＣＴ内において、ＳＲＡＭチップ１０１のボンディングパッドとＦＬＡＳＨメモリチップ１０２のボンディングパッドと電気的に接続されている金属ボール１０６は、例えば格子形状に５６個形成されている。 - 特許庁 - Cycle data set by a pattern generator 10 of a waveform generation device 1 (semiconductor tester) is corrected so as to allow spurious which may occur on a carrier of a highly precise variable clock signal, to occur at a position away from the carrier.
高精度可変クロックのキャリアに生じるスプリアスがそのキャリアから遠い位置で生じるように、波形発生装置（半導体試験装置）１のパターン発生器１０で設定される周期データを補正する。 - 特許庁 - To constitute a free uneven surface useful for forming a display, a decoration pattern or the like by forming transparent stepped surfaces by etching without lowering transparency of glass, without forming an irregular reflection surfaces of light by etching.
エッチングにより光の乱反射面を形成するのではなく、ガラスの透明性を損なうことなくエッチングにより透明な段差面を形成して、表示、装飾模様等をなす自由な凹凸面を構成する。 - 特許庁 - A computer is made to execute adjustment processing to add change to the features of the defect distribution pattern in the template 100, and to evaluate the validity/invalidity of a changed template 107 by using the data groups 101 and 102.
テンプレート１００における欠陥分布パターンの特徴に変更を加えるとともに、データ群１０１，１０２を用いて変更後のテンプレート１０７の良否を評価する調整処理をコンピュータに実行させる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of magnetic recording medium by which a magnetic recording medium which has a recording layer formed with an irregular pattern, of which the surface is sufficiently flat and the recording/reproducing accuracy is good can be manufactured efficiently.
凹凸パターンで形成された記録層を有し、表面が充分に平坦で記録再生精度が良好な磁気記録媒体を効率良く製造できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The regeneration method for used electrophotographic photoreceptor comprises regenerating a used electrophotographic photoreceptor, by polishing the surface of the photoreceptor by using a sheet-type polishing means having a portion of a three-dimensional pattern.
立体形状の部位を有するシート状の研磨手段を用いて使用済み電子写真感光体の表面を研磨することにより電子写真感光体を再生させる使用済み電子写真感光体の再生方法。 - 特許庁 - When the diffraction grating is formed on the side face of a ridge in a ridge-shaped waveguide, a mask pattern is formed while irregularities formed on the surface of a crystal layer are used, and its side face is side-etched so as to form a mask.
また、リッジ型導波路においてそのリッジ側面に回折格子を形成する際に、結晶層の表面に形成した凹凸を利用してマスクパターンをつくり、その側面をサイドエッチングしてマスクを形成する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a resistance layer laminated member and a method of manufacturing a component using the resistance layer laminated member in which a resistor having a prescribed resistance is formed in a wiring pattern formed by etching.
所要の抵抗値を有する抵抗器をエッチング形成された配線パターン内部に形成可能とする抵抗層積層材の製造方法、および抵抗層積層材を用いた部品の製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide a laser diode modulator reducing the influence of an oscillation delay time and an pattern effect without shortening the service life of a laser diode, and thus, improving a signal error rate, and also to provide a modulation method thereof.
レーザダイオードの寿命を縮めることなく、発振遅れ時間およびパタン効果の影響を少なくし、これにより信号誤り率の改善が可能なレーザダイオード変調装置およびその変調方法の提供。 - 特許庁 - A fault detection portion 310 analyzes the pattern of traffic change from a measured traffic status, predicts the tolerable range of the change, figures fault occurrence, when a current measurement result is not in the tolerable range.
障害検知部３１０は、計測されたトラフィック状態からトラフィック変化のパターンを解析し、変化の許容範囲を予測し、最新の計測結果が許容範囲に入っていない場合には、障害発生を推定する。 - 特許庁 - To solve the problem in a conventional azimuth evaluation device for measuring the azimuth of a radio emitting source that a directivity pattern is disordered by the electric influence of a mounting parent body such as air plane, naval vessel, when mounted on the parent body, to increase the azimuth orientation error.
電波発射源の方位を測定する方位評定装置を飛行機や艦艇などの搭載母体に搭載すると、母体の電気的影響により指向性パターンが乱れて方位標定誤差が増大する。 - 特許庁 - To obtain a transferred image with higher accuracy than a conventional one by not only simply carrying out OPC (optical proximity correction) on the mask pattern figure of an exposure mask but by taking into consideration the occurring tendency of dimensional errors after transferring.
露光用マスクのマスクパターン形状に対して、単にＯＰＣを行うだけではなく、転写後の寸法誤差の生じ易さをも考慮することで、従来よりも高精度な転写像を得ることを可能にする。 - 特許庁 - The pattern light irradiation device is constituted of: a light source device; an optical integrator 11; and an image formation optical system 15 which irradiates light emitted from the optical integrator 11 toward a surface to be irradiated of a liquid crystal panel 20.
パターン光照射装置は光源装置と光インテグレータ１１と光インテグレータ１１から出射された光を液晶パネル２０の被照射面に向けて照射する結像光学系１５とから構成される。 - 特許庁 - A special pattern display device 12 with a height more than that of a gap H (about 13 mm-25 mm) between the game board 3 and the protection plate 11 mounted on the front face of the game board 3 is mounted on the game board 3.
遊技盤３と該遊技盤３の前面に設けられた防護板１１との隙間Ｈ（約１３ｍｍ〜２５ｍｍ）よりも高さのある特別図柄表示装置１２が遊技盤３に設けられている。 - 特許庁 - When a winning state to the special prize is carried over as a prize winning flag, a flag notice based on a special lighting pattern is also executed in the next game to inform the player of the carried- over state of the prize winning flag.
また特別入賞への当選状態が入賞フラグとして持ち越されると、つぎのゲームでも特別の点灯パターンによるフラグ告知が実行され、入賞フラグの持ち越しが遊技者に報知される。 - 特許庁 - To provide a "pulse signal output circuit" which can prevent the generation of a harmonic component which leads EMC (Electro Magnetic Compatibility) interference from a wiring pattern or a signal line of the pulse signal output circuit or succeeding circuits using a simple circuit composition.
簡単な回路構成によりパルス信号出力回路以降の配線パターンや信号線から、ＥＭＣ妨害の原因となる高調波成分の発生を防止できる「パルス信号出力回路」とする。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an electromagnetic-wave shielding body which has a sufficient aperture ratio by narrowing a pattern without spoiling the visibility of a transparent board, and is improved simultaneously in both translucency and shielding properties.
透明基板の視認性を損なうことが無く、パターンを狭くして十分な開口率を得ることができ、しかも透光性とシールド性とを両立させることのできる電磁波シールド体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A method for manufacturing a ceramic circuit board comprises the steps of forming a through hole 25 of the shape corresponding to the conductor pattern on a film 20 adhered to a green sheet 10 by laser processing, filling a conductive paste 30 in the hole, drying the paste, and then separating the film 20 from the sheet 10.
グリーンシート10に貼り付けたフィルム20に、導体パターンに対応した形状の貫通孔25をレーザ加工によって形成し、導電性ペースト30を充填して乾燥させた後、グリーンシート10からフィルム20を剥離する。 - 特許庁 - Backup power is fed from a backup power source of a power source board 42 to RAMs 41c, 43c, 44c, 45c, 46c of a main board 41 and sub- boards which are a sound board 43, a pattern display board 44, a pay-out control board 45 and an illumination board 46.
電源基板４２のバックアップ用電源から主基板４１及びサブ基板である音基板４３、図柄表示基板４４、払出制御基板４５、電飾基板４６のＲＡＭ４１ｃ，４３ｃ，４４ｃ，４５ｃ，４６ｃにバックアップ用電源を給電する。 - 特許庁 - In this pattern forming method, materials to be etched are patterned by using a resist mask 3 as an etching mask in the manufacturing process of a semiconductor device, and then the volume of this resist mask is expanded by swelling or the like so that this resist mask can be changed into another etching mask 5.
半導体装置の製造工程の中でレジストマスクをエッチングマスクに使用し被エッチング材料をパターニングした後、このレジストマスクを膨潤等により体積膨張させて別のエッチングマスクに変える。 - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern-like thin film layer which has a mask layer material having a high heat resistance by a lift-off process and has a good stripping property, while preventing generation of a decomposed gas at its processing temperature upon formation of the thin film.
マスク層材料の耐熱性が高く、又薄膜形成時の処理温度下での分解ガスの発生もなく、さらに、剥離性が良好なリフトオフ方式のパターン状薄膜層の形成方法を提供する。 - 特許庁 - The size of the hard mask composition structure is controlled by the development rate, which yields a feature size that is a fraction of the imaging layer feature size, and finally gives a pattern that can ultimately be transferred to the substrate.
ハードマスク組成物の構造体の寸法は、現像速度で制御され、イメージング層の形状の寸法の何分の一かの形状の寸法を生成し、最終的に基板に転写されるパターンを作製する。 - 特許庁 - To provide an image reader which has an algorithm for removing the background of any image irrespective of the image pattern type, by giving an exchangeability to image characteristics, even if an analog system is changed to a digital system.
アナログ方式をデジタル方式に変更した場合でも画像特性に互換性を持たせることで、画像パターン種類によらず、いかなる画像の地肌も除去可能なアルゴリズムを有する画像読み取り装置を提供する。 - 特許庁 - The holder 12 is adhered to the surface of the window plate 2, and as the connector housing 11 is installed on the holder 12 adhered to the window plate 2, the bonded portion 10a of the terminal 10 is positioned on the conductor pattern 3.
ホルダ１２は窓板２の表面に接着され、窓板２に接着されたホルダ１２にコネクタハウジング１１が装着されるのに伴って、端子１０の接合部１０ａが導体パターン３上に位置決めされる。 - 特許庁 - In the exposure system, a mask 30 on which the pattern of an inscribing numeric or symbol is drawn is selected, and exposure is conducted by a mask storage controller 22 and a mask shifter 23 at every column of wafer-discrimination information.
露光装置は、ウエハ識別情報の各桁毎に、マスク格納コントローラ２２およびマスク移載機２３によって、記入する数字または記号のパターンが描画されたマスク３０を選択して露光を行う。 - 特許庁 - To the front surface WS1 of the substrate W on which a microstructure, such as the wiring pattern etc., is formed, a cleaning fluid, which is reduced in dissolved gas concentration by means of a gas deaerating section 81, and to which an ultrasonic wave is imparted, is supplied.
配線パターン等の微細構造が形成された基板Ｗのおもて面ＷＳ１には、ガス脱気部８１によって溶存ガス濃度を低下させた洗浄液に超音波が付与されたものが供給される。 - 特許庁 - Then, when an etching rate of the silicon wafer 52 is defined as R1, and the etching rate of the resist pattern 64 is defined as R2, a selection ratio (R1/R2) is 0. 5 to 1. 5, and etching is performed on condition that R1 is 5 to 40 nm/minute.
このとき、シリコンウエハ５２のエッチングレートをＲ１、レジストパターン６４のエッチングレートをＲ２としたとき、選択比（Ｒ１／Ｒ２）が０．５〜１．５であって、且つ、Ｒ１が５〜４０ｎｍ／分の条件でエッチングを行う。 - 特許庁 - A dummy pattern for making all the nozzles of an inkjet head discharge the functional material at least once during the time to move the inkjet head once to the substrate feeding direction is arranged in coating data in order to reduce the possibility of nozzle clogging in the ink-jet head.
インクジェットヘッドのノズルの詰まりを低減するため、インクジェットヘッドの１回の基板送り方向への移動の間、少なくとも１回、インクジェットヘッドの全ノズルから吐出を行わせるダミーパターンを塗布データに設ける。 - 特許庁 - A coating film 110 of a photosensitive material, comprising a mixture of a photosetting material and a photolytic material, is exposed and developed to form a pattern including a thick film part 110r and a thin film part 110t.
光硬化材料および光分解材料が混合された感光材料の被膜１１０を、露光および現像することにより、厚膜部１１０ｒおよび薄膜部１１０ｔを有するパターンを形成する。 - 特許庁 - After the ink 4 is transferred to the material, the material is baked to thermally decompose the layer 3 of the material and to remove the layer 4, and hence a printing pattern is formed on a base plate 2 of the material.
インキ４の被印刷物上への転写後、被印刷物を焼成することにより、被印刷物の受容吸着層３を熱分解して取り除き、被印刷物の基板２上に印刷パターンを形成する。 - 特許庁 - To accurately transfer a magnetized pattern by defining the permissible range of the applying direction of a transfer magnetic field when magnetic transfer is carried out by adhering a master carrier to a slave medium and applying a transfer magnetic field.
マスター担体とスレーブ媒体を密着させて転写用磁界を印加して磁気転写を行う際の、転写用磁界の印加方向の許容範囲を規定して正確な磁化パターンの転写が行えるようにする。 - 特許庁 - Further, the character 201 is moved from the variable display part 5 into a direction to the outside of a screen and disappears, and a small character 202 is moved from a front surface side to a rear surface side and displayed as the background of the reach pattern 203.
さらに、キャラクタ２０１は可変表示部５から画面外方向に移動して消失し、また小キャラクタ２０２がリーチ図柄２０３の背景として前面側から後面側に移動して表示される。 - 特許庁 - When the sheet-applied facing is repaired, a cut is made on the circumference of the blemish section required for repair, a sheet part including the blemish section is warmed to eliminate it, and a sheet material having the same pattern as that of the blemish section is applied.
シート貼り化粧面の補修に際し、補修が必要とされる欠点部の周囲に切れ込みを入れ、加温することで、欠点部を含むシート部分を除去し、これと同一柄のシート材を貼着する。 - 特許庁 - A position deviation and an image of a risk control pattern predicted after multiple exposure of masks used for the multiple exposure are obtained, and an image after overlay exposure by the masks is predicted based on the above image and position deviation information.
多重露光に用いられる各マスクの多重露光後に予測される危険管理パターンの像、並びに位置偏差を取得し、前記像と位置偏差情報を元に各マスクによる重ね露光後の像を予測する。 - 特許庁 - When a short side of the antenna 13 is considered as (a) and a long side of the antenna 13 is considered as b, the gap part 32 is set so that a gap between the antenna 13 formed like a loop and surrounding GND pattern 31 becomes (1/2)a or more.
この間隙部３２が、アンテナ１３の短辺をａ、長辺をｂとしたとき、ループ状に形成されるアンテナ１３と周囲のＧＮＤパターン３１との間隙が（１／２）ａ以上となるように設定される。 - 特許庁 - To provide a lamp unit of a projector type in which first and second light source units are arranged at the rear part of a projection lens, and in which a high beam light distribution pattern formed by this is superior in long-distance visibility.
投影レンズの後方に第１および第２光源ユニットが配置されてなるプロジェクタ型の灯具ユニットにおいて、これにより形成されるハイビーム用配光パターンを遠方視認性に優れたものとする。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a mask capable of forming by exposure a contact hole pattern which has a fine hole diameter and in which the contact holes ranging from isolated contact holes to contact hole arrays coexist with high resolution and without replacing the mask.
微細なホール径を持ち、コンタクトホールあるいは孤立コンタクトホールからコンタクトホール列までが混在するコンタクトホールパターンを、マスクを交換せずに、高解像度で露光可能なマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a printed circuit board capable of forming a pattern having a finer pitch, maintaining a VOP structure, and preventing a lower side of the board from being penetrated through when a via hole is processed, and to provide a manufacturing method thereof.
ＶＯＰ構造を保持しながらも、より微細なピッチを有するパターンを形成でき、ビアホール加工時に基板下部が貫通されることを防止できる印刷回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - Further, a negative electrode part 3 integrated with the positive electrode part 2 through an insulating part 5 is located on a bottom face of the cell frame 4 to realize conduction between the negative electrode of the cell B and a negative electrode power source pattern 7 on the rear face.
また、電池枠４の底面には、正極部２と絶縁部５を介して一体化した負極部３が位置しており、ボタン電池Ｂの負極と裏面の負極電源パターン７との導通を図る。 - 特許庁 - To provide a light source having a light distribution pattern in which a border between an illumination part and a non-illumination part clearly appears forward of the light source, on a screen arranged forward of a linear light source with a simple structure.
簡単な構成により、線状光源前方に配置したスクリーン上において、光源前方に照射部と非照射部の境界が明確に現われるような配光パターンを有する光源を提供する。 - 特許庁 - To well detect the flaw caused in the repeated pattern, which is composed of unit patterns having a complicated shape, on the surface of an inspection target and to facilitate an apparatus constitution including the stage for supporting the inspection target.
被検査体の表面の、複雑な形状の単位パターンからなる繰り返しパターンに生じた欠陥を良好に検出できると共に、被検査体を支持するステージを含む装置構成を容易化できること。 - 特許庁 - In the sub integrated board, the display form of the holding data is decided on the basis of the big winning decided result (S305) and a command is outputted to a pattern display board so as to perform display accordingly (S307 and S309).
サブ統合基板では、大当たり判定結果に基づいて、保留データの表示態様を決定し（Ｓ３０５）、それに基づいて表示を行うように図柄表示基板にコマンドを出力している（Ｓ３０７，Ｓ３０９）。 - 特許庁 - To provide a stereoscopic wiring structure for forming an electrode film high in adhesion force on a sandblasting surface such as a through-hole or pattern hole without degrading performance of a board material; and to provide a method of manufacturing the same.
スルーホールやパターン穴など、サンドブラスト加工面に基板材料の性能を劣化させることなく密着力の強い電極膜を形成する立体配線構造体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - An objective velocity VO, shown by an objective velocity pattern table, is stored in the onboard controller 5 of a train 1, and the velocity is controlled so that the real velocity VR of the train 1 becomes to the objective velocity VO.
列車１の車上制御装置５には、目標速度パターンテーブルにより示す目標速度ＶＯが記憶されており、列車１の実際の速度ＶＲが目標速度ＶＯとなるように速度制御がされている。 - 特許庁 - By sticking the adhesive layer of the irregularity-patterned adhesive sheet thus prepared to the various base surfaces, the irregularity pattern of a hairline tone or the like can be given thereto readily and stably and an ornamental body being very excellent in ornamental properties can be brought about.
このシートの粘着層を種々の基材表面に貼着することにより、ヘアライン調等の凹凸模様を即座に安定して付与でき、非常に装飾性に優れた装飾体となすことができる。 - 特許庁
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