「Pattern of」を含む例文一覧(49955)
＜前へ 1 2 .... 975 976 977 978 979 980 981 982 983 .... 999 1000 次へ＞- STRESS ADJUSTMENT METHOD AND DEVICE OF MASK FOR EXPOSURE, MANUFACTURING METHOD OF THE MASK FOR EXPOSURE INCLUDING THE STRESS ADJUSTMENT METHOD IN PROCESS, AND PATTERN-TRANSFERRED SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE MASK FOR EXPOSURE
露光用マスクの応力調整方法、応力調整装置、およびこの応力調整方法を工程に含む露光用マスクの製造方法、並びにこの露光用マスクを用いてパターン転写した半導体装置 - 特許庁 - At the position on the surface of the base region 3 which is away from the emitter region 5, at least a pair of collector regions 6A and 6B formed, away from each other, with the pattern symmetrical about the emitter region 5 are provided.
ベース領域３の表面のうちエミッタ領域５から離間した位置に、エミッタ領域５に対して対称なパターンで互いに離間して形成された少なくとも一対のコレクタ領域６Ａ，６Ｂを備える。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive polyimide composition which enables processing of a fine pattern, forms a film having heat resistance and a coefficient of linear expansion with a substrate, close to each other, does not require imidization at a high temperature, and can be alkali-developed.
微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、アルカリ現像できるポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a grain-patterned sheet molding compound to be used for forming a grain-patterned molded product of high mechanical strengths with good surface smoothness and a grain pattern of sophisticated feeling( deep feeling ).
表面平滑性に優れ、なおかつ高級感（深み感）のある石目模様を有する機械的強度の高い石目模様付成形品を形成するために用いられる石目模様付シート・モールディング・コンパウンドを提供する。 - 特許庁 - The specified game state processing of the figure is performed on the pattern display board, an adding processing is performed to the counter (j) by winning signal reception (S101-S105) and the continuation of the specified game state is discriminated (S106-S109).
図１６の特定遊技状態処理は図柄表示基板で行われ、入賞信号受信でカウンタｊに加算処理を行い（Ｓ１０１〜１０５）、特定遊技状態の継続判定を行う（Ｓ１０６〜１０９）。 - 特許庁 - At the time of forming a picture, this display device displays a multiple gradation density picture by making charge amount of particles different in accordance with light intensity while irradiating the rear-side substrate 32 with a pattern light which is modulated by the light intensity corresponding to multiple gradation density data.
画像形成時には多階調濃度データに応じた光強度を変調したパターン光を照射して、光強度に応じ粒子の帯電量を異ならせ多階調濃度画像を表示する。 - 特許庁 - The insert pieces 44, 45 are inserted through the openings 30d, 30e, and the notch 30f from the side of the pattern surface 30a, and the slip-off preventing part 47 is made to go round into the side of the mounting surface 30b to mount the metal contact piece 37.
挿通片４４，４５を開口３０ｄ，３０ｅ，切欠き３０ｆに、パターン面３０ａ側から挿通させるとともに、抜け止め部４７を実装面３０ｂ側へ回り込ませて金属接片３７を取り付ける。 - 特許庁 - As the light inputted to the light conducting body 13 illuminates at whole range of circumferential part of the light guide body from upper part toward the top plate 6, a continuous circular pattern is enabled to illuminate on the top plate.
この構成により導光体１３に入射した光は導光体の全周にわたって上部より天板方向に向かって発光するので、天板上に連続した円形の図形を描くことができる。 - 特許庁 - With a state in which all of projection of the light-shielding plates 51-54 are superimposed on a non-exposure region 62, the light-shielding plates 51-54 are moved at the same speed as the substrate 6 in a Y-axis positive direction above an opening pattern forming region 30.
遮光板５１〜５４の射影全体が非露光領域６２に重なった状態で、遮光板５１〜５４が、開口パターン形成領域３０の上方をＹ軸正方向に基板６と等速で移動する。 - 特許庁 - Moreover, as Sanetsune TOKUDAIJI's eldest daughter Junko married Hiromichi TAKATSUKASA (an army major-general and the grand chamberlain), the father of Nobusuke TAKATSUKASA, the Takatsukasa and Tokudaiji families have a finely meshed pattern of strong blood connections.
さらに、徳大寺実則の長女順子は、鷹司信輔の父である鷹司煕通（陸軍少将、侍従長）へ嫁ぐ、というように、鷹司家と徳大寺家は網の目のような連綿とした濃い血のつながりがある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - A composition for pretreatment of electroless plating containing palladium acetate and ammonia or an ammonia compound as the main components is used for pretreatment for forming a metal pattern on a layer of polysilane or a substrate by electroless plating.
酢酸パラジウムとアンモニア又はアンモニア化合物を主成分として含む無電解めっき前処理用組成物を、ポリシランの層または基体へ無電解めっきにより金属パターンを形成する前処理に用いる。 - 特許庁 - To provide an alkali-developable photosensitive resin composition excellent in sensitivity and adhesion and capable of accurately forming a fine pattern regardless of whether a photopolymerization initiator is not used or is used in small quantity.
光重合開始剤を使用しない又は少量の使用であるにも関わらず、感度及び密着性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a simple defect inspection device and a defect inspection method for performing defect inspection on a substrate by using diffraction beams generated from a repetitive pattern of further fine intervals without shortening the wavelengths of illumination beams.
照明光の波長を短くしなくても、さらに微細なピッチの繰り返しパターンから発生する回折光を利用して、基板の欠陥検査を行える簡易な欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, contrast to x-ray with wavelength shorter than about 8 Å-9 Åis improved further than the contrast of the mask pattern of 50 nm line and space cycle, consequently, a high quality optical image can be obtained.
これにより、約８Å〜９Åより短波長のＸ線に対するコントラストが５０ｎｍライン＆スペース周期マスクパターンのコントラストよりも向上するため、高品質な光学像を得ることができる。 - 特許庁 - In this method of manufacturing the semiconductor optical device, a mask pattern 46 formed on an imprint resin layer 42 by a nano-stamper 43 is transferred to the other surface side of a semiconductor substrate 21 to form the monolithic semiconductor lens 23.
この半導体光デバイスの製造方法では、ナノスタンパ４３によってインプリント樹脂層４２に形成したマスクパターン４６を半導体基板２１の他面側に転写してモノリシック半導体レンズ２３を形成する。 - 特許庁 - To control the flow of developing liquid on a substrate to form a pattern, high in uniformity in the surface of the substrate upon supplying the developing liquid while turning an exposed substrate with resist coated on the surface thereof.
表面にレジストが塗布され、露光された後の基板を回転させつつ現像液を供給するにあたり、基板上の現像液の液流を制御して面内均一性の高いパターンを基板上に形成すること - 特許庁 - To solve a problem that it is difficult to control a plurality of image forming conditions simultaneously with ordinary image forming operation in order to form a plurality of pattern images for toner adhesive amount.
この発明は、複数の作像条件制御はトナー付着量のパターン像を複数作成するために通常の作像動作と同時に実行することが困難であるという課題を解決しようというものである。 - 特許庁 - For example, the function and structure of the amino acid sequence can be easily found by pattern recognition from continuous amino acid sequence distribution, a category distribution chart or an average characteristic value chart of the amino acid sequence.
たとえば、本発明は、連続したアミノ酸配列分布、カテゴリ分布図、あるいはアミノ酸配列の平均特性値図からアミノ酸配列の機能や構造をパターン認識することで容易に見つけ出すことができる。 - 特許庁 - To suppress an uneven display state when a plurality of luminescent pixels are lit altogether in a dot matrix type fluorescent character display tube conducting pattern display by selecting the luminescent pixel with a plurality of grid electrodes.
複数のグリッド電極により発光画素を選択することでパターン表示を行うドットマトリクス型の蛍光表示管において、複数の発光画素を全点灯させたときの表示状態のムラが抑制できるようにする。 - 特許庁 - A plurality of semiconductor structures 22 having a rewiring pattern 30 formed on a silicon substrate (semiconductor chip) 24 are bonded on an adhesive layer 21 on a base plate 20 corresponding to a plurality of semiconductor devices.
複数の半導体装置に対応するサイズのベース板２０上の接着層２１上に、シリコン基板（半導体チップ）２４上に再配線３０を設けてなる複数の半導体構成体２２を接着する。 - 特許庁 - More particularly in this liquid crystal display device, a wiring pattern having two or more resistors varying in wiring width produced by using a portion of the wiring is formed between the pair of the wiring for external connection on the lower substrate.
特に、この液晶装置では、下側基板上の一対の外部接続用配線の間にはその一部を用いて作製された配線幅の異なる２つ以上の抵抗体を有する配線パターンが形成されている。 - 特許庁 - Then, when the user sets the contact part of the electrode, the master machine 3 transmits a necessary program to the slave machine according to the setting and the slave machine applies the current of an output pattern according to the program to the electrode.
その際、ユーザが電極の接触部位の設定を行うと、その設定に応じて親機３から必要なプログラムが子機に転送され、子機はそのプログラムに応じた出力パターンの電流を電極に流す。 - 特許庁 - Designation information of template information, corresponding to a template display pattern selected by the user among displayed template display patterns designates which of valid automatic start or invalid automatic start is discriminated.
表示された各テンプレート表示パターンのうち、ユーザにより選択されるテンプレート表示パターンに対応するテンプレート情報の指定情報が自動スタートの有効および無効のどちらを指定しているか、判定される。 - 特許庁 - To achieve further precision increase by considering not only difference in dot pattern but difference in output density gradation characteristic of an image forming apparatus, in technology of predicting toner consumption based on a halftone image.
ハーフトーン画像に基づいてトナー消費量を予測する技術において、ドットパターンの違いだけでなく画像形成装置の出力濃度階調特性の違いを考慮することによりさらなる高精度化を実現する。 - 特許庁 - On this pattern, a regular triangle of a side length 2D and a hexagon which surrounds this triangle and adjoins the side of adjacent hexagon are imagined and separately connected to separate exciting wirings 22-1, 22-2.
このパターン上で一辺が２Ｄの正三角形と、この正三角形を取り囲み隣接する六角形と辺を接する六角形とを想定し、前者と後者とを別々の励振用配線２２−１，２２−２に接続する。 - 特許庁 - An encoding controller 5 detects the change of the GOP structure from the GOP analyzed result, and sets the parameter such as the encoding bit rate and GOP pattern of the re-encoder 3 according to the detected GOP structure.
符号化制御器５はＧＯＰ解析結果からＧＯＰ構造の変化を検出し、検出したＧＯＰ構造に合わせて再符号化器３の符号化ビットレート及びＧＯＰパターン等のパラメータを設定する。 - 特許庁 - An ink jet method is applied to deliver color inks of red R, green G, and blue B by ink jet devices to opening parts 11 of an ink-repellent partition pattern 2 formed on transparent substrate 1.
透明基板１上に形成された撥インキ性を有する隔壁パターン２の開口部１１にインクジェット法を適用しインキジェット装置４により赤色Ｒ，緑色Ｇ，青色Ｂの着色インキを吐出する。 - 特許庁 - To provide a check pattern for wet etching which can determine the proper and improper condition of wet etching in a short period of time with higher accuracy when contact holes are selectively formed in an insulation film provided on a semiconductor substrate.
半導体基板上に設けた絶縁膜に選択的にコンタクトホールを形成する際に、ウェットエッチングの良否判定を短時間かつ、精度良く行うことができるウェットエッチング用チェックパターンを提供する。 - 特許庁 - To solve such problems that cooling of the connected mold/disk to room temperature prior to separation results in difficulty of the separation and damages to the imprinted pattern produced in a resist film during the separation.
連結したモールド／ディスクを分離する前に、それらを室温まで冷却すると、分離が困難であること、ならびにレジスト膜に生じたインプリント・パターンを分離中に損傷することなどの問題が発生しうる。 - 特許庁 - Since G signals are arranged in checkered pattern and spatially distributed uniformly in every direction in a mosaic arrangement 231, interpolation of G can be carried out precisely in demosaic processing at the time of all pixel reading.
モザイク配列２３１は、Ｇ信号が市松上に配置され、空間的に縦横方向に均等に分布しているので、全画素読み出し時におけるデモザイク処理で、精度良くＧの補間処理を行うことが可能となる。 - 特許庁 - To provide a plasma-etching method which controls usage of highly corrosive processing gas, and forms a pattern of a desired shape with high precision, and to provide a plasma-etching apparatus and a computer storage medium.
腐食性の高い処理ガスの使用を抑制することができるとともに、所望形状のパターンを精度良く形成することのできるプラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びコンピュータ記憶媒体を提供する。 - 特許庁 - Light emitted from the rear surface 4a of the semiconductor light emitting element 4 is subjected to wavelength conversion by the wavelength conversion material in the transparent resin 3, and the light subjected to wavelength conversion is reflected on the pattern 2a of the lead frame 21.
半導体発光素子４の裏面４ａから発する光は、透明樹脂３中の波長変換材料で波長変換され、この波長変換された光がリードフレーム２１のパターン２ａで反射される。 - 特許庁 - The photomask is manufactured by forming a resist pattern by photolithography on the film of the photomask blank manufactured by the above method, etching to remove a part of the film not covered with the resist, and then removing the resist.
又、この方法で製造されたフォトマスクブランクの膜上にフォトリソグラフィ法にてレジストパターンを形成した後、エッチング法にて膜のレジスト非被覆部分を除去し、次いでレジストを除去することを特徴とする。 - 特許庁 - This adjustment procedure is incorporated into a series of device initialization setting procedures to automatically detect/set an optimum amount of equalization in individual pattern wiring, thereby making manual setting able to omit.
この調整手順を一連の装置初期設定手順に組み込み、個々のパタン配線に対する最適な等化量を自動的に検出・設定することにより、人手を介した設定を省略することを可能にする。 - 特許庁 - The deviated frequency spectrum is inputted to a sorting neural network 23 to sort the distribution pattern of the frequency spectrum obtained as an output from the learning vector quantization means 22 and evaluate the quality of the object.
偏移後の周波数スペクトルは、分類用ニューラルネットワーク２３に入力され、学習ベクトル量子化手段２２の出力として得られる周波数スペクトルの分布パターンが分類され、対象物の品質が評価される。 - 特許庁 - A plurality of bumps 42 formed in the semiconductor device 40 and the ceramic layer 30a (serving for a varistor element) of the ceramic varistor 3 are connected by a conductor wire 121 pattern-formed on the resin layer 120.
半導体装置４０に形成された複数のバンプ４２、及びセラミックバリスタ３のセラミック層３０ａ（バリスタ素子として機能する。）は、樹脂層１２０上にパターン形成された導体線１２１によって接続されている。 - 特許庁 - Even when the performance is inputted from the pedal board at the time other than the prescribed fixed time, the accompaniment sound is generated on the basis of the corresponding note on event in the accompaniment pattern data in spite of the performance input.
上記所定の固定時間外に、前記足鍵盤から演奏入力があったとしても、その演奏入力に拘わらず、伴奏パターンデータ中の対応するノートオンイベントに基づいて伴奏音を発生させる。 - 特許庁 - A metal film 15 made of a light shielding material such as Cr is formed on the outer face of the photomask body 4 and etched by forming fine openings by a photolithographic method to form a pattern layer 5 to manufacture a photomask 3.
フォトマスク本体４の外面にＣｒなどの遮光性材料から成る金属膜１５を形成し、フォトリソグラフィ法によって微細な開口を形成してエッチングし、パターン層５を形成してフォトマスク３を製造する。 - 特許庁 - A bonding pad structure according to the present invention includes one of more insulator film patterns and/or conductive via patterns provided inside a region limited by the circumferential edge of a related main conductive film pattern.
本発明に従うボンディングパッド構造は、関連された主要な導電膜パターンの周縁によって限定される領域内部に提供された一つ又はそれ以上の絶縁膜パターン及び／又は導電ビアパターンを含む。 - 特許庁 - In the method of manufacturing an electrode substrate, an electrode pattern is formed on a substrate by an intaglio offset printing method by combining the conductive paste for intaglio offset printing with a blanket having a surface layer formed of silicone rubber.
電極基板の製造方法は、前記凹版オフセット印刷用導電ペーストを、表面層がシリコーンゴムで形成されたブランケットと組み合わせて、凹版オフセット印刷法によって、基板上に電極パターンを形成する。 - 特許庁 - The irregular pattern-forming coating material is used in a resin coated metallic plate and comprises an aliphatic saturated hydrocarbon having a boiling point of higher than the normal temperatures and lower than the decomposition temperature of the coating resin.
樹脂塗装金属板に用いられる塗料であって、常温より高く、塗料樹脂の分解温度よりも低い沸点を示す脂肪族飽和炭化水素を含有する凹凸模様形成用塗料である。 - 特許庁 - By consuming the excessive toner in forming a pattern latent image at adjusting the surface potential of the photoreceptor, the surface potential of the photoreceptor can be controlled, and also, the toner concentration can be adjusted.
この過剰なトナーを、感光体表面電位の調整の際に作像するパターン潜像において消費することにより、感光体表面電位制御を行ないながらトナー濃度の調整を行なうことができる。 - 特許庁 - To provide a solvent or solvent composition for pattern printing of a solar cell, an organic thin film transistor, electronic paper or an organic electroluminescence device, which ensures high solubility of a resin additive such as a binder resin and has low hygroscopicity.
バインダー樹脂等の樹脂添加物の溶解性が高く、吸湿性が低い太陽電池、有機薄膜トランジスター、電子ペーパー、又は有機エレクトロルミネッセンスデバイスのパターン印刷用溶剤又は溶剤組成物を提供する。 - 特許庁 - In the stamper used as a die for pattern transfer, at least the outermost surface of each projecting part is formed of a material 110 having no crystalline peak in X-ray diffraction.
パターン転写の型として用いられるスタンパであって、少なくともそのスタンパの凸部最表面を、Ｘ線回折において結晶性ピークを有していない材料１１０で形成することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁 - To provide a reflection type photomask blank, reflection type photomask, and a method and a device for inspecting the same, which improve accuracy of pattern inspection of a reflection type photomask and reduce the time needed for the inspection.
反射型フォトマスクのパターン検査の精度が向上するとともに、検査に要する時間を短縮することのできる反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、その検査方法及び検査装置を提供する。 - 特許庁 - The projection optical system which projects a pattern of a first object on a second object has a birefringence correction means, which corrects the birefringence property of the optical element included in the projection optical system.
第１物体のパターンを第２物体上に投影する投影光学系において、該投影光学系はそれに含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正する複屈折補正手段を有していること。 - 特許庁 - A cell composed of a diffraction grating is used as the minimum unit to constitute an image, and the display pattern consisting of a (first) segment group is formed by arranging the pixels into almost stripes or matrix.
画素を構成する最小単位として回折格子からなるセルを用い、表示パターンについて、略ストライプ状または略マトリクス状に画素を配列して（第１の）セグメント群からなる前記パターンを形成する。 - 特許庁 - Since by only controlling the injection current I decreases the influence of the speckled pattern position on the semiconductor laser 101, the influence restricting its layout can be decreased to improve the degree of design flexibility.
単に注入電流Ｉの制御だけでスペックルパターンの影響を低減できる半導体レーザ１０１は、その配置に制約を受ける影響を小さくでき、設計の自由度の向上を図ることができる。 - 特許庁 - The auxiliary pattern is a metal layer formed on the substrate, made of one of an indium tin oxide and molybdenum, and comprises a metal layer formed on the substrate and an insulating film formed on the metal layer.
補助パターンは、基板上に形成された金属層であり、インジウムスズ酸化物及びモリブデン中の一つからなり、また基板上に形成された金属層及び金属層上に形成された絶縁膜からなる。 - 特許庁 - This catalyst for producing the polyester comprises a solid titanium compound obtained by dehydrating and drying a titanium hydroxide and having ≤50% crystallinity calculated from an X-ray diffraction pattern within the range of 18-35° 2θ (angle of diffraction).
チタン水酸化物を脱水乾燥することにより得られ、２θ（回折角度）が１８°〜３５°の範囲にあるＸ線回折パターンから算出した結晶化度が５０％以下である固体状チタン化合物からなる。 - 特許庁
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