「Pattern」を含む例文一覧(50000)

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  • BREAK PATTERN OF SILICON WAFER, SILICON SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE BREAK PATTERN
    シリコンウェハーのブレークパターン、シリコン基板、及び、ブレークパターンの作製方法 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD FOR ARTIFICIAL MARBLE HAVING BOTH GRAIN PATTERN AND STRIPE PATTERN
    粒柄とストライプ柄の両方を有する人工大理石の製造方法 - 特許庁
  • METHOD FOR FORMING PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PATTERN AND ELECTRONIC ELEMENT HAVING THE PATTERN
    感光性ポリイミドパターンの形成方法及び該パターンを有する電子素子 - 特許庁
  • a certificate that has signatures radiating out from the center in a circular pattern much like the pattern of the spokes of an umbrella
    一つの円を中心に放射状に連署した証文 - EDR日英対訳辞書
  • Return the subset of the list of names that match pattern.It is the same as [n for n in names if fnmatch(n, pattern)], but implemented more efficiently.New in version 2.2.
    pattern にマッチする names のリストの部分集合を返します。 - Python
  • An optical pattern controller 115 supplies an optical pattern to a collimator 140.
    光パターンコントローラ１１５は、コリメータ１４０に光パターンを供給する。 - 特許庁
  • PATTERN FORMING MATERIAL, DEVICE AND METHOD FOR PATTERN FORMING
    パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 - 特許庁
  • METHOD FOR EVALUATING MICROSCOPIC PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELEMENT HAVING MICROSCOPIC PATTERN
    微細パターンの評価方法、微細パターンを有する素子の製造方法 - 特許庁
  • COATING LIQUID FOR PATTERN FORMING BODY AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN FORMING BODY
    パターン形成体用塗工液およびパターン形成体の製造方法 - 特許庁
  • STRIPED PATTERN IMAGE DETERMINATION DEVICE, STRIPED PATTERN IMAGE DETERMINATION METHOD, AND PROGRAM
    縞模様画像鑑定装置、縞模様画像鑑定方法及びプログラム - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD OF CONTAINER HAVING PATTERN, AND CONTAINER HAVING PATTERN OBTAINED BY IT
    模様付容器の製法およびそれによって得られる模様付容器 - 特許庁
  • DECOMPOSABLE RESIN COMPOSITION, PATTERN-FORMING MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD
    分解性樹脂組成物、パターン形成材料およびパターン形成方法 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING PATTERN FORMATION MEMBER, AND PATTERN FORMATION MEMBER
    パターン形成部材の検査方法及び装置、並びにパターン形成部材 - 特許庁
  • Also, the pattern accuracy of the mask pattern is reverse calculated from the design margin M.
    また、この設計マージンＭからマスクパターンのパターン精度を逆算する。 - 特許庁
  • PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD AND PATTERN USING THE SAME
    光重合性組成物、それを用いたパターン形成方法およびパターン - 特許庁
  • RESIN COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN, AND METHOD OF FORMING FINE PATTERN
    微細パターン形成用樹脂組成物および微細パターン形成方法 - 特許庁
  • COATING DEVICE FOR FORMING SPOT PATTERN AND COATING METHOD FOR SPOT PATTERN
    斑点模様を形成する塗装装置および斑点模様の塗装方法 - 特許庁
  • Prior to lamination of a DFA layer 6 on a single-line pattern 3 and a solid pattern 4, only the solid pattern 4 is etched, and the thickness of the solid pattern 4 is made smaller than that of the line pattern 3.
    ＤＦＡ層６を単独線パターン３およびベタパターン４上にラミネートする前に、ベタパターン４のみをエッチングして、ベタパターン４の厚さを単独線パターン３の厚さよりも薄くする。 - 特許庁
  • The reinforcing pattern 150 comprises element patterns consisting of a main pattern and pattern arms extending from the main pattern which couple together via their pattern arms.
    ここで、補強パターン１５０は、パターン主部とこのパターン主部から延在したパターン腕部とからなる要素パターン同士が互いに相互のパターン腕部で連結したものから構成される。 - 特許庁
  • Then a real-time correction pattern generation section 106 generates a correction pattern corresponding to the fixed pattern noise generated by a fixed pattern detection section 104 to correct the fixed pattern noise.
    そして、固定パタン検出部１０４によって検出された固定パタンノイズに応じた補正パタンをリアルタイム補正パタン生成部１０６において生成し、固定パタンノイズを補正する。 - 特許庁
  • A PN pattern generating section 12 generates a consecutive PN pattern P1 sequentially from a predetermined initial value, and a particular pattern generating section 12 generates the particular pattern P2 to be inserted to the PN pattern P1.
    ＰＮパターン発生部１２は定められた初期値から順に連続したＰＮパターンＰ１を発生し、特定パターンはＰＮパターンＰ１に挿入する特定パターンＰ２を発生する。 - 特許庁
  • To provide a Pachinko game machine capable of displaying a judgment pattern or a pattern displayed on a pattern display device with diversified pattern fluctuation and executing a clear and realistic pattern display.
    図柄表示装置に表示される判定図柄や図柄を多様化した図柄変動でもって表示し、鮮明且つ現実的な図柄表示が実施できるパチンコ遊技機を提供すること。 - 特許庁
  • In the exposure mask having a mask pattern to be transferred onto a substrate by means of the projection optical system of the aligner, the mask pattern includes a pattern group consisting of a main pattern and an assist pattern.
    露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクにおいて、マスクパターンは、メインパターンとアシストパターンとから構成されるパターン群を含む。 - 特許庁
  • Pattern recognition of a partial written stroke pattern of an input character from a stroke pattern input unit is performed by referring to a pattern recognition dictionary by a stroke pattern recognition unit, and recognized candidate characters are outputted.
    ストロークパタン認識部でパタン認識辞書を参照しストロークパタン入力部からの入力文字の部分筆記ストロークパタンのパタン認識を行い、認識候補文字を出力する。 - 特許庁
  • In the printed wiring board having a surface layer pattern, an internal layer pattern and a through-hole for connecting the surface layer pattern and internal layer pattern, the testing pad is disposed at a position for connecting the through-hole and pattern.
    表層パターンと、内層パターンと、表層パターンと内層パターンを接続するスルーホールとを備えたプリント配線板であって、前記スルーホールとパターンとの接続部位にパッドを設けた。 - 特許庁
  • When a main control part 201 chooses the parent pattern and the child pattern, it outputs a command (variation pattern command) which shows the selected parent pattern and child pattern to a production control part 202.
    主制御部２０１は親パターンおよび子パターンを選択すると、選択された親パターンおよび子パターンとを示すコマンド（変動パターンコマンド）を演出制御部２０２に対して出力する。 - 特許庁
  • Then, the first special pattern (first performance pattern Y1) has basically been specialized to a pattern for carrying out a pre-decision performance of the second special pattern (second performance pattern Y2).
    そして、第１特別図柄（第１演出図柄Ｙ１）に関しては、基本的には第２特別図柄（第２演出図柄Ｙ２）の先判定演出を行うための図柄に特化させている。 - 特許庁
  • After a variation pattern type is determined using a variation pattern type determination table, the variation pattern is determined based on the variation pattern type using the variation pattern determination table.
    加えて、変動パターン種別決定テーブルを用いて変動パターン種別を決定した後、その変動パターン種別に基づき、変動パターン決定テーブルを用いて変動パターンを決定する。 - 特許庁
  • The control pattern 16 includes a first control pattern 22 and a second control pattern 24, where the first control pattern 22 is arranged closer to the organic film 12 than the second control pattern 24.
    制御パターン１６は、第１制御パターン２２及び第２制御パターン２４を含み、第１制御パターン２２が第２制御パターン２４よりも有機膜１２の近くに配置されている。 - 特許庁
  • To provide a method for forming pattern data for lithography which forms light exposure pattern data and a charge particle drawing pattern data by separating a pattern suitable for light exposure and a pattern inadequate for the same.
    光露光に適したパターンと、不適切なパターンを分離して光露光パターンデータと荷電粒子描画パターンデータを生成するリソグラフィ用パターンデータ生成方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming material having high sensitivity and excellent developability and giving a high resolution pattern, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method.
    高感度で、現像性に優れ、高解像度なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁
  • A design pattern or a pattern of design template for use in pattern matching is weighted so that a region of low reliability pattern and a region of high reliability pattern can be discriminated.
    パターンマッチングに使用するデザインパターン又はデザインテンプレートのパターンに重みを付し、信頼性の低いパターンの領域と信頼性の高いパターンの領域を重みにより区別可能にする。 - 特許庁
  • An auxiliary pattern is then so formed that the pattern shape after exposure is nearly equaled to the design pattern with respect to the sorted gate pattern in an auxiliary pattern forming stage ST04.
    次に、補助パターン生成工程ＳＴ０４において、選別されたゲートパターンに対して、露光後のパターン形状が設計パターンとほぼ同等となるように補助パターンを生成する。 - 特許庁
  • A load pattern setting part 411 sets one of a fixed load pattern, a variable load pattern and an intrinsic load pattern that are stored in a load pattern memory 43 in advance every circuit of a distribution board.
    負荷パターン設定部４１１は、分電盤の回路毎に、負荷パターン記憶部４３に予め記憶された一定負荷パターン、変動負荷パターン、固有負荷パターンのいずれかを設定する。 - 特許庁
  • Then, when the same pattern, i.e., the pattern '7' for instance, is displayed and established both at the left pattern display column 110 and the right pattern display column 150, the ready-to-win pattern array is formed.
    そして、左図柄表示列１１０と右図柄表示列１５０に同じ図柄、例えば図柄「７」が表示されて確定すると、リーチ図柄配列が形成されることとなる。 - 特許庁
  • In this case, the dither pattern storage section 32 stores a dither pattern with low resolution as a yellow (Y) dither pattern and stores a dither pattern with high resolution as dither patterns other than the yellow (Y) dither pattern.
    この場合、ディザパターンバッファ３２にはイエロー（Ｙ）のディザパターンとして低解像度のディザパターンが記憶され、イエロー（Ｙ）以外のディザパターンとして高解像度のディザパターンが記憶されている。 - 特許庁
  • Mino Shoinshi was made while being decorated with beautiful watermark patterns such as a dappled pattern, key pattern, chrysanthemum arabesque pattern, oval-ring pattern, and hexagonal pattern, and used for paper-covered lamp stands, garden lanterns, and so forth, besides shoji.
    美濃紋書院紙では、鹿子(かのこ)・紗綾形・菊唐(から)草・七宝・亀甲(きっこう)などの美しい紋様が漉き込まれ、障子以外にも行灯や灯籠などにも用いられた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • The correction pattern is generated according to a calculated value of the size (a correction pattern generating part 50) and a corrected layout pattern is generated by adding the correction pattern to a design layout pattern (a graphic calculating part 52).
    その計算値に従って補正パターンを生成し（補正パターン生成部５０）、その補正パターンを設計レイアウトパターンとを加算して補正済レイアウトパターンを生成する（図形演算部５２）。 - 特許庁
  • Firstly, a first image pattern (input pattern 1) and a second image pattern (input pattern 2) are subjected to logical operation, so that a third image pattern is generated as a resulting image of the logical operation.
    まず、第１の画像パターン（入力パターン１）と第２の画像パターン（入力パターン２）とが論理演算されて、第３の画像パターンが、論理演算の結果画像として生成される。 - 特許庁
  • The reference pattern image includes an upper limit pattern image 50 having a different upper limit brightness in each gray area in the pattern and a lower limit pattern image 51 having a different lower limit brightness in each gray area in the pattern.
    基準パターン画像は、パターンの濃淡域毎に上限の輝度が異なる上限パターン画像５０と濃淡域毎に下限の輝度が異なる下限パターン画像５１とを含む。 - 特許庁
  • To make the pattern widths of an isolated process pattern and a dense process pattern, obtained by trimming a resist mask comprising the isolated resist pattern and dense resist pattern and then patterning a layer to be processed, to agree with each other.
    孤立レジストパターンと密集レジストパターンを含むレジストマスクをトリミングし、被加工層をパターニングして得られる孤立加工パターンと密集加工パターンのパターン幅を一致させる。 - 特許庁
  • An expected value pattern of a pattern memory 17 is dispersed along an unoccupied lateral direction (tester channel direction) to be brought into a pattern long sideways, in order to prevent the expected value pattern of the pattern memory 17 from getting abnormally long vertically.
    パターンメモリ１７の期待値パターンが異常に縦長となるのを防止するため、空いている横方向（テスタチャネル方向）に期待値パターンを分散して、横長のパターンとする。 - 特許庁
  • Further, the retrieved partial type face is converted into a bit pattern of the bit-map size, and the resultant bit pattern is compared with the set bit pattern to refer to the degree of matching between the resultant bit pattern and the set bit pattern (S207).
    さらに、検索された部分字形を上記ビットマップサイズのビットパターンに変換し、これと、上記設定したビットパターンと比較して両者の整合度を参照する（Ｓ２０７）。 - 特許庁
  • In an exposure mask having a mask pattern which is to be transferred onto a substrate by a projection optical system of an exposure apparatus, the mask pattern contains a pattern group comprising a main pattern and an assist pattern.
    露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクにおいて、マスクパターンは、メインパターンとアシストパターンとから構成されるパターン群を含む。 - 特許庁
  • PATTERN SEARCH METHOD AND APPARATUS
    パターンサーチ方法及びパターンサーチ装置 - 特許庁
  • PATTERN RECOGNIZING DEVICE AND ITS METHOD
    パターン認識装置及びその方法 - 特許庁
  • PATTERN VARIABLE DISPLAY DEVICE OF GAME MACHINE
    遊技機の図柄可変表示装置 - 特許庁
  • METHOD FOR ESTIMATING SHAPE OF RESIST PATTERN
    レジストパターン形状の推定方法 - 特許庁
  • TEST PATTERN BOARD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER
    カラーフィルタ製造用テストパターン基板 - 特許庁
  • TRANSPARENT RESIN COMPOSITION AFFORDING INTERFERENCE PATTERN
    干渉模様透明樹脂組成物 - 特許庁
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