「Pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 798 799 800 801 802 803 804 805 806 .... 999 1000 次へ＞- To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, roughness properties and temporal stability and enables to form a pattern of good configuration, and to provide a pattern forming method using the same.
感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To prevent an increase in pattern defects even when repeatedly using a work stamper to be used for transferring a pattern onto a resist formed on a recording surface of a magnetic recording medium by an imprinting method, thereby reducing the manufacturing cost of the magnetic recording medium.
磁気記録媒体の記録面に形成されるレジストにインプリント法によりパターン転写する際に使用されるワーク用スタンパを繰り返し使用してもパターン欠陥の増加を抑制し、磁気記録媒体の製造コストを低減すること。 - 特許庁 - To provide a light projector which scans a light beam while controlling the intensity of the light beam and projects an accurate pattern even when the scanning angle range of a scanner varies when forming a pattern by the intensity variation of light on a face to be projected.
光線の強度を制御しながら光線を走査し、光の強弱によるパターンを投影面に形成するときに、走査装置の走査角度範囲が変化しても正確なパターンを投影できる光投影装置を提供する。 - 特許庁 - The plurality of the second light sources P2 are arrayed in a second array pattern different from the first array pattern so that an in-plane luminous distribution can be uniform at a prescribed height when the second light source group only is lighted as a whole.
複数の第２の光源Ｐ２は、第２の光源グループのみを全体的に点灯させた場合に所定の高さでの面内輝度分布が一様となるように、第１の配列パターンとは異なる第２の配列パターンで配列する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a substrate having an electronic circuit, in which a conductive pattern can be formed on the substrate in a stable manner while being image deletion of the pattern suppressed, by a simple method using a DNA or DNA-lipid complex.
ＤＮＡ又はＤＮＡ−脂質複合体を用いた簡易な方法により、基板上に導電性パターンを、画像流れを抑制しながら安定して形成できる電子回路付き基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Using of the pattern can reduce an exposure step or a development step in a process for forming a conductive pattern (a gate wiring or a source wiring) and reduce the amount of used materials, and remarkable cost reduction can be achieved.
前記パターンを用いることより、導体パターン（ゲート配線、またはソース配線など）を形成するプロセスにおいて、露光工程や現像工程などが短縮でき、材料の使用量の削減も図れるため大幅なコストダウンが実現できる。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition having high solubility in a safe solvent, high sensitivity and giving a favorable resist pattern profile, and to provide a method for manufacturing the composition and a method for forming a resist pattern using the radiation-sensitive composition.
安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、良好なレジストパターン形状を与える感放射線性組成物、その製造方法および該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The displacement measuring apparatus as one aspect includes a scale 7 in which a grating pattern 6 is formed, a light source for irradiating the scale 7 with light, and a light-receiving element for receiving light diffracted by the grating pattern 6 of the scale 7.
本発明の一側面としての変位測定装置は、格子パターン６が形成されたスケール７と、スケール７に光を照射する光源と、スケール７の格子パターン６で回折された光を受光する受光素子と、を備える。 - 特許庁 - The surface of the pattern is coated with an aqueous solution 6 of a modification material containing a crosslinking agent that permeates into the pattern and can carry out crosslink with the resist resin component by an action of an acid, and a permeation promoter that promotes the permeation of the crosslinking agent.
次に、その表面に、パターン内に浸透し、酸の作用下でレジスト樹脂成分と架橋反応を行い得る架橋剤と、その浸透を促進する浸透促進剤とを含有する改質材水溶液６を被着させる。 - 特許庁 - By contrast, when pattern images Spy to Spk are to be formed on a sheet S in response to the instruction of the main control section 40, the image forming control section 46 does not perform deviation correction in the process of forming a pattern image.
これに対して、画像形成制御部４６は、メイン制御部４０からの指示に応じて用紙Ｓにパターン画像Ｓpy〜Ｓpkを形成する場合は、パターン画像の形成に際して片寄り補正を実施しないこととしている。 - 特許庁 - To provide a technique for an evaporative pattern and a method for manufacturing a casting, which facilitates a sand fill work performed when embedding the evaporative pattern into a sand mold and also improves quality (casting quality) of a molten casting product.
該消失模型を砂型内に埋設する際の砂込め作業を容易にしつつ、鋳造された鋳物の品質（鋳造品質）を向上させるための、消失模型および鋳物の製造方法の技術を提供することを課題とする。 - 特許庁 - At the time, the period for variably displaying the special symbols is the addition of a period represented by a master pattern selected from master patterns P1-P7 and a period represented by a slave pattern selected from slave patterns p1-p8.
このとき、特別図柄を変動表示させる期間は、親パターンＰ１〜Ｐ７から選択された選択された親パターンが示す期間と、子パターンｐ１〜ｐ８から選択された選択された子パターンが示す期間とを加算した期間とする。 - 特許庁 - A category identification part 405 identifies one display pattern group from the display pattern groups memorized in the memory part 404 based on the information about the prize-winning categories acquired by the category information acquisition part 403.
種類特定部４０５は、種類情報取得部４０３によって取得された当たりの種類に関する情報に基づいて、記憶部４０４に記憶されている表示パターン群の中から、一の表示パターン群を特定する。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, roughness characteristics and aging stability and enables formation of a pattern of a good shape, and to provide a pattern forming method using the same.
感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern of a metal oxide thin film using a precursor solution, which is capable of improving the light application sensitivity without improving any nature of a raw material solution, and improving any disturbance of a pattern form by the development.
原料溶液の性質を改善をすることなく、光照射感度を向上し、現像によるパターン形状の乱れを改善し得る、前駆体溶液を用いた金属酸化物薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a variable display printed matter that makes visible a printed image for variable view or a printing design and pattern and has a high decoration effect for uniquely changing the image or the design and pattern.
可変視用の印刷画像もしくは印刷図柄・模様が見えるようにした可変表示印刷物において、画像もしくは図柄・模様に独自の変化を与えることができる加飾効果に優れる可変表示印刷物を提供すること。 - 特許庁 - A photosensitive organic system insulating film which serves as a second protection layer is formed on the Ga oxide film, the portion which matches a channel region in the photosensitive organic system insulating film is made to be a pattern, the portion other than that is made to be a non-pattern.
Ｇａ酸化物膜上に第２の保護層となる感光性有機系絶縁膜を形成し、感光性有機系絶縁膜においてチャネル領域に整合する部分をパターン部とし、それ以外の部分を非パターン部とする。 - 特許庁 - In the case of a ready-to-win state variation pattern in a special state A before reaching the defined number of times of variations, or in the case of a variation pattern in a special state B at which the defined number of times of the variations has been reached, mode fall drawing is performed.
規定変動回数に達する前の特殊状態Ａにおいてリーチ変動パターンである場合、または規定変動回数に達した特殊状態Ｂの変動パターンである場合には、モード転落抽選をおこなう。 - 特許庁 - The thin film 120a of the pattern A and the thin film 120b of the pattern B are laminated and adhered alternately to obtain the optical element having a three-dimensional refractive index periodic structure with refractive index varying according to a change in the crystal structure.
パターンＡの薄膜１２０ａとパターンＢの薄膜１２０ｂを交互に積層して接合することにより、結晶構造の変化により屈折率が変化する３次元屈折率周期構造を有する光学素子が得られる。 - 特許庁 - To correctly extract a ruled line even if a shadow is present in a shading image or the density difference between the ruled line and a background is low, and to correctly extract a necessary pattern when the pattern is extracted from a multiple image.
濃淡画像に影があったり、罫線と背景の濃度差が少ないような場合であっても、正確に罫線を抽出することと、多値画像からパターンを抽出する際に、必要なパターンを正確に抽出することが課題である。 - 特許庁 - The respective metal layers 105 and 107 between them are made to have nearly the same density of a pattern in an optical black area 400 as that of a pattern in an effective pixel area 300.
半導体部材１０１と保護膜１０８との間に配置された各金属層１０５、１０７において、オプティカルブラック領域４００内のパターンの密度と有効画素領域３００内のパターンの密度とを略同一にする。 - 特許庁 - An IC card case 3 covering the periphery of an IC card 7 is composed of conductors such as metal and attached to a ground pattern 2 provided on a substrate 1 by using a fixing screw 4 so that its entire peripheral face can be brought into contact with the pattern 2.
ＩＣカード７の周りを覆うＩＣカードケース３は、金属等の導体によって構成され、基板１上に設けられたグランドパターン２に固定ネジ４を用いてその周囲全面で接触するように取り付けられている。 - 特許庁 - A material ID determination part 133 obtains a material ID 902 corresponding to the failure pattern and a command 903 to be executed to collect it in reference to a related information table 144 by the extracted failure pattern.
資料ＩＤ決定部１３３は、抽出した障害パターンにより関連情報テーブル１４４を参照して、前記障害パターンに対応する資料ＩＤ９０２と、それを収集するために実行すべきコマンド９０３を取得する。 - 特許庁 - To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has good line width roughness (LWR) performance and forms a pattern with suppressed application defects, and to provide a pattern forming method using the same.
ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能が良好であり、且つ塗布欠陥が抑制されたパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - A changing unit 302 changes the variation pattern table to be set by the setting unit 301 to a special variation pattern table having the variation time different from the variation time in normal time by changing the game state during the special mode.
変更部３０２は、特別モード中には、遊技状態を変更することにより、設定部３０１に設定される変動パターンテーブルを、通常時の変動時間とは異なる変動時間を有する特殊変動パターンテーブルに変更する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition having high solubility in a safe solvent and high sensitivity, and ensuring a good resist pattern shape, and also to provide a method for producing the same, and a resist pattern forming method using the radiation-sensitive composition.
安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、得られるレジストパターン形状が良好な感放射線性組成物、その製造方法、および該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In addition, the image reading apparatus utilizes an distinctive color range common for the both surfaces as a distinctive color range which defines a color about a distinguishing pattern required for processing for determining whether a distinguishing pattern is included in images on the both surfaces.
また画像読取装置は、両面の画像に特徴パターンが含まれているかを判定する処理に必要な、特徴パターンの色を規定する特徴色範囲として、両面で共通の特徴色範囲を使用する。 - 特許庁 - To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method and a resist film using the same, which form a pattern satisfying high sensitivity, high resolution and favorable line width roughness at the same time.
高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネスを同時に満足するパターンを形成することが可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法並びにレジスト膜の提供。 - 特許庁 - To provide a sewing machine capable of finding the location of an embroidery pattern on a sewing object by use of the image photographing the sewing object even when a size of the embroidery pattern exceeds the photographic range of a photographing means.
刺繍模様の大きさが撮影手段の撮影範囲を超える場合であっても、刺繍模様の縫製対象物上の配置を、縫製対象物を撮影した画像を利用して確認することができるミシンを提供すること。 - 特許庁 - An image processing circuit 34a extracts the projection pattern within an image from the CCD 24a, computes the size of the projection pattern, and computes the distance from the infrared light emission end to the observed region and the irradiation angle to the observed region.
画像処理回路３４ａは、ＣＣＤ２４ａからの画像内の投影パターンを抽出し、その大きさを算出して、赤外光の出射端から被観察部位までの距離、および被観察部位への照射角度を算出する。 - 特許庁 - To further enhance removal efficiency of particles or the like in a substrate processing method and apparatus for subjecting the substrate surface to physical cleaning in a state that a pattern is structurally reinforced by solidifying liquid entering gaps of the pattern.
パターンの間隙内部に入り込んだ液体を凝固させることでパターンを構造的に補強した状態で基板表面を物理洗浄する基板処理方法および装置において、パーティクル等の除去効率をさらに高める。 - 特許庁 - To provide a printed wiring board assembly in which countermeasures are taken to minimize fire spread of pattern wiring due to tracking between different poles of the circuit wiring pattern or solder crack in soldering of lead portions of electronic components.
プリント配線板アセンブリにおいて、回路配線パターンの異極間トラッキングや電子部品のリード部の半田付けでの半田クラックを起因として発生するパターン配線の延焼を、最小限に低減可能な対策を提供する。 - 特許庁 - The electrocasting master having a concave and convex pattern comprises a substrate having a conductive area on at least one main surface, and a convex pattern layer which is formed on the conductive area of the one main surface and consists of microcrystal, polycrystal, amorphous, or the oxide thereof.
凹凸パターンは、少なくとも一方の主面に導電性領域をもつ基板と、一方の主面の導電性領域上に形成された、微結晶、多結晶、アモルファスまたはその酸化物からなる凸パターン層とを有する。 - 特許庁 - The first dielectric film 13 is stacked in the lower electrode 12 and is constituted of a ferroelectric pattern having a processing edge face 13a which practically coincides with a processing edge face 12a of a conductor pattern constituting the lower electrode 12.
第１の誘電膜１３は、下部電極１２に積層され、下部電極１２を構成する導電体パターンの加工端面１２ａと実質的に一致する加工端面１３ａを有する強誘電体パターンにより構成される。 - 特許庁 - To provide a thin-film conductor pattern which can be made without etching an ITO film, and its manufacturing method, and provide a wiring structure object equipped with the thin-film conductor pattern and a planar heater.
ＩＴＯ膜に対してエッチングを行うことなく作製できる薄膜状導体パターンおよびその製造方法を提供すること、その薄膜状導体パターンを備えた配線構造物および面状ヒーターを提供することにある。 - 特許庁 - For example, when linear defective patterns 1, 2 and cursor patterns 3, 4 are superimposed, a linear defect is easily distinguished from the cursor or the background picture because the linear defective pattern is superimposed through parts where the cursor pattern is cut off.
例えば、線欠陥パターン１、２とカーソルパターン３，４を重ね合わせたときに、カーソルパターンが切れている部分を通して、線欠陥パターンを重ね合わせることができるために、線欠陥とカーソルまたは背景画面との区別がつきやすい。 - 特許庁 - This focusing device includes a liquid crystal lens holding a liquid crystal layer between a pattern electrode group and a common electrode, and a controller for switching voltage applied to the pattern electrode group to form a refractive index distribution in the liquid crystal layer.
合焦点装置は、パターン電極群と共通電極とで液晶層を挟持する液晶レンズと、パターン電極群に印加する電圧を切り替えて液晶層に屈折率分布を形成する制御コントローラとを備える。 - 特許庁 - In a step for forming a laminate 18, an alignment pattern 14a that can be visually recognized through an area 24 exposing along two continuous peripheries 26a, 26b on the upper surface of the laminate 18 is formed as a conductor pattern.
積層体１８を形成する工程において、積層体１８の上面の連続する二つの周辺２６ａ，２６ｂに沿って露出した領域２４を介して視認されるアライメントパターン１４ａを導体パターンとして形成する。 - 特許庁 - To provide a processing method of a prism pattern having a high accuracy groove shape which method includes restraining the falling of the shape accuracy of a groove processed part due to tool wearing in the cutting processing of a roll mold for film transferring and molding having the prism pattern.
プリズムパターンを有するフィルム転写成形用のロール金型の切削加工において、工具摩耗による溝加工部の形状精度低下を抑止し、高精度な溝形状を有するプリズムパターンの加工方法を提供する。 - 特許庁 - The forming method of a circuit pattern includes (1) a step to apply the aforementioned composition on a substrate, (2) a step to expose the photosensitive composition to light and then to develop, and (3) a step to perform wet etching of the substrate by using the pattern as a resist.
回路パターン形成方法は、（１）基板上に上記感光性組成物を塗布する工程、（２）上記感光性組成物にパターン露光した後現像する工程、（３）該パターンをレジストとして基板をウエットエッチングする工程を含む。 - 特許庁 - To provide a resin product for preventing a decrease in a quality of its appearance by simply manufacturing the product without restriction in a place for forming a pattern, and holding the once formed pattern in a substantially the same state for any length of time.
模様を施す場所の制約を受けることがなく簡単に製造でき、しかも一度施した模様を何時までもほぼ同じ状態に保つことができ、外観品質が低下するのを防止できる樹脂製品を提供する。 - 特許庁 - To provide a device and a method capable of inspecting minute foreign matter or a pattern flaw formed during a manufacturing process at a high speed with high precision in the device manufacturing process for forming a circuit pattern on a substrate such as a semiconductor device or the like.
半導体デバイス等の基板上に回路パターンを形成するデバイス製造工程において、製造工程中に発生する微小な異物やパターン欠陥を、高速で高精度に検査できる装置および方法を提供すること。 - 特許庁 - An update part 105 selects a signal control pattern to be used in the time zone from the plurality of signal control patterns stored in the storage part 103 and updates the pattern on the basis of the traffic index acquired by the communication part 102.
更新部１０５は、通信部１０２で取得した交通指標に基づいて、当該時間帯で使用する信号制御パターンを記憶部１０３に記憶した複数の信号制御パターンの中から選択して更新する。 - 特許庁 - The TFT 108 further includes a polycrystalline semiconductor film 14 that is formed and patterned on the SiO film 13 in contact with the SiO film 13 in such a way that all pattern ends are located in close proximity to pattern ends of the SiO film 13.
さらに、ＴＦＴ１０８は、ＳｉＯ膜１３上においてＳｉＯ膜１３に接し、全てのパターン端がＳｉＯ膜１３のパターン端近傍に配置されるようにパターニング形成された多結晶半導体膜１４を有する。 - 特許庁 - Summary of the life pattern on an evaluation day is carried out on the basis of the time series data on the evaluation day sent by the dwelling system 10 via the network 14, and summary of the typical life pattern is carried out.
また、住居システム１０によりネットワーク１４を介して送信された評価日における時系列データに基づいて評価日における生活パターンの要約を行なうと共に導出された典型的生活パターンの要約を行なう。 - 特許庁 - When a user puts a work on a support table and take the picture of the work by a camera, a pattern formed on the work is displayed overlapping with hole guide lines L1 and L2 and a pattern guide line L3 already displayed on the screen of a display part.
ユーザがワークを支持台に載せ、そのワークをカメラで撮影すると、ワークに形成されたパターンが、表示部の画面上に既に表示されている抜き穴案内線Ｌ１，Ｌ２およびパターン案内線Ｌ３に重ねて表示される。 - 特許庁 - By applying the washing treatment of a wafer W on which the pattern is formed while using a two-fluid nozzle 7 for forming mist M by mixing a pressed gas and a washing liquid, particles can be removed without damaging the pattern.
加圧された気体と洗浄液とを混合してミストＭを形成する２流体ノズル７を用いて、パターン形成された基板Ｗの洗浄処理を施すことで、パターンに損傷を与えることなくパーティクルを除去することができる。 - 特許庁 - To provide detergent for lithography capable of suppressing the CD shift and the deterioration of cross-sectional perpendicularity without hindering the effect of the surfactant for preventing pattern collapse, and a method for forming a pattern using this detergent.
界面活性剤によるパターン倒れの防止効果を阻害することなく、ＣＤシフト及び断面垂直性の低下を抑制する、リソグラフィー用洗浄剤及びこの洗浄剤を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To solve the problem that a highly precise measurement result cannot be obtained owing to distortion of a measured image caused by drifting in measurement of a pattern shape and a pattern arrangement in nanometer order in the fields of semiconductor and storage having further increasing demands in the future.
今後更なる需要が高まる半導体やストレージ分野におけるナノメートルオーダーでのパターン形状・パターン配列の測定において、ドリフトによる測定像の歪みにより高精度な測定結果を得ることができない。 - 特許庁 - An antistatic mold 11 having a low conductivity is stuck to the outer peripheral part of the sealant 2 so as to traverse a wiring pattern connecting a first electrode 6a and a terminal 7a and a wiring pattern connecting a second electrode 6b and a terminal 7b.
第１電極６ａと端子７ａをつなぐ配線のパターン及び第２電極６ｂと端子７ｂをつなぐ配線パターンを横切るように、シール材２の外周部分に弱導電性の帯電防止モールド１１を付着させる。 - 特許庁
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