「Pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 976 977 978 979 980 981 982 983 984 .... 999 1000 次へ＞- Subsequently, the formed resist film 102 is irradiated with an exposure light comprising extreme ultraviolet light in a selective manner to achieve pattern exposure.
続いて、形成されたレジスト膜１０２に、極紫外線からなる露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。 - 特許庁 - In the electronic element 4, SG (Signal Ground) is performed by face connection to the ground pattern 5 in addition to pin connection, and ESD resistance improves.
電子素子４は、ピン接続に加え、接地パターン５への面接続により信号接地ＳＧ（Signal Ground）が行われ、ＥＳＤ耐性が向上する。 - 特許庁 - To provide a liquid immersion lithographic apparatus that prevents an adverse effect on pattern image quality due to existence of bubbles in immersion liquid.
液浸露光装置において、液浸用液体中に気泡が存在し、パターン像の品質に有害な影響が生じることを防止する。 - 特許庁 - To carry out transfer with efficiency improved in a transfer system for transferring a minute transfer pattern formed in a mold to a molded article.
型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写システムにおいて、従来よりも効率良く転写をする。 - 特許庁 - To provide an immersion lithographic apparatus that improves a stability of meniscus to control pattern defects caused by bubbles in an immersion liquid or the like.
メニスカスの安定性を向上させて、液浸液中の気泡などによるパターン欠陥を低減する液浸リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition which enables to form a pattern having excellent line edge roughness (LER) and mask error factor (MEF).
優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - A joint material 1 of three-dimensional net body is disposed in each joint 16 that is located between panels 14 laid in a grid pattern on a base course 12.
路盤１２上に碁盤目状に敷設されたパネル１４間の目地１６内に、立体網状体の目地材１が配置されている。 - 特許庁 - As a result, electromagnetic noise occurrence pattern can be estimated without recourse to any expert with knowledge of electromagnetic noise or expensive measuring device.
これにより、電磁ノイズの知識を有した専門家や高価な測定器を用いずに、電磁ノイズの発生パターンを推定することができる。 - 特許庁 - To securely detect a work mark without misdetection even when an image of a pattern formed on a work has a low contrast.
ワークに形成されたパターンの画像のコントラストが低い場合であっても、ワークマークを誤検出なく確実に検出できるようにすること。 - 特許庁 - Then, a threshold of a dither matrix is set so that the highest threshold is arranged in the shape of the detected blank pattern (S210).
そして、最も高いしきい値が、検出した空白パターンの形に配置されるようにディザマトリクスのしきい値を設定する（Ｓ２１０）。 - 特許庁 - To provide a substrate treatment method and a substrate treatment apparatus that can effectively suppress the collapse of a pattern on the surface of a substrate.
基板表面のパターンの倒壊を効果的に抑制することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - The determination part 10 discriminates an ultraviolet emission pattern of the bill 2 on the basis of the electric signals to determine authenticity of the bill 2.
判定部１０は、当該電気信号に基づいて、紙幣２の紫外線発光パターンを識別し、紙幣２の真偽判定を行う。 - 特許庁 - To perform proper processing of the substrate by previously changing a process gas supply periodic pattern which may adversely affect the processing result.
プロセス結果に悪影響を及ぼす処理ガス供給周期パターンを予め変更しておき、基板に対する適切な処理を行う。 - 特許庁 - To change the pattern of a frame, the effect of a slide show and BGM etc., later in an image display device like a digital photo frame.
デジタルフォトフレームのような画像表示装置において、額縁の模様、スライドショーの効果、ＢＧＭなどを後から変更可能とする。 - 特許庁 - To provide a conductive paste enabling formation of an address electrode superior in acid resistance and a conductive pattern superior in acid resistance.
耐酸性に優れたアドレス電極を形成することが可能な導電ペースト、及び耐酸性に優れた導電パターンを提供する。 - 特許庁 - An optical anisotropic layer 105 showing a birefringent effect is provided on an alignment layer having alignment regions with different alignment directions in a lattice pattern.
格子状に異なる方向の配向領域を有する配向層上に複屈折効果を示す光学異方性層１０５を設ける。 - 特許庁 - To provide a polymer for a resist composition excellent in exposure margin (EL) and focus margin (DOF) on forming a resist pattern.
レジストパターンを形成する際の露光マージン（ＥＬ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）に優れるレジスト組成物用の重合体を提供する。 - 特許庁 - A Ti film 101 of a pattern in which a square is arranged in a shape of a triangular lattice is formed on a substrate 100 consisting of SiO_2.
ＳｉＯ_2 からなる基板１００上に、正方形が三角格子状に配列されたパターンのＴｉ膜１０１を形成した。 - 特許庁 - In the image forming apparatus, a toner pattern is detected by a color shift detection sensor 27, by detecting the duration of contact between the development roller 3 and the photosensitive drum 1.
現像ローラ３と感光ドラム１との当接時間を、トナーパターンを色ずれ検知センサ２７で検出することにより検知する。 - 特許庁 - An output part 16 outputs the first and second registers detected by the pattern matching part 15 as redundant circuit information.
出力部１６は、パターンマッチング部１５により検出された第１及び第２のレジスタを冗長回路情報として出力する。 - 特許庁 - A gate pattern which crosses the active region and whose ends extend onto the element isolation insulating film is formed on the semiconductor substrate.
半導体基板の上に、活性領域と交差し、両端が素子分離絶縁膜の上まで延在するゲートパターンが形成されている。 - 特許庁 - To obtain a density distribution mask which can form a pattern giving the exposure value for a region in which a low amount of exposure is obtained with high resolution.
低露光量を得る領域において、その露光量を与えるパターンを、高い解像度で形成できる濃度分布マスクを得る。 - 特許庁 - This structure produces moire depending on the intensity, color, or the like of light incident on the many lines 12a, which can be visualized as a pattern.
この構成によれば、多数の線１２ａに入射した光の強度、色等に対応してモアレが生じて模様として視認される。 - 特許庁 - To rapidly inspect shape defects in a minute pattern on a magnetic recording medium, formed from patterned media, that is an object of inspection.
被検査対象であるパターンドメディアからなる磁気記録媒体の微細なパターンの形状欠陥を高速で検査できるようにする。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE TO MANUFACTURE OPTICAL DISK PATTERN SHEET, METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL DISK RECORDING LAYER SHEET, AND OPTICAL DISK
光ディスク用パターンシートの製造方法および製造装置、光ディスク用記録層シートの製造方法、および光ディスクの製造方法 - 特許庁 - To obtain a ink jet plotter which can plot a figure or a pattern widely on the surface of a recording medium using a short linear encoder scale.
短いリニアエンコーダスケールを用いて、被記録媒体表面に図形、模様等を幅広く描くことのできるインクジェットヘッドプロッタ得る。 - 特許庁 - A silicon carbide substrate of (11-20) face is prepared and a mask material having a mask pattern of specified shape is formed on the silicon carbide substrate.
（１１−２０）面の炭化珪素基板を用意し、炭化珪素基板の上に所定形状のマスクパターンを有するマスク材を形成する。 - 特許庁 - This makes it possible to composite mapping images on arbitrary elements whether or not any light-and-shade pattern exists in the overlapping portion.
これにより、オーバーラップ部分に濃淡パターンが存在するか否かに拘わらず、任意の元素のマッピング像の合成が高い精度で行える。 - 特許庁 - To provide a printing correction method for photographing with a digital camera a printing correction test pattern printed by a printer, and generating data for printing correction.
プリンタが印刷した印刷補正テストパターンをデジタルカメラで撮影し、印刷補正のデータを生成する印刷補正方法を提供する。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT BOARD FOR SEMICONDUCTOR PACKAGE
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び半導体パッケージ用回路基板の製造方法 - 特許庁 - A pattern layer 11, comprising a plurality of trenches 12, is formed in the grinding surface (protective region 10b) of the silicon wafer 10.
また，シリコンウェハ１０の研削面（保護領域１０ｂ）内には，複数本のトレンチ１２からなるパターン層１１が形成されている。 - 特許庁 - Little laser beam 11, which forms the hole 12, reaches the diode 2 since it is reflected and absorbed in the metal film pattern 3.
孔１２を形成するレーザ光１１は、金属膜パターン３によって反射および吸収されるので、ダイオード２に殆ど達しない。 - 特許庁 - An authentication data transmission means 1d transmits an authentication data 5, including the biometric pattern 3 to an authentication server 2 via a network 10.
認証データ送信手段１ｄは、生体パターン３を含む認証データ５をネットワーク１０を介して認証データサーバ２に送信する。 - 特許庁 - To reduce the load of processing of a main control substrate and at the same time to enhance the degree of freedom of processing of a pattern control substrate.
主制御基板の処理の負担を軽減化すると共に、図柄制御基板の処理の自由度を高めることを目的とする。 - 特許庁 - The picture frame pattern is arranged on the entire surface outside the display region on the array substrate except for at least a part of the seal.
この額縁パターンは、シールの少なくとも一部を除き、アレイ基板における表示領域の外側全面に亘って設けられている。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device for achieving a fine-pitch pattern and improving stability in patterning precision.
微細ピッチのパターンを実現可能であってパターニング精度の安定性を向上できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The heat of the control base plate 50 is transmitted to the body 71 through the conductor pattern 52a and the pin 72 and released from the body 71.
制御基板５０の熱は、導体パターン５２ａおよびピン７２を介して本体７１に伝導し、その本体７１から放熱する。 - 特許庁 - To provide a pattern arrangement method and a manufacturing method for a reticle and a semiconductor device which improve the production yield of the semiconductor device.
半導体装置の製造歩留りを向上しうるパターン配置方法、レチクル、及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - ArF excimer laser is cast on a reticle 16 to transfer a pattern on the reticle 16 onto a wafer 25 through the projection optical system 23.
ＡｒＦエキシマレーザをレチクル１６に照射して、レチクル１６上のパターンを投影光学系２３を介してウェハ２５上に転写する。 - 特許庁 - To provide a laser beam machining device having high degree of freedom of a processing pattern, where the improvement in use efficiency of readout light can be attained.
読み出し光の利用効率の向上を図ることができると共に、加工パターンの自由度の高いレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁 - A voltage detecting printed board also employs an annular wire formed of a through hole and a pattern wire, and brings about an identical effect.
電圧検出用プリント基板もスルーホールとパターン配線によって形成されたリング状の配線を用いるので、同様の効果がある。 - 特許庁 - A patterning part fills a template pattern with the resist on the substrate, and the resist is cured, and after that, a release process is performed.
また、パターニング部は、テンプレートパターンに前記基板上のレジストを充填させて前記レジストを硬化させ、その後、離型処理を行なう。 - 特許庁 - Then, the image of a pattern which is formed on a mask 3 is projected on the resist 2 by using an excimer laser stepper, and the resist 2 is exposed (b).
そして、エキシマレーザステッパを使用して、マスク３に形成されたパターンの像を、レジスト２上に投影してレジスト２を感光させる（ｂ）。 - 特許庁 - A pattern is generated that corresponds to a desired unexposed region formed by irradiating a resist with exposure light through a photomask.
フォトマスクを介して露光光をレジストに照射することによって形成される所望の非感光領域と対応するパターンを作成する。 - 特許庁 - At the time of applying an SOG film, the dummy pattern 18 blocks undue movement to the memory cell region side caused by film fluidity.
このダミーパターン１８は、ＳＯＧ膜塗布時、その膜流動性によりメモリセル領域側に過剰に移動しようとするのを塞き止める。 - 特許庁 - A connection terminal 11c and pattern wirings 11a, 11b connected to a semiconductor substrate 20 are formed in the circuit substrate 10.
回路基板１０には、半導体装置２０と接続される接続端子１１ｃやパターン配線１１ａ，１１ｂが形成されている。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition for color filters capable of forming a pattern and comprising C.I. Solvent Orange 56 and a photoacid generator.
パターンを形成しうるＣ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ５６と光酸発生剤とを含むカラーフィルタ形成用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - In a pattern definition device (102) to be used for an exposure system, a beam of charged particles is patterned via a plurality of devices.
露光装置に使用するためのパターン規定デバイス（１０２）において、帯電粒子のビームが複数の装置を介してパターン化される。 - 特許庁 - In addition, the sheet does not require an irradiation process and a thermosetting process to the resist ink layer after thermal transfer and enables an etching process to be performed immediately after the formation of a resist ink pattern.
前記熱転写シートは、基材の上にスチレンマレイン酸系樹脂を主成分とするレジストインク層が設けられたものである。 - 特許庁 - Then the battery is charged by adjusting the current value so that the temperature rise value may match the temperature rising pattern (S118 and S120).
そして、温度上昇値が温度上昇パターンになるように電流値を調整しながら電池を充電する（Ｓ１１８，Ｓ１２０）。 - 特許庁
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