「Patterns」を含む例文一覧(21401)

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  • The input patterns of recognition objects are stored in the input patterns storage areas of the memories in respectively PE.
    同様に認識対象の入力パターンを各ＰＥのメモリの入力パターン格納領域に格納する。 - 特許庁
  • The key of the electronic musical instrument comprises an uneven pattern including a plurality of surface patterns continuously arranged so that each pattern has a discontinuous pattern, and linear patterns generated between the plurality of surface patterns.
    凹凸模様を、互いの模様パターンを不連続にして連続に配置される複数の面模様と、複数の面模様間に生じる線模様で構成した。 - 特許庁
  • This electron drawing is performed by using a partial end batch plotting method through the use of the repeated units of contact patterns 11 as main patterns.
    コンタクトパターン１１の繰り返し単位を主パターンとし、部分一括描画方法を用いて描画する。 - 特許庁
  • In the error process ER3, rocking fluctuations of stop patterns are implemented after the fluctuation time of special patterns elapses.
    このエラー処理ＥＲ３では、各特別図柄の変動時間経過後に停止図柄で揺れ変動を実行する。 - 特許庁
  • To support software development by systematically applying analysis patterns and design patterns and properly and efficiency reusing the patterns at the time of developing object-oriented software.
    オブジェクト指向ソフトウェアの開発にあたり、分析パターン、設計パターンなどを体系的に適用して、パターンを適切、かつ効率的に再利用可能とし、ソフトウェア開発を支援する。 - 特許庁
  • The optical sheet includes a base film, prism patterns formed on an upper surface of the base film and first embossing patterns.
    光学フィルムは、ベースフィルムと、ベースフィルムの上面に形成されたプリズムパターンと、第１凹凸パターンとを含む。 - 特許庁
  • A pair of length measurement patterns is formed in the dicing line 12 to interpose the center line between the patterns.
    また、ダイシングライン１２内に、その中心線を間に挟むようにして対をなす測長パターンを形成する。 - 特許庁
  • To obtain a pair of basic patterns with which a pair of paper patterns can easily be made in a dressmaking work.
    洋裁における１組の型紙の作成を容易に行うことのできる１組の基本的原型を得る。 - 特許庁
  • The first patterns 11_1, 11_2, and the like are connected via the second patterns 21_1, 21_2, and the like, and two-circuit winding is formed.
    第１パターン１１_１，１１_２…は第２パターン２１_１，２１_２…を介して接続され２回路の巻線が形成される。 - 特許庁
  • A first resist frame is formed in the patterns corresponding to the patterns of the metallic films on a base 110.
    支持体１１０の上に、金属膜のパターンに対応したパターンで、第１のレジストフレーム４１０を形成する。 - 特許庁
  • To improve throughput and dimensional precision, in the case of forming a resist pattern in which isolated hole patterns and dense hole patterns coexist and the hole pitches of the dense hole patterns are minute.
    孤立ホールパターンと密集ホールパターンとが混在し且つ密集ホールパターンのホールピッチが微細であるレジストパターンを形成する際のスループット及び寸法精度を向上させる。 - 特許庁
  • Since the second resist patterns are irradiated with electron beams, the second resist patterns are crosslinked and cured.
    形成された第二レジストパターンに電子線を照射するので、この第二レジストパターンが架橋されて硬化する。 - 特許庁
  • The sacrificial layers are removed to expose the first and second mask patterns and the substrate between the first and second mask patterns.
    前記犠牲膜を除去して前記第１および第２マスクパターンと共にその間の前記基板を露出させる。 - 特許庁
  • The patterns KP for inspection consisting of plural linear patterns Pa to Pe periodically formed in correspondence to the prescribed line widths in the circuit patterns for actual exposure are formed.
    実露光用の回路パターンにおける所定の線幅に対応して周期的に形成される複数の線状パターンＰａ〜Ｐｅからなる検査用パターンＫＰを形成する。 - 特許庁
  • Next, metallic patterns 32 having prescribed patterns are formed from the metallic film 31 by photolithography and etching.
    次に、フォトリソグラフィとエッチングとにより、金属膜３１から所定のパターンを有する金属パターン３２を形成する。 - 特許庁
  • The encryption patterns of (b) successively apply three kinds of the encryption patterns P1 to P3 varying in the encryption ratios to the data.
    （ｂ）の暗号化パターンは、暗号化比率の異なる３種類の暗号化パターンＰ１〜Ｐ３を順次適用する。 - 特許庁
  • To form a pattern within limits of lithography by effectively using a side wall machining process even for various fine hole patterns having random patterns in addition to periodic patterns.
    周期性パターンに加えてランダムなパターンを有する種々の微細ホールパターンに対しても、側壁加工プロセスを有効に利用してリソグラフィの限界以下のパターンを形成する。 - 特許庁
  • The two patterns extracted for each chip by the above way are combined to generate 2^n ways of extracting patterns, and data demodulation processing is performed for each of the extracting patterns.
    以上のようにしてチップ毎に抽出した２つのパターンを組み合わせて２^ｎ通りの抽出パターンを生成し、各抽出パターンに対してデータ復調処理を行う。 - 特許庁
  • The control means performs the continuous output particularly in detecting the resist patterns and the intermittent output in detecting the density patterns.
    特にレジストパターン検出の場合には連続出力、濃度パターン検出の場合には間欠出力を行う。 - 特許庁
  • A plurality of detection patterns corresponding to intrusion patterns are preliminarily prepared, and the detection patterns are switched dynamically as need by an investigation information collection controller 2.
    予め侵入パターンに応じた複数の検出パターンを準備しておき、捜査情報収集制御装置２により必要に応じてその検出パターンを動的に切替える。 - 特許庁
  • To form fine patterns under the same exposure conditions without depending on shapes or denseness degrees of patterns.
    パターンの形状又は密集度合いに依存することなく、同一の露光条件で微細パターンを形成する。 - 特許庁
  • A ROM 6 stores a plurality of output patterns and a plurality of command signals corresponding to the output patterns.
    ＲＯＭ６は、複数の出力パターンと、その出力パターンに応じた複数のコマンド信号とを記憶する。 - 特許庁
  • To provide a method for forming the patterns of a semiconductor device to improve the uniformity of a gap between patterns with different widths when forming the patterns in the same layer.
    互いに異なる幅のパターンを同一層で形成するにあたり、パターン間の間隔の均一度を改善することができる半導体素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • In the case that edge patterns judged as those of objects are present among detected edge patterns, a control part 110 basically extracts the patterns as obstructions.
    検出されたエッジパターンのうち、対象物であると判別されるパターンが存在する場合、制御部１１０は、基本的に当該パターンを障害物として抽出する。 - 特許庁
  • Grooves 120B are formed to winding coils 120A having spiral winding patterns so as to traverse the patterns.
    螺旋状の巻線パターンを有する巻線コイル１２０Ａに、このパターンを横切るように溝１２０Ｂを形成した。 - 特許庁
  • In the case of decoding, a character having the highest correlation of bit patterns out of the bit patterns stored in the database 227 is selected.
    復号化の場合にはデータベース２２７内のビットパターンの中で最も相関の高いキャラクタを選択する。 - 特許庁
  • The capacitor C11 consists of capacitor patterns 55, 56 and the capacitor C12 consists of capacitor patterns 67, 68.
    キャパシタＣ１１はキャパシタパターン５５，５６にて構成され、キャパシタＣ１２はキャパシタパターン６７，６８にて構成されている。 - 特許庁
  • Further, for sychronous patterns contained in at least the first and second synchronous signals, the patterns of low similarities are supplied.
    更に、少なくとも第１、第２の同期信号に含まれる同期パターンは互いに相似度の低いパターンを与える。 - 特許庁
  • To correct the dependence on the crude density of line widths depending upon the distances between the patterns of fine processing patterns using a phase shift.
    位相シフトを用いた微細加工パターンのパターン間距離に依存した線幅の疎密依存性を補正する。 - 特許庁
  • Consequently, some patterns having a good index value can be selectively used, so that the generation of patterns is suppressed.
    よって、指標値が良好な一部のパターンを選択的に使用できるので、模様の発生が抑制される。 - 特許庁
  • Second mask patterns are formed between the sacrificial layers adjacent to sidewalls of the first mask patterns facing each other.
    前記第１マスクパターンの向い合う側壁と隣接した前記犠牲膜との間に第２マスクパターンを形成する。 - 特許庁
  • Thereafter, the photoresist patterns are heated and melted to make convex microlens patterns for transfer, and the microlenses are formed by whole area dry etching and transferring of the microlens patterns for transfer.
    その後、フォトレジストパターンを熱溶融させて凸面状の転写用マイクロレンズパターンとし、全面ドライエッチングを行って、転写用マイクロレンズパターンを転写してマイクロレンズを形成する。 - 特許庁
  • Many patterns for the samurai class are those with a well-ordered sense of formality in the genealogy of yusoku-monyo such as kumo-tatsuwaku (mountain-shaped curves with clouds), takarazukushi-ichimatsu (checkers with various treasures), kogara-fushicho (small patterns of butterflies lying flat) and kiku-kikko (tortoiseshell patterns with chrysanthemums).
    武家好みには、雲立涌、宝尽し市松、小柄伏蝶、菊亀甲のような有職紋様の系譜の整然とした堅い感性のものが多い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • In the latter part of the sixteenth century, the model that used seven ridged patterns in a single unit was adopted as if to fill the gap between the ridged patterns.
    16世紀後半になると7本1単位の擂り目を隙間を埋め尽くすかのように施すようになる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • Then, the layout as mentioned above is developed into patterns, and therefore when a wash room is designed, one layout is selected from the patterns.
    前記各レイアウトをパターン化し、洗面所の設計にあたって前記パターンの中から選択して設計する。 - 特許庁
  • The background color in the pattern display region 40 is also set in the color scheme patterns and is selected and set from the color scheme patterns.
    模様表示良領域４０の背景色も配色パターンに設定されており、選択設定される。 - 特許庁
  • A plurality of sets of black patterns are formed in an area of the surface of the transfer belt including spaces between lines of color patterns.
    カラーパターン列の間隔部分を含む転写ベルト上の領域に、黒色パターンを複数セット形成する。 - 特許庁
  • Also, 24.4%of enterprises that keep patterns for 0-2 years and 15.9%of enterprises that keep patterns for 11 or more years responded that they "have documented agreements" regarding the storage period for patterns.
    また、型の保管期間の「取り決めがあり書面化されている」企業の割合は、保管期間0～2年の企業では24.4％、保管期間11年以上の企業では15.9％となった。 - 経済産業省
  • The drops given to the respective fixed dot-like patterns 61 extend outward without being away from the patterns 61 while centering the patterns 61 as nucleus, and the patterns 61 join with each other by the drops extending outward by using the patterns 61 as nucleus.
    固定された各ドット状パターン６１の上に着弾した液滴は、該ドット状パターン６１から離れることなく同ドット状パターン６１を核として外に拡がり、固定された孤立したドット状パターン６１同士がそれらドット状パターン６１を核として外に広がった液滴にて繋がる。 - 特許庁
  • When prescribed time elapses, the respective patterns successively stop.
    各図柄は所定時間が経過すると、順次停止する。 - 特許庁
  • To draw minute patterns without formation of partitions, etc.
    隔壁等を設けることなく微細パターンを描画する。 - 特許庁
  • MOISTURE ABSORBING AND EMITTING SYNTHETIC FIBER CLOTH HAVING TRANSPARENT PATTERNS
    透かし模様を有する吸放湿性合成繊維布帛 - 特許庁
  • This printed board has an insulating board 51 and wiring patterns 21 and 22.
    絶縁基板５１と，配線パターン２１，２２とを有する。 - 特許庁
  • ADAPTIVE ANTENNA DEVICE AND METHOD FOR SETTING TRANSMITTING AND RECEIVING PATTERNS
    アダプティブアンテナ装置及び送受信パターン設定方法 - 特許庁
  • The patterns of the interlocking are variously settable.
    ここでの連動のパターンは種々に設定可能である。 - 特許庁
  • Two stripe patterns are stored in a frame memory 110.
    ２つのストライプパターンがフレームメモリ１１０に記憶される。 - 特許庁
  • In the method, utilization patterns of the clients are discovered.
    本方法では、クライアントの利用パターンが発見される。 - 特許庁
  • This inner product calculation is conducted for all patterns.
    この内積計算は、すべてのパターンに対して行われる。 - 特許庁
  • The lead part 14 has plural linear patterns.
    引き出し部１４は、たとえば複数の線状パターンである。 - 特許庁
  • The method for manufacturing semiconductor devices further includes a step of manufacturing the thickened resist patterns by forming the resist patterns on an underlayer and then applying the thickening material on the surfaces of the resist patterns thereby thickening the resist patterns, and a step of patterning the underlayer by etching using the thickened resist patterns.
    下地層上にレジストパターンを形成後、該レジストパターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該レジストパターンを厚肉化し厚肉化レジストパターンを製造する工程と、該厚肉化レジストパターンを用いてエッチングすることにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁
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