「Process」を含む例文一覧(50000)

<前へ 1 2 .... 643 644 645 646 647 648 649 650 651 .... 999 1000 次へ>
  • When it is detected that the loaded process cartridge is not new after the used one is unloaded or after image forming action is stopped according to the residual amount of a developer in the process cartridge, information to be printed on the life of the process cartridge is outputted.
    プロセスカートリッジが取り外された後、あるいは、プロセスカートリッジの現像剤の残量によって画像形成動作が中止した後、取り付けられたプロセスカートリッジが新品ではないことを検知すると、プロセスカートリッジの寿命に関する印字情報を出力する。 - 特許庁
  • Additionally, the temporary placing process may include a temporary placed jig installation process for placing the temporary placed jig 14 to hung down from above the reactor pressure vessel 1 on the top guide 2, and a process for hoisting the in-reactor equipment, using a temporary placed jig 14 to place it on the top guide 2.
    さらに、仮置き工程は、原子炉圧力容器の上部から吊り下ろした仮置き治具14を上部格子板に設置する仮置き治具設置工程と、炉内機器を吊り上げて仮置き治具を用いて上部格子板に設置する工程と、を含んでもよい。 - 特許庁
  • using a process protected by the patent or offering such process for use in this country if he knows or if it is evident from the circumstances that the use of the process is prohibited without the consent of the proprietor of the patent
    特許によって保護されている方法を,特許所有者の同意を得ることなく使用することが禁止されていることを知っているか又はそれが状況から明白であるにも拘らず,フィンランドにおいて使用するか又は使用させる申出をすること - 特許庁
  • The CPU 2 also transmits message information (11c) stored in a wParam format (11) from a transmission process to a reception process, receives response information and closes a handle when response transmission to the message (11c) comes from the reception process.
    また、CPU2は、送信プロセスから受信プロセスへwParamフォーマット11内に格納されたメッセージ情報11cを送信し、当該メッセージ情報11cに対する受信プロセスからの応答送信があれば、当該応答情報を受信し、ハンドルをクローズする。 - 特許庁
  • The glass powder is produced by successively carrying out a process for dissolving a glass compound in a solvent, a process for forming liquid drops by spraying the dissolved glass compound and a process for melting the glass compound dissolved in the liquid drops to vitrify.
    溶媒にガラス化合物を溶解する工程と、前記溶解されたガラス化合物を噴霧して液滴を形成する工程と、前記液滴に溶解しているガラス化合物を溶融してガラス化する工程とを順次行うことで、ガラス粉末を製造する。 - 特許庁
  • If the kernel of the OS 101 detects the occurrence of an unauthorized process by a normal application executed in a user-land space 132, the kernel reports the occurrence of the unauthorized process to the exception handler 133, after which the process 151 of the normal application is forcibly terminated.
    OS101のカーネルが、ユーザランド空間132で実行される通常アプリケーションによる不正な処理の発生を検知した場合、カーネルからエクセプションハンドラ133に、不正な処理の発生を通知して、その後、通常アプリケーションのプロセス151を強制終了する。 - 特許庁
  • To provide a plasma processing device capable of processing of high quality under process conditions in wider ranges by fixedly retaining the distance between a plasma region and a substrate even in the case in which process conditions such as process pressure and high-frequency output are different.
    プロセス圧力または高周波出力等のプロセス条件が異なる場合においても、プラズマ領域と基板との距離を一定に保つことにより、より広範囲のプロセス条件下で高品質の処理を可能とするプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
  • The manufacturing method includes a process of forming an inorganic film 302 on a semiconductor substrate 301, a process of forming on an intermediate film 303 containing silicon on the inorganic film 302, and a process of forming an organic film 304 containing fluorine on the intermediate film 303.
    半導体基材301上に無機膜302を形成する工程と、無機膜302上にシリコンを含有する中間膜303を形成する工程と、中間膜303上にフッ素を含有する有機膜304を形成する工程とを有する。 - 特許庁
  • The polishing process includes a first polishing process for performing height polishing while rotating the abrasive disc 81 at a first speed, and a second polishing process for performing finish polishing while rotating the abrasive disc 81 at a second speed sufficiently lower than the first speed.
    研磨工程は、研磨盤81を第1の速度で回転させながらハイト研磨を行う第1の研磨工程と、研磨盤81を第1の速度よりも十分に小さい第2の速度で回転させながら仕上げ研磨を行う第2の研磨工程とを含む。 - 特許庁
  • When lightweight concrete is manufactured through a dry mixing process S40 and a kneading process S50 by using artificial lightweight aggregate with a water content of 5% or below, correction water and kneading/mixing water are collectively charged in the kneading process S50 to reduce supply labor of water.
    含水率5%以下の人工軽量骨材を使用して、空練り工程S40、混練工程S50を経て軽量コンクリートを製造する場合に、補正水と練り混ぜ水とを、混練工程S50で一括投入することにより、水供給の手間を低減する。 - 特許庁
  • To provide a transparent gas barrier film excellent in gas barrier properties and also excellent in stress crack resistance and not deteriorated in gas barrier properties in a printing process, a lamination process and a bag making process all of which use the gas barrier film and various processes of the filling, preservation transport or the like content.
    透明で、ガスバリア性に優れ、フイルムを使用した印刷工程、ラミネート工程、製袋工程、さらには、内容物の充填、保存、輸送等の各種工程において、耐ストレスクラック性に優れ、かつ、ガスバリア性が劣化しないガスバリアフイルムを提供することにある。 - 特許庁
  • On the other hand, in the case that it is decided that the adhesion state is good in the decision process 12, degassing from the adhesive layer is carried out by heating an adhesion body at a temperature lower than that in the peeling process 13, at which the adhesive layer hardly foams, in a degassing process 14.
    一方、判別工程12で接着状態が良好にあると判別した場合には、ガス抜き工程14において、接着剤層が発泡し難い剥離工程13より低い温度で接着体を加熱して、接着剤層からガス抜きする。 - 特許庁
  • This drying method has a high-frequency-wave heating process of heating, with high-frequency waves, a wet fiber mat 1 in which fiber is impregnated with a resin as a binder, and a heater heating process of heating the mat with a heater after the high-frequency-wave heating process.
    繊維にバインダーとしての樹脂を含浸した湿潤状態の繊維マット1を、高周波によって加熱する高周波加熱工程と、該高周波加熱工程に次いでヒーターによって加熱するヒーター加熱工程とで乾燥することを特徴とする。 - 特許庁
  • This is to provide an improved version of a silicon wafer etching method in which an acid etchant and an alkaline etchant are individually stored in a plurality of tanks, and a silicon wafer having a process modified layer formed through a lapping process and a subsequent cleaning process is sequentially immersed in the acid etchant and the alkaline etchant.
    複数のエッチング槽に酸エッチング液とアルカリエッチング液をそれぞれ貯え、ラッピング工程に続いて洗浄工程を経た加工変質層を有するシリコンウェーハを酸エッチング液とアルカリエッチング液とに順次浸漬するシリコンウェーハのエッチング方法の改良である。 - 特許庁
  • This means to ensure the atomic property has a means to detect the interrupt of the other user process, a means to invalidate the operation of the one user process by utilizing a memory protecting function possessed by the OS, and a means to re-execute the one user process.
    このアトミック性を保証する手段は、他方のユーザプロセスの割り込みを検出する手段と、OSが有するメモリ保護機能を利用して、一方のユーザプロセスの操作を無効化する手段と、前記一方のユーザプロセスを再度実行する手段とを有している。 - 特許庁
  • Accordingly, a process of forming the infrared absorbing plate 5 and a process of sticking a first and second birefringent plates 2, 3 to the infrared absorbing plate 5 are united into one process and the manufacture of an optical low-pass filter 1 of a four-point separation type can be performed conveniently.
    したがって、赤外線吸収板5を形成する工程と、第1および第2複屈折板2,3と赤外線吸収板5とを貼り合わせる工程とが一つの工程にまとめられ、4点分離型光学ローパスフィルタ1の製造を簡便にできる。 - 特許庁
  • The manufacturing method comprises a process of forming a cylindrical drum 2 by welding the ends of the thin plates of marageing steel, a process of forming rings 4 by cutting the drum 2 into the specified width and for rolling the rings 4, and a process of performing the solution treatment in relation to the rolled rings 4.
    マルエージング鋼の薄板1の端部同士を溶接して円筒状のドラム2を形成する工程と、ドラム2を所定幅に裁断してリング4を形成し、リング4を圧延する工程と、圧延されたリング4に対する溶体化を行う工程とを備える。 - 特許庁
  • In a post-wafer-sorting stage of device manufacture, a plurality of flash memory devices which each include a flash controller die related to a common housing and at least one flash memory die are passed to a test process such as a batch test process or mass test process.
    デバイス製造のポスト・ウェファ・ソート・ステージ中に、共通ハウジングに関連づけられたフラッシュコントローラ・ダイおよび少なくとも一つのフラッシュメモリ・ダイを各々が含む複数のフラッシュメモリ・デバイスを、例えば、バッチ・テスト・プロセスまたはマス・テスト・プロセス等のテスト・プロセスへ通す。 - 特許庁
  • The production method comprises: a pointing process wherein the tip part of a base material tube made of a magnesium based alloy is subjected to pointing; a heat treatment process wherein the base material tube subjected to the pointing is heat-treated; and a drawing process wherein the base material tube subjected to the heat treatment is drawn.
    マグネシウム基合金からなる母材管の先端部に口付け加工を行う口付工程と、前記口付けされた母材管に熱処理を施す熱処理工程と、前記熱処理が施された母材管に引き抜き加工を施す引抜工程とを具える。 - 特許庁
  • The main display 200-1 is provided with a touch panel display 211, a screen display control process 212, screen control data 213, an operation lock control process 214, an operation right transfer condition table 215, an operation right management table 216, and a remote control process 217.
    主表示器200−1は、タッチパネルディスプレイ211と、画面表示制御プロセス212と、画面制御データ213と、操作ロック制御プロセス214と、操作権移行条件テーブル215と、操作権管理テーブル216と、リモート制御プロセス217とを備える。 - 特許庁
  • This method for producing the film-like food material includes a mixing process P1 of mixing a viscous substance-containing material 1 separated from the edible part of yam genus plants, and adhesive paste 2, and a forming process P2 of forming in a film-like form a mixture 3 obtained in the mixing process P1.
    ヤマノイモ属植物の可食部から分離された粘性物質含有材料1と、糊料2とを混合する混合過程P1と、混合過程P1により得られた混合物3をフィルム状に成形する成形過程P2とにより、フィルム状食材を得る。 - 特許庁
  • The variable information is printed not on a bag-shaped finished envelope, but on a sheet in a developed state before a bag making process in the course of an envelope manufacturing process, wherein the sheet is shaped into a bag, by providing a process of printing the variable information.
    袋状となった封筒の完成品に可変情報を印刷するのではなく、封筒製造工程中の袋状とする工程である製袋工程の前の展開状態の用紙に、可変情報の印刷工程を設け可変情報を印刷する。 - 特許庁
  • To drastically prolong the life of a cleanerless system and to efficiently prolong the life of process cartridge without adverse influence, in a process cartridge and an image forming device coping with a contact electrifying system, a cleanerless system, and an image forming device of a process cartridge attachable/detachable system.
    接触帯電方式、クリーナーレスシステム、プロセスカートリッジ着脱方式の画像形成装置に対応したプロセスカートリッジおよび該画像形成装置について、クリーナーレスシステムの寿命を大幅に伸ばし、プロセスカートリッジの寿命を弊害無く効率的に延ばす。 - 特許庁
  • To solve the conventional problem that a print post-process is perfectly separated from a print pre-process and a print process which are automated by using a job ticket, and maintenance by a different operation is needed in a POD system adapted to enhance the efficiency of work flow by the job ticket.
    印刷後工程はジョブチケットを用いることによって自動化された印刷前工程及び印刷工程から完全に分離されてしまっており、ジョブチケットによるワークフローの効率化を図るPODシステムにおいて別運用でメンテナンスしなければならない。 - 特許庁
  • The method is characterised by including a process of charging a raw material to a bag-shaped article, a process of sealing the bag-shaped article and a hardening process, and by using the bag-shaped article having an oxygen permeability of not more than 5 ml/(m^2 x day x atm).
    袋状物への原材料の投入工程、袋状物の密封工程、硬化工程を含むことを特徴とする樹脂成形物の製造方法であって、該袋状物としてはその酸素透過度が5ml/(m^2・day・atm)以下のものを用いる。 - 特許庁
  • To provide a highly accurate phosphor-powder-application process of a light-emitting diode capable of making an accurate pattern by an optical lithography process and capable of precisely controlling an application part and an amount of the phosphor powder, solving the problem of the conventional phosphor powder application process of the light-emitting diode.
    光リソグラフ処理によって精確なパターンを作り上げ、蛍光粉の塗布部分の形態や量を精確に制御できる高い精度の発光ダイオードの蛍光粉塗布工程を提供し、従来の発光ダイオードの蛍光粉塗布工程の問題点を解決する。 - 特許庁
  • This method has a resist pattern forming process (ST201-ST203) for forming a resist coat on a substrate by a prescribed optical pattern from a resist to be hardened by burning, and a burning process (ST204) for burning and hardening the resist pattern formed in the resist pattern forming process.
    焼成により硬化するレジストを所定光学パターンで基板上にレジストコートするレジストパターン形成工程(ST201〜ST203)と、前記レジストパターン形成工程で形成されたレジストのパターンを焼成して硬化させる焼成工程(ST204)と、を備える。 - 特許庁
  • A control process block 110 monitors the elapsed time after the point of time when an electronic document is sent to a certain node and automatically skips the electronic document to the transmission destination in the table 103 when the limit process time in the table 102 is reached without completing the process.
    制御処理ブロック110は、あるノードに電子化文書が送付された時点からの経過時間を監視し、処理完了がなされないまま、テーブル102の制限処理時間に達した場合等、テーブル103の送付先へ電子化文書を自動スキップする。 - 特許庁
  • A washing method comprises a process of removing the contaminants by injecting the dry ice or the like, a process of washing the washing tank by filling it with the liquid carbon dioxide and a process of separating and removing the contaminants from the liquid carbon dioxide and recovering it into the liquid tank 11.
    洗浄方法は、ドライアイス等を噴射して汚染物を除去する工程と、洗浄槽を液体二酸化炭素で満たして洗浄する工程と、液体二酸化炭素から汚染物を分離除去して液体タンク11に回収する工程とを含む。 - 特許庁
  • A 1st process of charging 1st resin 5 between device chips which are adjacent in one array direction of the device chips 1 and a 2nd process of coating the entire surfaces of the device chips 1 with 2nd resin 6 from above after the 1st process are used.
    そして、前記デバイスチップ1の一配列方向に沿って隣接するデバイスチップの間に第一の樹脂5を充填する第一の工程と、前記第一の工程の後、デバイスチップ1の上方から全面に第二の樹脂6を塗布する第二の工程とを用いる。 - 特許庁
  • This method comprises a first process where three semiconductor substrates 1 or less are introduced into a processing chamber 3, a second process where the semiconductor substrates 1 are heated up to a prescribed temperature, and a third process where a natural oxide film formed on the surface of the semiconductor substrate 1 is completely removed in a hydrogen atmosphere.
    3枚以下の半導体基板1を処理室3に設置する工程と、半導体基板1を所定の温度に加熱する工程と、所定の温度の水素雰囲気中で半導体基板1の表面の自然酸化膜を除去する工程とを含む。 - 特許庁
  • To provide validation and correction methods and the like for mask data for ensuring the process spec after OPC or process proximity effect correction (PPC) in a short period of time without reproducing a mask by preliminarily extracting a pattern which becomes critical in a process and correcting the pattern.
    プロセスにクリティカルとなるパターンを事前に抽出し、修正することにより、マスクの再作成をすることなく、短期間にOPC又はプロセス近接効果補正(PPC)後にプロセススペックを達成できるマスクデータの検証、補正方法等を提供する。 - 特許庁
  • (1) A process of synthesizing the desired protein by using the cell-free protein translation system, (2) a process of making the cellular plasma membrane permeable to the substances at least partially by treating the cells and (3) a process of introducing the protein into the cells to analyze the kinetics of the protein in the cells.
    (1)所望のタンパク質を無細胞タンパク質翻訳系を用いて合成し、(2)細胞を処理して少なくとも部分的に細胞形質膜を物質透過性にし、(3)該タンパク質を該細胞に導入し、該タンパク質の細胞内における動態を解析する。 - 特許庁
  • To provide an automatic change system of a process condition and a determination condition of a manufacturing device, for automatically changing an abnormality determination condition of EES as well together when the process condition is automatically changed for a process device in order to improve the accuracy of determination.
    判定の精度を向上するために、プロセス装置に対してプロセス条件の自動変更を行った際に、併せてEESの異常判定条件も自動変更を行う、製造装置のプロセス条件と判定条件の自動変更システムを提供する。 - 特許庁
  • The method for producing the coffee composition includes a process for extracting a coffee extract from coffee beans, a process for adjusting the pH of the coffee extract to a pH higher by 0.2-2 than the pH of the coffee extract, and a process for treating the pH-adjusted coffee extract with a porous adsorbent.
    コーヒー豆からコーヒー抽出液を抽出する工程、該コーヒー抽出液のpHを0.2〜2高く調整する工程、及びpH調整されたコーヒー抽出液を多孔質吸着体で処理する工程を含む、コーヒー組成物の製造方法。 - 特許庁
  • The manufacturing method of a printed wiring board, in which a metal foil whose ten-point average roughness (Rz) of a surface is 2.0 μm or less is used, includes a process in which a roughening process is executed as a pre-process when applying or laminating a solder resist.
    表面の十点平均粗さ(Rz)が2.0μm以下の金属箔を用いるプリント配線板の製造方法において,ソルダーレジストを塗布または積層する際の前処理として粗化処理を施す工程を有するプリント配線板の製造方法。 - 特許庁
  • This exposure method, which transfers the pattern of a mask M onto the substrate P, includes a register process for registering the mask M and the substrate P and an addition process for adding the information of the register result in the register process onto the substrate P.
    マスクMのパターンを基板P上に転写する露光方法において、前記マスクMと前記基板Pとを位置合わせする位置合わせ工程と、前記位置合わせ工程における位置合わせ結果の情報を前記基板P上に付ける付加工程とを有する。 - 特許庁
  • In this coating method for a motor vehicle wheel, comprising an electrophoretic coating process 2 and a baking process 5, when the temperature of the wheel drops to 40-90°C during the baking process 5, air is blown to the engaging part of the rim and disk of the wheel.
    電着塗装工程2、焼付工程5を有する自動車用ホイールの塗装方法において、焼付工程5でホイール温度が40〜90℃になって塗料の粘度が低下した時に、ホイールのリムとディスクとの嵌合部にエアブローを施す自動車用ホイールの塗装方法。 - 特許庁
  • A CPU 113 can perform a fast process of fetching drawing instructions sequentially from the drawing instruction queue written in the memory 112, by starting the process before the process of writing into the memory 112 output instructions received from the computer 102 is completed.
    CPU113は、メモリ112に書き込まれた描画命令列から準じ描画命令を取り出す処理は、コンピュータ102から受けた出力命令をメモリ112に書き込む処理が完了する前に、開始することで高速に処理を行うことができる。 - 特許庁
  • The manufacturing method of the polarizing element has a leaving process S1 of leaving the polarizing element main body as it is under environment of ≥50% relative humidity and an adhering process S2 of adhering the polarizing element main body to the light translucent substrate after the leaving process S1.
    そして、偏光素子の製造方法は、偏光素子本体を相対湿度50%以上の環境下に放置する放置工程S1と、放置工程S1の後、偏光素子本体および透光性基板を接着する接着工程S2とを備えている。 - 特許庁
  • The manufacturing method comprises a process for forming a heating film 19 at least on one insulating substrate of the empty cell 30, a process for applying voltage to the heating film 19 to heat the empty cell 30, and a process for injecting liquid crystal 105 into the heated empty cell 30.
    そして、空セル30の少なくとも一方の絶縁性基板に発熱膜19を形成しておく工程と、発熱膜19に電圧を印加し、空セル30を加熱する工程と、加熱された空セル30内に液晶105を注入する工程とを有する。 - 特許庁
  • The semiconductor device manufacturing method comprises at least a process (1) for forming a resin film containing a polyimide on a wafer, a process (2) for inversely sputtering the resin film by argon gas and a process (3) for sealing at least a part of the resin film by seal resin in this order.
    少なくとも(1)ウエハ上にポリイミドを含有する樹脂膜を形成する工程、(2)前記樹脂膜をアルゴンガスで逆スパッタする工程、(3)前記樹脂膜の少なくとも一部を封止樹脂で封止する工程をこの順に有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁
  • The method and apparatus for treating the organic wastes includes a process of producing valuables from the organic wastes, in which the method and apparatus for treating the organic wastes are characterized by treating the residues discharged from the valuables production process in a hydrothermal oxidation treatment process.
    有機性廃棄物から有価物を生産する工程を含む有機性廃棄物の処理方法において、該有価物生産工程から排出された残渣を水熱酸化処理工程で処理することを特徴とする有機性廃棄物の処理方法、及び装置。 - 特許庁
  • To provide a steel producing method with which the desulfurization or the dephosphorization can effectively be performed by holding a temperature of molten metal and slag at a sufficient temperature without contaminating the molten metal, and CO2 used can be reduced in a desulfurizing process or a dephosphorizing process in a refining process.
    精錬工程としての脱硫工程または脱燐工程において、溶湯を汚染することなく溶湯やスラグの温度を十分な温度に保持しつつ有効に脱硫または脱燐を行うことができ、しかもCO_2削減が可能な製鋼方法を提供すること。 - 特許庁
  • A driving gear string, a coupling mechanism for transmitting driving force to the process cartridge, a coupling control mechanism for controlling the connection and the release of the process cartridge and the coupling mechanism and a process cartridge mounting member holding means operate linked with the opening and closing operation of the opening and closing member.
    駆動ギア列と、プロセスカートリッジへ駆動力を伝達するカップリング機構と、プロセスカートリッジとカップリング機構の連結及び解除を制御するカップリング制御機構と、プロセスカートリッジ装着部材保持手段とが、開閉部材の開閉に連動して動作する。 - 特許庁
  • An interrupting member 17 for interrupting a guide when the cartridge is inserted in order to inhibit the process cartridge 15 from being inserted unless a moving means 52 for rocking the process cartridge 15 stands at a normal position is arranged so that it may interlock with an operation lever 21 for rocking the process cartridge 15.
    プロセスカートリッジ15を揺動させる移動手段52が正規の位置にないとプロセスカートリッジ15を挿入できないように、カートリッジ挿入時のガイドを遮断する遮断部材71をプロセスカートリッジ15を揺動させる操作レバー21と連動するように設ける。 - 特許庁
  • To provide a composite material for an electrical and electronic component, which keeps high adhesiveness between a metal substrate and an insulation film even when a portion including an interface between the metal substrate and the insulation film has been subjected to a working process such as a stamping process and then to a bending process.
    金属基材と絶縁皮膜との界面を含めた箇所で打ち抜き加工等の加工を施した後に折り曲げ加工を施しても、金属基材と絶縁皮膜との密着性が高い状態を保つ電気電子部品用複合材料を提供する。 - 特許庁
  • The fluid levels in the vessel and the process chamber are so controlled as to urge the flow of the fluid to the vessel through the liquid feed line as the fluid from the process chambers is supported by gravity when the fluid levels in the process chambers are higher than the fluid levels in the vessels.
    槽及び処理チャンバ内の流体レベルは、処理チャンバ内の流体レベルが槽内の流体レベルより高い場合に、処理チャンバからの流体が重力に支援されて流体送給ラインを介して槽へ流れるのを促進するように制御される。 - 特許庁
  • To perform a purchase process of a value for prepaid settlement via a network and a writing process of the purchased value by one process, to improve user's operability and convenience, and to allow flexibly respond to correction or update of an application.
    ネットワークを介したプリペイド決済用バリューの購入処理と購入したバリューの書き込み処理を1プロセスで実現し、利用者の操作性、利便性を向上し、かつそのアプリケーションの修正、更新に柔軟に対応可能な携帯通信端末を提供する。 - 特許庁
  • This method for enhancing the octane number of a petrochemical raffinate having a boiling point range of 60 to 150°C and consisting mainly of a 6 to 8C fraction comprises a distillation process for dividing the petrochemical raffinate into a light fraction and a heavy fraction, an isomerization process for isomerizing the light fraction obtained in the distillation process, and a catalytically reforming process for catalytically reforming the heavy fraction obtained in the distillation process.
    沸点範囲が60〜150℃であり、主としてC6〜C8留分からなる石化ラフィネートの高オクタン価化法であって、石化ラフィネートを軽質留分と重質留分の2つの留分に分割する蒸留工程と、該蒸留工程で得られた軽質留分を異性化処理する異性化工程と、該蒸留工程で得られた重質留分を接触改質処理する接触改質工程を含む石化ラフィネートの高オクタン価化法。 - 特許庁
<前へ 1 2 .... 643 644 645 646 647 648 649 650 651 .... 999 1000 次へ>

例文データの著作権について

  • 特許庁
    Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
  • 特許庁
    Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.