「Process」を含む例文一覧(50000)

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  • In the process, a TCP connection is maintained between the cellular telephone 1 and the image processing server 4.
    このとき、携帯電話機1と画像処理サーバ4との間のTCP接続を維持する。 - 特許庁
  • RINSE LIQUID APPLIED TO LITHOGRAPHY PROCESS, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE RINSE LIQUID
    リソグラフィープロセスに適用されるリンス液及び当該リンス液を用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
  • To form a polygon semiconductor ring laser wherein high alignment precision is held with a simple process.
    簡便なプロセスで高い位置合わせ精度を保持した、多角形半導体リングレーザを作製する。 - 特許庁
  • To provide an apparatus and a print process which are capable of more efficiently fusing a toner on media.
    媒体上のトナーをより効率的に溶融できる装置およびプリントプロセスを提供する。 - 特許庁
  • After that, a second switching unit discharges the ignition capacitor and discharge is used for starting combustion process.
    その後、第2スイッチ装置は点火コンデンサを放電し、燃焼過程を開始するために用いられる。 - 特許庁
  • Further, the process for producing a polymer containing an α-olefin monomer unit is provided.
    さらに、本発明は、α−オレフィン単量体単位を含むポリマーの製造方法に関する。 - 特許庁
  • The method for curing low dielectric constant materials in a process chamber during semiconductor processing is given.
    低誘電率材料を半導体処理中に処理チャンバ内でキュアする方法が与えられる。 - 特許庁
  • An image output device 6 displays images by the displaying data from the image process part 5.
    画像出力デバイス6は、画像処理部5からの表示用データによる画像を表示する。 - 特許庁
  • To provide a reliable multilayer printed wiring board and its producing process.
    信頼性を有する多層プリント配線板及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To efficiently obtain a high-accuracy superposition exposure process by the use of a plurality of projection exposure devices.
    複数の投影露光装置を用いた高精度な重ね合わせ露光を効率よく実現する。 - 特許庁
  • The multifunctional epoxy resin enables the formation of a 3-dimensional network structure during the hardening process.
    多官能型エポキシ樹脂により硬化時に3次元網目構造を形成することができる。 - 特許庁
  • In the process (3), the target molecule is dyed by image processing.
    上記工程(3)において、画像処理により標的分子を染色することをさらに含む方法。 - 特許庁
  • Wafer process apparatuses A-Z which perform processes A-Z with a wafer are arranged in a single line.
    ウェハにA〜Zまでの処理を施すウェハ処理装置A〜Zが一列に配置されている。 - 特許庁
  • In the first heating process, a substrate is heated under a first gas atmosphere containing at least H_2 gas.
    第1加熱工程は、少なくともH_2ガスを含む第1ガス雰囲気下で基板を加熱する。 - 特許庁
  • To provide a means for detecting alignment accuracy with high accuracy, in an ion implantation process.
    イオン注入工程におけるアライメント精度を、高精度に検出する手段を提供すること。 - 特許庁
  • PROCESS FOR MANUFACTURING Al ALLOY CONTAINING LITTLE Ca, AND BASE METAL FOR MANUFACTURING Al ALLOY CONTAINING LITTLE Ca
    低Ca含有Al合金の製造方法及び低Ca含有Al合金製造用地金 - 特許庁
  • Especially, a process for stretching the gate 24 is included before the cutting tool is guided.
    本発明では特に、切断工具を案内する前に、ゲート24を引き伸ばす工程を含んでいる。 - 特許庁
  • PROCESS FOR FORMING METAL OXIDE THIN FILM AND METAL OXIDE THIN FILM OBTAINED THROUGH THE SAME
    金属酸化物の薄膜作製方法およびそれにより得られた金属酸化物の薄膜 - 特許庁
  • The melt-inpregnated composite article substantially retains its dimension and shape throughout the fabrication process.
    溶融含浸複合材製品は製造プロセスの間中その寸法及び形状をほぼ維持する。 - 特許庁
  • A silicon single crystal 4 is pulled from a melt 3 in a quartz crucible 1a by the CZ process.
    石英ルツボ1a内の融液3からCZ法によりシリコン単結晶4を引き上げる。 - 特許庁
  • To provide a method and device for manufacturing a graphene structure suited for a semiconductor manufacturing process.
    半導体製造プロセスに適するグラフェン構造の作成方法及び作成装置を提供する。 - 特許庁
  • Statistical delay value calculation process is executed by a statistical delay value calculation part 506.
    そして、統計的遅延値算出部506により、統計的遅延値算出処理を実行する。 - 特許庁
  • ELECTROSTATIC CHARGE IMAGE DEVELOPER, DEVELOPER CARTRIDGE, PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMING APPARATUS, AND IMAGE FORMING METHOD
    静電荷像現像剤、現像剤カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法 - 特許庁
  • This method for producing the beverage includes a process for adding an O/D type emulsion composition to the beverage.
    飲料中にO/D型乳化組成物を添加する工程を含む飲料の製造方法。 - 特許庁
  • By this constitution, the charge up of the substrate W formed in an ion implanting process can be suppressed.
    この構成により、イオン注入過程で生じる基板Wのチャージアップを抑制できる。 - 特許庁
  • Thus, TPTP of each magnetic head can be measured quantitatively, for example, at the burn-in test process.
    これにより,例えばバーンインテスト工程で,各磁気ヘッドのTPTPを定量的に測定できる。 - 特許庁
  • To provide a method for adjusting the characteristics of etching by switching the processing gases during the etching process.
    エッチング処理中に処理用ガスを切り替えて、エッチングの特性を調節する方法を開示する。 - 特許庁
  • ELECTROSTATIC LATENT IMAGE CARRIER, AND IMAGE FORMING METHOD, IMAGE FORMING APPARATUS, AND PROCESS CARTRIDGE USING SAME
    静電潜像担持体、並びに、これを用いた画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ - 特許庁
  • To accurately process or adjust sound signals and sound effect in a communication environment.
    通信環境において音声信号および音響効果を正確に処理又は調節する - 特許庁
  • INSPECTION EQUIPMENT OF SOLAR CELL PANEL, FILM POLISH INSPECTION METHOD, AND PROCESS FOR MANUFACTURING SOLAR CELL PANEL
    太陽電池パネルの検査装置、膜研磨検査方法、及び太陽電池パネルの製造方法 - 特許庁
  • The code quantity prediction process is repeatedly performed until the appropriate quantization coefficient is obtained.
    符号量予測工程は、適当な量子化係数が得られるまで繰り返し行うことができる。 - 特許庁
  • ELECTROSTATIC LATENT IMAGE CARRIER, AND IMAGE FORMING APPARATUS, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING METHOD USING THE SAME
    静電潜像担持体及びそれを用いた画像形成装置、プロセスカートリッジ及び画像形成方法 - 特許庁
  • By applying a processing process, these protruded part are removed to remove the embedded conductive element.
    加工プロセスを適用してこれらの突出部を除去して埋め込まれた導電素子を除去する。 - 特許庁
  • PRINTING MACHINE EQUIPPED WITH PLURAL PRINTING UNITS FOR SUPERPOSED PRINTING WITH PLURAL PRINTING INKS IN SINGLE PROCESS
    一工程で複数の印刷インキを重ね刷りする複数の印刷ユニットを備えた印刷機 - 特許庁
  • In one embodiment, the process gas is utilized in both the first and second etching processes.
    一実施形態において、処理ガスを第1及び第2のエッチングステップの両方で利用する。 - 特許庁
  • The intermediate film liquid is evaporated in a heating process by frit seal so that the intermediate film is gasified.
    フリットシールによる加熱処理工程で中間膜液が蒸発して中間膜層がガス化する。 - 特許庁
  • To prevent breakage of a gas supply pipe during a dry cleaning process, and to improve maintenance efficiency.
    ドライクリーニングにおいてガス供給管の破損を防ぎ、メンテナンス効率を高めるようにする。 - 特許庁
  • And a conductor film is formed in the form of a pattern by a lift-off process using the resist mask.
    そして、このレジストマスクを用いたリフトオフの方法で導電体膜のパターン形成を行う。 - 特許庁
  • The milling process is performed after an etching resist thin film layer 5 is formed on a surface of the metal layer.
    前記ミリング加工は金属層表面にエッチングレジスト薄膜層5を施した後に行なう。 - 特許庁
  • To provide a novel process for patterning by depositing an organic semiconductor layer in an organic electronic device.
    有機電子デバイス内に有機半導体層を堆積させパターニングする新規なプロセスを提供する。 - 特許庁
  • To provide a process for producing a molded article made of an electroconductive thermoplastic resin excellent in electroconductivity.
    導電性に優れる導電性熱可塑性樹脂製成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • When producing a garlic-containing food, proanthocyanidin is added in an arbitrary production process.
    ニンニク含有食品を製造するにあたり、任意の製造工程において、プロアントシアニジンを添加する。 - 特許庁
  • In this way, the exposure test can be performed as part of the normal printing process.
    このような態様で、通常の印刷工程の一部として露出試験を行なうことができる。 - 特許庁
  • Next, the film 5 is formed by heating and melting the powder resin (a film forming process step).
    次に、誘電加熱によって、粉末樹脂を加熱・溶融して皮膜5を形成する(造膜工程)。 - 特許庁
  • COMPOSITION FOR FORMING THICK FILM RESISTOR, PROCESS FOR FORMING THICK FILM RESISTOR, AND THICK FILM RESISTOR
    厚膜抵抗体形成用組成物、厚膜抵抗体の形成方法及び厚膜抵抗体 - 特許庁
  • SYSTEM AND PROCESS FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROGRAM FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR
    半導体製造装置、半導体製造方法、半導体装置、半導体製造のためのプログラム - 特許庁
  • A photosensitive resist is applied to a substrate 91 to form a resist layer 93 (a resist application process).
    基板91に感光性のレジストを塗布してレジスト層93を形成する(レジスト塗布工程)。 - 特許庁
  • In the matching processor 3, a matching process of a frame positioned in other than the initial segment is performed.
    マッチング処理器3では、初期区間以外に位置するフレームに対しマッチング処理を行なう。 - 特許庁
  • The pharmaceutical composition comprises the ligand, and process for preparing the ligand is also provided.
    リガンドを含む製剤学的組成物ならびにリガンドの調製に関するプロセスも提供する。 - 特許庁
  • The wet milling process is performed while removing combustible gas generated in the milling apparatus.
    湿式粉砕処理を、粉砕装置内で発生する可燃性気体を除去しながら実施する。 - 特許庁
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