「Process」を含む例文一覧(50000)

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  • To keep the expected product dimension of a reducer made of an olefinic resin over a long period of time without adding an annealing process to a manufacturing process.
    製造工程にアニール工程を含むことなく、長期にわたってオレフィン系樹脂製レジューサの所期の製品寸法が維持できるオレフィン系樹脂製レジューサの製造方法と製造装置とを提供する。 - 特許庁
  • This treatment method comprises the hydrothermal reaction process for hydrolyzing the organic waste in an aqueous condition of pH 8-14, and a wet oxidation process for oxidizing hydrothermal reaction liquid with oxygen-containing gas.
    有機性廃棄物を、pH8〜14の水性条件下において加水分解する水熱反応工程と、前記水熱反応液を酸素含有ガスによって酸化する湿式酸化工程と、を含む。 - 特許庁
  • To provide a DNA amplification method that does not require a plurality of temperature settings in a series of processes from a pretreatment process of blood sample not requiring a DNA purification to a DNA amplification reaction process.
    DNA精製を不要とする血液検体の前処理工程からDNA増幅反応工程の一連の工程において複数の温度設定を必要としないDNA増幅方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for producing soybean peptide capable of producing soybean peptide excellent in flavor in a simple production process without the need of later process such as activated carbon treatment after hydrolysis with protease.
    プロテアーゼによる加水分解後に活性炭処理などの後工程を必要とせず、簡易な製造工程で風味良好な大豆ペプチドを製造することができる、大豆ペプチドの製造方法の提供。 - 特許庁
  • To provide a gasket having a coating layer and eliminating the necessity of a punching process and a press process for forming an identification sign by using part of the coating layer for the identification sign.
    コーティング層を有するガスケットにおいて、コーティング層の一部を識別標識に利用することにより、識別標識形成用の打ち抜き工程やプレス工程を不要にするガスケットを提供する。 - 特許庁
  • The method for treating the film includes a process for applying an organic polymer on a substrate to dry and a process for carrying out the liquid treatment without removing an organic polymer film from the substrate.
    本発明に係るフィルムの処理方法は、有機ポリマーを基材上に塗布し乾燥する工程、および有機ポリマーフィルムを基材から剥離せずに液処理する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁
  • When the second multifunctional machine 200 can not execute the specific process, the first multifunctional machine 10 transmits specific firmware for executing the specific process to the second multifunctional machine 200 (S116).
    第1多機能機10は、第2多機能機200が特定の処理を実行不可能である場合に、特定の処理を実行するための特定のファームウェアを、第2多機能機200に送信する(S116)。 - 特許庁
  • To provide a coating solution for formation of a low-permittivity insulating coating suitable in a semiconductor formation process including a controlled etching step such as a dual damascene process in a semiconductor device having high integration.
    高集積度の半導体装置において、デュアルダマシン法のようなコントロールエッチング工程を含む半導体形成プロセスにおいて好適な低誘電率絶縁膜形成用塗布液を提供すること。 - 特許庁
  • A process of forming a picture element electrode 23 which is one of the electrodes and a process of forming a hole transporting layer 70 on the top of this one electrode 23 are provided.
    電極のうちの一方である画素電極23を形成する工程と、この一方の電極23の上に正孔輸送材料を設けて正孔輸送層70を形成する工程とを備えてなる。 - 特許庁
  • The graphic data creation method for process marks includes a step in which at least one element graphic 620 is extracted from a tentative process mark 605 including predetermined element graphics 610 and 620.
    プロセスマークの図形データを作成する方法は、所与の要素図形610、620から構成された暫定的なプロセスマーク605において、少なくとも1つの要素図形620を抽出するステップを含む。 - 特許庁
  • Moisture and/or inert gas is added to process gas in a surface processing method where the surfaces of the processed member are subjected to plasma processing in the presence of process gas in a chamber.
    プロセスガスの存在下のチャンバ内で被処理部材の各面をプラズマ処理にて加工する表面処理方法において、上記プロセスガスに水分及び不活性ガスのうち少なくともいずれかをを添加する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a semiconductor device for securing an excellent alignment precision in a lithography process by eliminating non-linear strain in a semiconductor wafer generated in an oxidation process by lamp annealing.
    ランプアニールでの酸化工程において発生した半導体ウエハーの非線型な歪みを解消させ、リソグラフィ工程において良好なアライメント精度を確保可能な半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁
  • In a fourth process, bit plane codings are enforced at the coded-block units, and the coded data are generated without altering bit-plane configurations to the image data changed by the third process.
    第4工程において、第3工程により変更された画像データに対して、ビットプレーン構成を変更することなく、符号化ブロック単位でビットプレーン符号化を実施して符号化データを生成する。 - 特許庁
  • This invention provides knowledge of how the multiple characteristics of a given process output are related to each other, to specification limits and to pre-process inputs.
    一態様において、本発明は、所定工程出力における複数の特性が、相互に、あるいは仕様限界や予備工程入力に対しどのように関連しているかについての知識を提供する。 - 特許庁
  • The work mass is calculated a plurality of times in an acceleration process and deceleration process while the table 3 is moved from the side of one end of the saddle 2 to the other end, and the average thereof is the estimated work mass.
    このサドル2の一端側から他端までテーブル3が移動される間の加速過程、減速過程において複数回ワーク質量の演算が行われ、その平均が推定されたワーク質量となる。 - 特許庁
  • Further, another preferable manufacturing method includes: a process for forming the resin die in a metal die; and a process for filling the resin die with ceramic powder or ceramic slurry to mold and bake it.
    さらに、別の好ましい製造方法としては、金型により樹脂型を形成する工程と、樹脂型にセラミック粉またはセラミックスラリーを充填し、成型し、焼成する工程と、を含む方法がある。 - 特許庁
  • The print processing apparatus can set to perform either a page layout process for each page of the book-bound sheet bundle or the page layout process for spread pages for the book-bound sheet bundle during bookbinding printing.
    印刷処理装置は、製本印刷時に製本体裁の各ページに対してページレイアウト処理を行うか、または製本体裁の見開きページに対してページレイアウト処理を行うかを設定可能である。 - 特許庁
  • The process system includes detailed simulation and characterization of the entire lithography process to verify that the design provides and/or achieves the desired results on a final wafer pattern.
    この処理装置は、デザインが最終ウェーハパターン上の望ましい結果を提供しおよび/または達成することを実証するため詳細なシミュレーションと完全なリソグラフィ過程の描写を含んでいる。 - 特許庁
  • Furthermore, because the optical microscope 15 is out of a vacuum chamber, when an ion etching process of the sample 6 is carried out, no stain caused by particles dispersed from the sample in the ion etching process is formed on a lens of the optical microscope 15.
    また、試料6のイオンエッチングの際には光学顕微鏡15が真空チャンバ外にあるので、イオンエッチングによって試料から飛散した粒子で光学顕微鏡15のレンズが汚れることはない。 - 特許庁
  • Plasma is generated in the etching area to convert the process gas into an etchant gas to realize the anisotropic etching process where etching rate is high, etching selection ratio of substrate vs. resist is high and micro-filling property is reduced.
    プラズマをエッチング領域に発生してプロセスガスをエッチングガスに変え、エッチング速度が高く、基板対レジストのエッチング選択率が高く、微小充填性を低減した異方性エッチング処理を実現した。 - 特許庁
  • The CPU 8 performs an arithmetic process based on the program, compares the result of this arithmetic process with the reference level, and then outputs the index corresponding to the gain difference between the channels to a gain controller 5.
    CPU8は、プログラムに基づいて演算処理を行い、この演算処理の結果とリファレンスレベルとの比較を行った後、各チャンネル間のゲイン差に対応するインデックスをゲイン制御部5へ出力する。 - 特許庁
  • To provide a gas sensor where its manufacturing process is simplified by eliminating the addition process of distilled water in hydrolysis when forming a ZnO thin film by the sol/gel method, and its manufacturing method.
    ゾルゲル法によりZnO薄膜を形成する際に、加水分解における蒸留水の添加工程を省略して、その製造工程を簡略化したガスセンサおよびその製造法を提供する。 - 特許庁
  • The molybdenum film 96 for the pixel and the molybdenum film 196 for the terminal are formed in the same process and the transparent conductive film 28 for the pixel and the transparent conductive film 128 for the terminal are formed in the same process.
    また、画素用モリブデン膜96と端子用モリブデン膜196とは同一工程で形成され、画素用透明導電膜28は端子用透明導電膜128と同一工程で形成される。 - 特許庁
  • A process for isolating an active factor from the coelomic fluid(CF) of a mature earthworm (Pheretima posthuma) belonging to the phylum Annelida, and a process for testing sperm immotility are also provided.
    成熟した環形動物門に属するミミズ(Pheretima posthuma)体腔液(CF)中から活性因子の単離のための方法、精子運動不能性試験の方法を提供する。 - 特許庁
  • A CPU circuit section and an I/O circuit section being peripheral of internal circuits are manufactured on one chip by wafer process (S1a), while a mask ROM circuit section is manufactured on the other chip by wafer process (S1b).
    CPU回路部と内蔵周辺I/O回路部とをウエハプロセス(S1a)によって1つのチップ上に製造すると共に、マスクROM回路部をウエハプロセス(S1b)によって別のチップ上に製造する。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the semiconductor device includes a process for dicing a semiconductor wafer on which several chips having through-electrodes are formed into several chip groups, and a stacking process for stacking the chip groups for forming module groups.
    貫通電極を有する複数のチップが形成された半導体ウェハを、複数のチップグループにダイシングする工程と、前記各チップグループを積層してモジュール群を形成する積層工程と、を具備する。 - 特許庁
  • To provide photomask data correction techniques to extract a defective portion of a wafer process on a design layout and to compensate resolution failure of a resist pattern in a lithography process for manufacturing a semiconductor.
    設計レイアウト上のウェハプロセスの不具合箇所抽出を可能とするとともに、半導体製造リソグラフィ工程におけるレジストパタン解像不良を補うフォトマスクデータ補正技術を提供する。 - 特許庁
  • The method further includes evacuating the lower process zone, generating a plasma in an external chamber from a polymer etch precursor gas, and introducing a by-product from the plasma into the lower process zone.
    本発明は更に下方処理ゾーンから排気し、重合体エッチング前駆体ガスから外部チャンバ内でプラズマを発生させ、プラズマからの副生成物を下方処理ゾーンへと導入することを含む。 - 特許庁
  • To provide an aggregate production process which enables utilization of incineration ash and carbon dioxide, each caused when combustible materials are incinerated, as effective resources, and also to provide a production equipment for the process.
    可燃物の燃焼時に発生する焼却灰と二酸化炭素を利用して有効資源化することが可能である、焼却灰利用骨材の製造方法、及びその製造設備を提供することである。 - 特許庁
  • This method for measuring the activity of amylase comprises a process for bringing cyclodextrin modified with a coloring matter into contact with a specimen and a process for measuring the intensity of light emitted from the coloring matter or the absorbance of the coloring matter.
    (1)色素で修飾したシクロデキストリンと被検試料とを接触させる工程、及び(2)色素の発する光の強度又は色素の吸光度を測定する工程を含むアミラーゼ活性の測定方法。 - 特許庁
  • A light emitting semiconductor device forming method comprises a first process of forming a stack of layers that include an active region, and a second process of wafer-bonding a structure that includes a carrier trapping semiconductor to the above stack.
    発光半導体デバイスを形成する方法は、活性領域を含む層のスタックを作成する工程と、キャリア閉じ込め半導体を含む構造を上記スタックにウェハボンディングする工程とを含む。 - 特許庁
  • To provide a process management device and a process management method, for performing some processing (main processing) to a product, and performing some other processing (sub processing) while avoiding increase of a tact time.
    生産品に対して或る処理(メイン処理)を行うとともに、タクトタイムの増加を避けながら別の処理(サブ処理)を行うことができる工程管理装置および工程管理方法を提供すること。 - 特許庁
  • The information carrier is the density of particles or light intensity corresponding to the distribution of the supplied plural points and the diffusion process or defocus process of the particles is used respectively as secular change.
    情報担体は、与えられた複数の点の分布に応じた粒子の密度あるいは光強度であり、経時変化としてそれぞれその粒子の拡散過程あるいはデフォーカス過程を用いる。 - 特許庁
  • The welding process also reduces the potential for stress corrosion cracking resulting from crevices 41 and 43 in partial penetration welds 44 and 46 that might occur in a laser welding process.
    溶接工程は、また、レーザ溶接工程中に起こり得る部分溶け込み溶接44および46中の裂け目41および43から結果として起こる応力腐食割れの可能性を減少させる。 - 特許庁
  • This multilayered film can be suitably used for manufacturing the electronic part because pickup processing of high efficiency and reliability becomes possible by subjecting the multilayered film to the dicing process and the pickup process.
    本発明の多層フィルムは、これをダイシング工程及びピックアップ工程に供することにより、高効率高信頼性のピックアップ処理が可能となるため、電子部品製造に好適に用いることができる。 - 特許庁
  • The plate formed of the transparent plastic material (1) is manufactured by a sequential injection process performed in a half-opened state of a mold (9) and the compression process continued thereto to be performed in a mold clamped state.
    金型(9)を半開放状態にして行うシーケンシャル射出、およびこれに続く前記金型を閉鎖して行う圧縮工程により、プラスチック材料(1)で形成されるプレートを製造する。 - 特許庁
  • In screen processing to be performed in the process, for the color signals of process colors in the metallic color signals, screen processing of higher number line than a usual case is performed to realize the same appearance as a solid image of printing.
    その過程で行うスクリーン処理において、メタリック色信号中のプロセスカラーの色信号に対しては、通常より高線数のスクリーン処理を施して、印刷のベタと同様の見えを実現する。 - 特許庁
  • This user information provision method is provided with a process for preparing a database storing an invitation relation among the users, and a process for displaying the invitation relation among the users stored in the database, in an invitational communication site.
    招待制のコミュニケーションサイトにおいて、ユーザ間の招待関係を保存したデータベースを作成する工程と、データベースに保存されたユーザ間の招待関係を表示する工程を備える。 - 特許庁
  • The method for producing the fluorescent substance comprises a process for mixing group IIA sulfide powder with ZnS:Cu intermediate fluorescent substance powder having macle therein, and a process for firing the mixture.
    さらに内部に双晶を有するZnS:Cu中間蛍光体粉末とIIA族硫化物粉末を混合する工程、および該混合物を焼成する工程を含む蛍光体の作製方法である。 - 特許庁
  • To provide a small-sized piezoelectric vibrator for a piezoelectric vibration gyro having excellent productivity, and its manufacturing method, by simplifying a connection process and a positioning process between an electrode and a conductor at the polarization processing time.
    分極処理時の電極と導電体の接続工程と位置決め工程を簡略化し、生産性に優れた小型の圧電振動ジャイロ用圧電振動子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a process for easily producing a 1-amino-3- halo-2-(trialkylsiloxy)propane and provide a process for producing a 3-(trialkylsiloxy)azetidine by a short-time reaction in high productivity.
    1−アミノ−3−ハロ−2−(トリアルキルシロキシ)プロパンの簡便な製造方法を提供すること、及び短時間の反応で3−(トリアルキルシロキシ)アゼチジンを生産性よく製造できる方法を提供すること。 - 特許庁
  • Then, the second thermal diffusion process is executed for more deeply thermally diffusing boron, which is thermally diffused inside the monocrystalline silicon wafer 1 by the first thermal diffusion process, inside the monocrystalline silicon wafer 1.
    次に、前記第1の熱拡散工程により前記シリコン単結晶基板1内に熱拡散されたボロンを該シリコン単結晶基板1内により深く熱拡散させる第2の熱拡散工程を行う。 - 特許庁
  • Afterwards, the program inputs the contents of the data descriptive records to processing to be assembled from the process descriptive records, and returns the judged result or processed result of the process identifier corresponding to the routine program processing.
    以降、プログラムは、データ記述レコードの内容をプロセス記述レコードから組み立てられる処理の入力とし定型プログラム処理に対応するプロセス識別子の判定結果または処理結果を返却する。 - 特許庁
  • The controller selects a low power receiver to process the received signal when the RF environment is unfavorable, and selects a high performance receiver to process the received signal when the RF environment is favorable.
    コントローラは、RF環境が好ましくない場合は受信信号を処理するために低電力受信機を選び、RF環境が好ましい場合は受信信号を処理するために高性能受信機を選ぶ。 - 特許庁
  • This method comprises (a) a process of preparing a liquid culture medium where a solid nutrition substrate such as cereal grain is suspended and (b) a process of performing fermentation by inoculating an inoculum into the culture medium in a bioreactor.
    当該方法は、(a)穀物粒等の固体の栄養基質が懸濁された液状の培地を調製する工程と、(b)バイオリアクター内で該培地に接種源を接種して発酵を行う工程とからなる。 - 特許庁
  • A blackboard service is made up, which is for storing batch control data which are used by software objects which define various batch process interface display compositions in a non-batch process control interface application.
    非バッチ・プロセス制御インターフェース・アプリケーションにおいて、様々なバッチプロセス・インターフェース表示構成を定義するソフトウェア・オブジェクトにより使用されるバッチ制御データを格納するための黒板サービスが提供される。 - 特許庁
  • To provide a process capable of carrying out a dehydration at a comparatively low temperature and producing a product of the dehydration free from discoloring in a process producing citalopram comprising dehydration of an oxime compound.
    オキシム化合物の脱水工程を含むシタロプラムの製造方法において、脱水工程が比較的低い温度で実施でき、さらに当該工程の生成物に着色のない方法を提供する。 - 特許庁
  • Process (A): In the presence of a palladium catalyst, a process of producing 1.4-di(3-halogenated thienyl) 2,5-dihalogenated benzene by 3-halogenated thiophene-2 zinc derivative with 1,2,4,5-tetrahalogenated benzene is provided.
    (A)工程;パラジウム触媒の存在下、3−ハロゲン化チオフェン−2−亜鉛誘導体と1,2,4,5−テトラハロゲン化ベンゼンにより1,4−ジ(3−ハロゲン化チエニル)−2,5−ジハロゲン化ベンゼンを製造する工程。 - 特許庁
  • The process for manufacturing a multilayer ceramic capacitor shortens the manufacturing process by printing the internal electrode and external electrode simultaneously and also solves the problem of contact.
    本発明によれば、積層セラミックコンデンサ製造方法は、内部電極と外部電極を一体に印刷することによって接触問題を解決することができるし、製造工程を縮めることができる。 - 特許庁
  • To provide an electrocatalyst manufacturing method for increasing the effective area of a catalyst metal to achieve the high support of the catalyst metal by using a combination of wet process and drive process.
    ウェットプロセスとドライプロセスを併用することにより、触媒金属の有効面積を大きくでき、しかも触媒金属の高担持を実現することのできる電極触媒の製造方法を提供する。 - 特許庁
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