「R-process」を含む例文一覧(311)

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  • This process aims to reduce risk in the research and development of cutting-edge technology by initiating R&D trends such as sharing technical roadmaps developed through discussions on specific technical issues with a view to establishing joint R&D activities with educational institutions and venture companies.
    また、特定の技術的課題について議論して策定した技術ロードマップを共有して、大学やベンチャー企業等と共同で研究開発する等、技術開発の流れを主導することで、先端分野における研究開発のリスクを低減しようとするねらいもある。 - 経済産業省
  • The client program which is written in HTML or Java (R), which can be executed on the Web browser for requesting a proof image output or for requesting confirmation of output process state is provided from the Web server 12 to the client PC 18.
    予めWebブラウザのプログラム24がインストールされたクライアントPC18と、クライアントPC18からの要求に基づいて動作する処理サーバ16との間にWebサーバ12を設ける。 - 特許庁
  • (1) An underground continuous wall construction process for constructing an underground continuous wall R with a closed section having through-holes (casing pipes 21 and 22) in the direction of the depth at a specific interval in the objective ground.
    (1)対象地盤Gに、所定間隔で深さ方向の貫通孔(ケーシングパイプ21,22)を有する閉合断面の地中連続壁Rを構築する地中連続壁構築工程。 - 特許庁
  • An image conversion means uses a value of the hue as it is, without adding 360° thereto, when the value of the hue is brought into a negative value in a process for converting the R, G and B signals into the hues.
    前記画像変換手段は、R,G,B信号を色相に変換する仮定で、色相の値が負となった場合に、その値に360°を加算することなく、そのまま用いる。 - 特許庁
  • To allow a color slippage to be perceived in the process of changing from a start gray-scale level to a target gray-scale level by a difference in the response time of a pixel section among R, G, and B in case of a change in display data.
    表示データが変化した場合に、RGB間で画素部の応答時間が異なることにより、開始階調から目標階調までの変化過程で色ズレが知覚される。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device manufacturing method which increases process margins of a hole radius R and a shortest distance S between holes in formation of a tabular cavity to achieve high reliability.
    平板状空洞を形成する際におけるホール半径Rと、ホールとホールの最短距離Sのプロセスマージンを広げ、信頼性の高い半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • The core material is injection-filled into the cavity CA constituted between the reverse face of the inserted decorative material K formed with the returning-back part R and the surface 23 of the molding die 22, in the injection filling process.
    射出充填工程時には、折返部(R)が形成されている加飾材(K)の裏面と金型(22)の表面(23)との間に構成されるキャビティ(CA)に射出充填する。 - 特許庁
  • The preferable embodiment of the process uses 2-furoic hydrazide or 2-thienoyl hydrazide and thereby prepares a compound of formula II whose R is 2-furyl or 2-thienyl.
    このプロセスの好ましい実施形態は、2−フロ酸ヒドラジドまたは2−チエノイルヒドラジドを使用し、これにより、Rが2−フリルまたは2−チエニルである式IIの化合物を調製する。 - 特許庁
  • To provide a method for producing an (R)-2-alkyl cyclopentanone useful as a perfume or the like, which provides high yield and high optical purity without environmentally applying load by a simple and inexpensive process.
    簡便、かつ安価な方法で、環境的に負荷をかけることなく、高収率、高光学純度で、香料等として有用な(R)−2−アルキルシクロペンタノンの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the electro-optical device comprises a process of forming a plurality of pixel electrodes 27, a process of forming barrier ribs for commonly zoning the plurality of pixel electrodes 27, a process of forming a functional layer containing an organic conductive layer 61 with a glycol based solvent added in an area surrounded by the barrier ribs, and a process of irradiating light R on the organic conductive layer 61.
    複数の画素電極27を形成する工程と、複数の画素電極27を共通して区画する隔壁25を形成する工程と、隔壁25により囲まれた領域に、グリコール系の溶剤が添加された有機導電性層61を含む機能層を形成する工程と、有機導電性層61に光Rを照射する工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁
  • In the defoaming process, the sealing resin R is mixed up by making a second squeegee 62 and a first squeegee 61 to shift horizontally with the first squeegee 61 kept in a raised state to move the sealing resin R to one side, and subsequently by making the first squeegee 61 to lower and shift horizontally with the second squeegee 62 kept in a raised state to move the sealing resin R to another side.
    脱泡工程では、第1のスキージ61を上昇させた状態で第2のスキージ62を第1のスキージ61と共に水平移動させて封止樹脂Rを一側へ寄せた後に、第2のスキージ62を上昇させた状態で第1のスキージ61を下降させて水平移動させることで封止樹脂Rを他側へ寄せることで、封止樹脂Rを練る。 - 特許庁
  • Then, in a second beam irradiation process step S3-2, electron beam scanning is conducted in the opposite direction from the beam scanning direction in the first beam irradiation process step S3-1 along the outer periphery of the cover from the point R to successively irradiate the electron beam to the point Q.
    続いて、第二のビーム照射工程ステップS3−2において、点Rから蓋体の外周に沿って第一のビーム照射工程ステップS3−1のビーム走査方向と対向する方向に順次ビームを走査して点Qまで電子ビームを照射する。 - 特許庁
  • Even if a 3rd person who bears ill will obtains the mobile telephone having the PIN written to the IC card, the PIN can not be read out of the IC card unless a process identifier sent from the external R/W 30 matches the process identifier matching the PIN.
    ICカードにPINが書込まれたまま携帯電話が悪意を持つ他人に渡った場合でも、外部R/W30から送られる処理識別子が、PINに対応する処理識別子と合致しなければ、PINをICカードから読出すことはできない。 - 特許庁
  • In a production process 100 including processes A and B, detection devices 12, 16 for detecting carrying-in of vehicles are provided at an entrance of each process, and a detection device 14 is set up for detecting vehicles to be carried in a repair stage R as well.
    工程A及び工程Bを含む生産工程100において、各工程の入り口に車両搬入を検出する検出装置12、16を設けるとともに、手直し工程Rに搬入される車両を検出する検出装置14を設ける。 - 特許庁
  • To prevent a variable, etc., in an application from being changed other applications in the case of operating a plurality of applications as mutually different threads, in a single process multi-threaded environment, such as Java (R).
    Java(R)のようなシングルプロセス、マルチスレッドの環境において、複数のアプリケーションを別々のスレッドとして動かした場合に、アプリ内の変数等を他のアプリに変更されることのないようにする。 - 特許庁
  • The operation process part calculates a point for each characteristic item for reading characteristic value by using normal distribution function, and the values are summed up for obtaining the evaluation point R to discriminate the kind.
    演算処理部により、特徴量を読み取るべき特徴項目ごとに正規分布関数を用いて点数を算出し、その点数を総和して類識別のための評価得点Rを算出する。 - 特許庁
  • An evaluation following actual operation is therefore ensured by implementing an evaluation test while keeping the process chamber P and the vacuum chamber R at atmospheric pressure, so that it is possible to sharply save a labor of an adjustment.
    従って、プロセス室Pと減圧室Rとを大気圧に維持したままで評価試験を行うことで、実動作時に即した評価を行えるため、調整の手間を格段に省くことができる。 - 特許庁
  • Then, as a second winding process W2, during the back-and-forth movement M3 of the nozzle 4 between the outside winding position P and the first intermediate winding position R, a winding operation for the remaining winding amount is performed.
    次に、第2巻線工程W2として、ノズル4を外側巻線位置Pと第1の中間巻線位置Rとの間で前後動M3させながら、残りの巻線量の巻線を行う。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing an R-T-B system sintered magnet having high insulation, excellent in an eddy current reducing effect and capable of coping with both of a high magnetic characteristic and high electric resistance, by a comparatively simple process.
    比較的簡単な工程により、絶縁性が高く、渦電流低減効果に優れた、高磁気特性と高電気抵抗を両立させたR−T−B系焼結磁石の製造方法の提供。 - 特許庁
  • The vulcanization jig 2 is used in a process for vulcanizing the low cover R along with a molding bladder 25 to discharge the air between the outer surface of the bladder and the inner surface of the low cover.
    ローカバーRの加硫工程に成形用のブラダー25とともに使用される加硫治具2を以下のように形成して、加硫処理までにブラダーの外面とローカバーの内面との間のエアーを放出する。 - 特許庁
  • The respective thinning filters 9 perform a product-sum operation to the image data inputted from the line buffer 5 by using the sent filter coefficients for thinning, process the filter and output the image signals of R, G and B.
    各補間フィルタ9はラインバッファ5から入力する画像データを送られた補間用フィルタ係数を使って積和演算を行いフィルタを処理しR,G,Bの画像信号を出力する。 - 特許庁
  • After calculating the chain resistance R by two terminal resistance measuring process, the current wave form is observed by chain pattern while scanning a laser beams for calculating the defect numbers x by the positive-negative frequency of the current wave form.
    2端子抵抗測定法でチェーン抵抗Rを求めた後、レーザービームを走査しながらチェーンパターンでの電流波形を観測し、電流波形が正負に変化した回数から欠陥数xを求める。 - 特許庁
  • To enable a display device of an arbitrary user terminal to display data from an arbitrary process operating on a computer where UNIX(R) operates as an operating system.
    オペレーティングシステムとしてUNIX(登録商標)が動作するコンピュータにおいて、このコンピュータ上で動作する任意のプロセスから任意の利用者端末の表示装置へデータを表示させることを可能とする。 - 特許庁
  • The polygon mirror 16 turns in the direction denoted by an arrow R and the light beam LB is made incident from the direction in which the incident angle θ of the light beam LB in one scanning process decreases as the polygon mirror 16 turns.
    ポリゴンミラー16は矢印R方向へ回転され、1走査中で光ビームLBの入射角θは、ポリゴンミラー16の回転にしたがって小さくなる方向から入射されている。 - 特許庁
  • In this process, the synthetic resin liquid S is repelled by the water-repellent R coating layer on the obverse face of the fiber sheet 1, resulting in substantially no synthetic resin impregnation on the obverse face of the fiber sheet 1.
    そうすると該水性合成樹脂液Sは該繊維シート1表面の撥水剤R塗布層によって撥水され、該繊維シート1表面の合成樹脂含浸量が0または僅かになる。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the retreaded tire includes: a process of injecting unvulcanized rubber from the outside of a tire mold 10 to the interior R of a tread molding space formed by an outer surface in the circumferential direction of a casing tire 1 and a tire mold molding surface 20A disposed in the tire mold 10; and a process of vulcanizing the injected unvulcanized rubber.
    タイヤモールド10内に設置された台タイヤ1の周方向外側表面とタイヤモールド成型面20Aとにより形成されるトレッド成型空間内Rにタイヤモールド外から未加硫ゴムを注入する工程と、注入された未加硫ゴムを加硫する工程とを含む。 - 特許庁
  • This polishing device performing the polishing of a work 3 has a means for detecting the residual quantity R of stock to be removed, and a means for determining the working accuracy in the preprocessing process performed before the polishing process on the basis of the residual quantity.
    ワーク3に対して研磨工程を行う研磨装置において、ワーク取代残量Rを検出する取代残量検出手段と、前記ワーク取代残量に基づいて、前記研磨工程よりも前に行われる前加工工程における加工精度を判定する判定手段とを備えている。 - 特許庁
  • The method for producing the 2-amino-3-butene-1-ol compound represented by formula (2) (wherein R^1, R^2 and R^3 independently represent each alkyl which may be substituted, aryl which may be substituted or H) includes a process for reacting ammonia with a 2-phthalimide-3-butenol compound obtained from phthalimide and 3-butene-1,2-epoxide.
    フタルイミドと3−ブテン−1,2−エポキシドから得られる2−フタルイミド−3−ブテノール化合物とアンモニアとを反応させる工程を有することを特徴とする式(2)(式中、R^1、R^2及びR^3はそれぞれ、はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は水素原子を表す。)で示される2−アミノ−3−ブテン−1−オール化合物の製造方法。 - 特許庁
  • The manufacturing method of high-strength coke comprises dry-distilling a blended coal, where blending conditions of the blended coal are decided based on the pore-growing parameter R, which is a ratio of the pressure ΔP to the viscosity η of a softening and melting layer of coal in the heating process, represented by formula (2): R=ΔP/η (2).
    配合炭を乾留してコークスを製造する方法において、前記配合炭の配合条件を、加熱過程における石炭軟化溶融層の圧力ΔPと粘度ηとの比で示される下記式(2)の気孔成長パラメータRに基いて決定することを特徴とする高強度コークスの製造方法。 - 特許庁
  • Thus, a case for evaporation diffusion process in which generation of deposition between the R-T-B system sintered magnet and the support is sharply reduced in comparison with a support such as a net in the lattice shape which is conventionally used, and a method for manufacturing the R-T-B system sintered magnet using the case are provided.
    これにより、従来用いられている格子状の網などの支持体とくらべて、R−T−B系焼結磁石と支持体との溶着の発生を大幅に低減した蒸着拡散処理用ケース及びそのケースを用いたR−T−B系焼結磁石の製造方法を提供することができる。 - 特許庁
  • Then, an etching process is simultaneously carried out along the first opening part and second opening part, thereby a third depth s" of the first opening part 406 c and a fourth depth r of the second opening part 408 c, each having phase shift of 180°, can be obtained.
    次に、前記第1および第2開口部の第3および第4の深さを、180度の位相ずれを有してそれぞれ同時に得るために、エッチング段階が前記第1および第2開口部に沿って行われる。 - 特許庁
  • In upshift, at a point of time t2 when a change gear ratio (r) monitored at a process of gear shifting is synchronized with a reference change gear ratio R2' lower than a change gear ratio R2 before gear shifting, control of an inertia phase is started.
    アップシフトにおいて、変速の過程においてモニタリングされている変速比rが、変速前の変速比R2 よりも小さい基準変速比R2 ’と同期した時点t2 に、イナーシャ相制御を開始する。 - 特許庁
  • Transferring heat generated from the semiconductor device 2 in the advance direction is suppressed by the high-heat resistance part H-R in the mounting member 4, and the heat is diffused with a prescribed divergent angle in the process of transferring the heat to a heat sink.
    半導体素子2の発熱は、実装部材4内の高熱抵抗部H・Rにより直進方向の熱伝達が抑制され、ヒートシンク3へ熱伝達する過程で所要の広がり角度で拡散される。 - 特許庁
  • The process liquid for a waterless planographic printing plate contains (a) an ethyleneglycol derivative represented by general formula (I):R-(OCH_2CH_2)_n-OH and (b) an amino compound having two or more primary amino groups in one molecule.
    (a)下記一般式(I)で表されるエチレングリコール誘導体と、(b)1分子中に1級アミノ基を2個以上有するアミノ化合物を含有することを特徴とする水なし平版印刷版用処理液。 - 特許庁
  • In a process for alternately laminating a plurality of insulating layers and a plurality of conductor layers successively, a conductor layer that is formed first is formed by metal foil whose thermal dimension change rate R is ±100 ppm.
    複数の絶縁層と複数の導体層とを、順次、交互に積層する工程において、最も最初に形成する導体層を、熱寸法変化率Rが±100ppmである金属箔によって形成する。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the hydrogen storage body has a process for applying at least one of rapid temperature rising heat treatment and energy irradiation treatment to a polymer having a structure represented by formula (1) (wherein, R is a hydrocarbon group and may contain a hetero atom end n is 2-10,000).
    下記一般式(1)で表される構造を有するポリマーに対して、急速昇温加熱及びエネルギー照射処理の少なくとも1種を施す工程を有する、水素吸蔵体の製造方法。 - 特許庁
  • Since the minimum required mold clamping force K is computed based on the mold clamping force real characteristics in a molding preparation process, the optimum mold clamping force R is computed based on the minimum required mold clamping force K.
    成形準備工程において、型締力実特性に基づいて最低必要型締力Kが算出されるので、最低必要型締力Kに基づいて最適型締力Rを算出することができる。 - 特許庁
  • A monitoring device 101 identifies each of repeaters R, s1-s3 in a network 100, each process in the servers S1-S3, or hardware in the servers S1-S3 as faulty.
    このようにして、監視装置101が、ネットワーク100内の中継機器R、s1〜s3またはサーバS1〜S3内のプロセスまたはサーバS1〜S3内のハードウェアを障害発生箇所として特定することとなる。 - 特許庁
  • The close contact of the irradiation object W with the light incident section 32 allows formation of a more gradual slope on the photoresist R, without immersion of the irradiation object W in the liquid, than in an exposure process in the air.
    被照射物Wが光入射部32に密着しているので、液体中に被照射物Wを浸すことなく大気中で露光するよりレジストRの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 - 特許庁
  • Then, in a signal reproducing process, the control circuit 5 calculates a disk warp angle θ from the disk radial distance R in a signal reproducing position to operate the tilt angle adjustment mechanism 4 according to the calculated disk warp angle θ.
    そして、信号再生過程では、信号再生位置におけるディスク半径距離Rからディスク反り角度θを算出し、算出されたディスク反り角度θに応じてチルト角調整機構4を動作させる。 - 特許庁
  • The BTS2 receives the R-CQICH (406) and succeeds in demodulation, thereby to recognize that the BTS2 has been designated as the communication-destination base station, and it transmits (407) an FLAB after performance and completion of a hand-off process.
    BTS2は、R−CQICH(406)を受信し、復調に成功することで、通信先基地局として指定されたことを認識し、ハンドオフ処理を実行・完了後に、FLABを送信する(407)。 - 特許庁
  • The brassinosteroid-like substances are economically much provided from crude glycerol by-produced in production process of biodiesel fuel and the washing liquid generated in purification of BDF (R), and the brassinosteroid-like substances are also directly provided from waste edible oil of industrial wastes.
    バイオディーゼル燃料の製造過程で多量に副産する粗製グリセリン及びBDF(登録商標)の精製時に発生する洗浄液から、ブラシノステロイド様物質を安価で大量に提供する。 - 特許庁
  • The front region F and the rear region R are rotatably connected with each other and can be displaced in required rotative attitudes by a rotation driving means, and the tilting attitudes thereof can be adjusted depending on a work process.
    前部領域Fと後部領域Rは、回動可能に連結すると共に、回動駆動手段により所要の回動姿勢に変位可能とし、作業工程に応じて、傾斜姿勢を調整可能とする。 - 特許庁
  • When the data are written into a CD-R having un-multiplied density, blocks for consecutive writing including two runout blocks for every packet are added to these data, and the interleave process is performed such that the maximum delay amount is extended to 108 frames.
    1倍密度CD−Rにデータを書き込むときは、このデータに対して、パケット毎に2つのランアウトブロックを含む書き繋ぎ用ブロックを付加し、最大遅延量が108フレームに及ぶインターリーブ処理を行う。 - 特許庁
  • During authentication, like the registration process, similarity search of a feature y is carried out and the feature y is transformed by using transform parameter R[i*] corresponding to the nearest neighboring dummy feature D[i*] (transformed feature V).
    認証時は、登録時と同様に、特徴量yの類似検索を行い最近傍ダミー特徴量D[i^*]し、対応する変換パラメータR[i^*]を用いて特徴量yを変換する(変換特徴量V)。 - 特許庁
  • In this case, the horizontal alignment layers 42 are formed by performing a rubbing process on an alignment layer 42a on a substrate 10A and by modifying a surface thereof using a resist pattern R as a mask, a material of the vertical alignment layers 41 is formed.
    このとき、基板10A上の配向膜42aにラビング処理し、レジストパターンRをマスクにして表面改質して、水平配向膜42を形成し、垂直配向膜41の材料を形成する。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the R-Fe-B-based rare earth sintered magnet includes a slurry preparing process of preparing slurry by mixing magnetic powder containing a rare earth element with higher alcohol, a molding process of forming a molding by subjecting the slurry to wet molding in a magnetic field, and a baking process of manufacturing the rare earth sintered magnet by baking the molding.
    本発明は、希土類元素を含む磁性粉末と高級アルコールとを混合してスラリーを調製するスラリー調製工程と、スラリーを磁場中で湿式成形して成形体を作製する成形工程と、成形体を焼成して希土類焼結磁石を作製する焼成工程と、を有するR−Fe−B系希土類焼結磁石の製造方法である。 - 特許庁
  • In a criterion calculation process 22, an R image 20 based an electromagnetic wave having a wavelength in the red range of visible light and an NIR image 21 based upon an electromagnetic wave in the near infrared range are inputted and a criterion, e.g. 'the luminance value of the NIR image/ the luminance value of the R image' is calculated at each of corresponding points in the images.
    判定値算出処理22では,可視光の赤色領域の波長をもつ電磁波をとらえたR画像20と近赤外領域の電磁波をとらえたNIR画像21とを入力し,画像中の対応する各点において,例えば「NIR画像の輝度値/R画像の輝度値」というような判定値を算出する。 - 特許庁
  • The method for producing the bisphenol has a process for reacting a phenol with 0.1 mole to <0.6 mole aliphatic aldehyde or its trimer expressed by R-CHO (R expresses a 1-12C alkyl or a cycloalkyl) in the presence of ≥5 pts.mass phosphoric acid based on 100 pts.mass phenol in a heterogeneous phase.
    フェノール類と、フェノール類1モルに対して0.1モル以上0.6モル未満のR−CHO(Rは、炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基を表す)で表される脂肪族アルデヒドまたはその三量体とを、フェノール類100質量部に対し5質量部以上のリン酸類の存在下で不均一系反応させる工程を有するビスフェノール類の製造方法。 - 特許庁
  • The process and the device for the manufacture of an undulating ply (O) formed of a ply of a compounded rubber reinforced by reinforcement cords (R) arranged side by side in the longitudinal direction at a given pitch, in the undulating ply, the reinforcement cords (R) form wavy undulations in the transverse direction with a controlled amplitude and period in the plane of the ply.
    所与のピッチで縦方向に並んで配置されている補強コード(R)によって補強された配合ゴムのプライで作られている波形プライ(O)を製造する方法及び装置であって、この波形プライ内では、補強プライ(R)が、横方向において制御された振幅及び周期の波状起伏部をプライの平面内に形成している方法及び装置。 - 特許庁
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