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表面構造が均一な構造化成形面を有する最終形状形成用成形工具を製造する方法を、最終形状形成用成形工具が幾何学的形状（輪郭）と、面粗度と構造等の表面品質に関して従来技術のものより良好で、且つ面均一性がより高くなるように、しかも極めて少ない作業で行えるようにする - 特許庁 - A silicon carbide semiconductor element has a 4H-SiC substrate 1 and the SiC epitaxial layer 3 formed on a surface of a 4H-SiC substrate 1, which has an OFF angle of 3° to 5°, at least a partial surface of the SiC epitaxial layer 3 having a surface roughness of ≤1 nm.
炭化珪素半導体素子は、４Ｈ−ＳｉＣ基板１と、４Ｈ−ＳｉＣ基板１の表面に形成されたＳｉＣエピタキシャル層３とを備え、４Ｈ−ＳｉＣ基板１は３°より大きく５°以下のオフ角を有しており、ＳｉＣエピタキシャル層３の少なくとも一部の表面は、１ｎｍ以下の表面粗さを有している。 - 特許庁 - The mixed metal-based granules are obtained by mixing first metal-based granulates having a prescribed particle diameter making it possible to form a prescribed roughness on a metal material surface with at lease one kind of second metal-based granulates having a particle diameter different from the prescribed particle diameter in a prescribed ratio.
本発明の混合金属系粒状物は、所望の塗料密着度を得るために金属材料表面に所定粗さを形成することを可能にする所定の粒子径を有する第一の金属系粒状物と、前記粒子径とは異なる粒子径を有する少なくとも一種類の第二の金属系粒状物と、を所定の比率で混合してなる所定の混合金属系粒状物である。 - 特許庁 - To provide a rolled copper foil capable of ensuring adequately matching surface roughness when the predetermined joining property must be ensured while the high peel strength such as FPC is not required without using any conventional roughening method possibly increasing the manufacturing cost due to excessively high quality, and to provide a method for manufacturing the same.
過剰品質で製造コスト高を招く虞のある従来の粗化方法を用いることなく、ＦＰＣのような高いピール強度は要求されないが所定の接合性は確保することが必要とされる場合に、それに対応可能な程度の適度な表面粗さを確保することを可能とした圧延銅箔およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - In the polysiloxane thin film transfer sheet having a construction which laminates a polysiloxane thin film layer on a plastic sheet having a releasing surface or on a glass sheet having a releasing surface, the ten-point average roughness Rz on the releasing surface of the plastic sheet or the glass sheet is set to 0.5 μm or less.
離型性表面を備えたプラスチックシート或いは離型性表面を備えたガラスシート上に、ポリシロキサン薄膜層を積層してなる構成を備えたポリシロキサン薄膜転写用シートにおいて、プラスチックシート又はガラスシートの離型性表面の１０点平均粗さＲｚを０．５μｍ以下とする。 - 特許庁 - To solve the problems of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device and to provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good line edge roughness particularly in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray.
半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - This method for producing metal-coated carbon fibers, comprising bringing a carbon fiber multifilament into contact with the peripheral surfaces of electrode rolls to plate the carbon fiber multifilament in an electric plating tank, is characterized in that the arithmetic average roughness (Ra) of an electrode portion contacting with the carbon fiber multifilament is 0.01 to 25μm.
炭素繊維マルチフィラメントを電極ロール周面に接触させ電気メッキ槽内でメッキする金属被覆炭素繊維の製造方法において、電極ロールの炭素繊維マルチフィラメントと接する部分の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０１〜２５μｍである、金属被覆炭素繊維の製造方法である。 - 特許庁 - To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using active light or radiation, particularly electron beams or X-rays and to provide a resist composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a rectangular pattern shape and good edge roughness when electron beams or X-rays are used.
活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度と、解像性、矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性とを同時に満足するレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To construct a relation model between high-accuracy quality and operation by a comparatively small division number by allowing proper automatic space division according to the distribution state of data such as the deviation or roughness/denseness of operation data when dividing an operation factor space when analyzing relevance between an operation factor and the quality.
操業因子と品質の関連性を解析するにあたって操業因子空間を分割する場合に、操業データの偏りや疎密といったデータの分布状態に応じて適正な空間分割を自動的に行えるようにすることで、比較的少ない分割数で精度の高い品質と操業の関連モデルを構築可能とする。 - 特許庁 - This polyester film for simultaneous forming and transfer printing comprises a polyester containing one or more copolymerizable components other than principal constituting components, wherein the content of the principal constituting components is 90 mol% or less, and the centerline-average surface roughness Ra of the film is 70 nm or more.
主たる構成成分以外の共重合成分を１種以上含有し、かつ主たる構成成分の含有量が９０モル％以下であるポリエステルからなるフィルムであって、フィルム表面の中心線平均表面粗さＲａが７０ｎｍ以上であることを特徴とする成型同時転写用ポリエステルフィルム。 - 特許庁 - In the color filter comprising a resin matrix and a coloring layer arranged on a transparent substrate, the color filter and the color liquid crystal display device are characterized by having the resin black matrix consisting of particles with ≥1 Ω.cm volume resistivity and a polymer and by having ≤100 Å surface roughness of the resin black matrix.
透明基板上に樹脂マトリックス、および着色層を設けたカラーフィルターにおいて、上記樹脂ブラックマトリックスが体積抵抗率１Ω・ｃｍ以上の粒子とポリマーからなり、該樹脂ブラックマトリックスの表面粗度が１００オングストローム以下であることを特徴とするカラーフィルター、およびカラー液晶表示装置。 - 特許庁 - In the printed circuit board having a soldering package component and a bare type semiconductor chip as a typical MEMS chip both mounted thereon and also using an aluminum wire of wire bonding for electric connection of the MEMS chip, a conductor of the printed circuit board is plated with gold and the surface roughness of the conductor is set to satisfy specific conditions.
ハンダ付け用のパッケージ部品の搭載とMEMSチップに代表されるベアタイプの半導体チップの共存搭載を有するとともに、MEMSチップの電気的接続にアルミニウム線のワイヤボンディングを用いるプリント配線板において、前記プリント配線板の導体部に金めっきを有するとともに導体部の表面粗さを特定条件としたものである。 - 特許庁 - To provide a resist composition that forms a resist pattern improved in the collapse of the resist pattern, line edge roughness and the generation of scum, less liable to the deterioration of the profile, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure; and to provide a pattern forming method using the resist composition.
レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - This method for producing the unsaturated carboxylic acid ester by performing the reaction of the unsaturated aldehyde with the alcohol in the presence of oxygen is characterized by using a production device having ≤100 μm Rmax as a surface roughness value measured by the method stipulated in JIS B0601 in at least a part of a wall surface on which a solution containing a catalyst passes through.
酸素の存在下で不飽和アルデヒドとアルコールを触媒と反応させて不飽和カルボン酸エステルを製造する方法において、当該製造装置における、触媒を含む溶液が通過する壁面の少なくとも一部は表面粗度Ｒｍａｘ が ＪＩＳＢ０６０１で測定される表面粗さの値として１００μｍ以下 である製造装置を用いることを特徴とする不飽和カルボン酸エステルの製造方法 - 特許庁 - A method for manufacturing an antireflection structure includes steps of: preparing a substrate 27 having a rough surface 27p with a surface roughness larger than a predetermined wavelength; and forming a plurality of finely rugged portions 29 having an average pitch equal to or less than the predetermined wavelength on the rough surface 27p of the substrate 27 by lithography using an electron beam or a proton beam.
本発明の製造方法は、所定の波長よりも大きい表面粗さの粗面２７ｐを有する基板２７を準備する工程と、電子ビーム又は陽子ビームを用いたリソグラフィによって、所定の波長以下の平均ピッチを有する複数の微小凹凸部２９を基板２７の粗面２７ｐに形成する工程とを含む。 - 特許庁 - In the printing plate material with a hydrophilic layer containing a pigment particle having a photothermal conversion function, formed on a base material, the average particle diameter of the pigment particle is 0.15 to 1.0 μm and the surface roughness Ra of the hydrophilic layer is 0.2 to 1.5 μm.
基材上に光熱変換機能を有する顔料粒子を含有する親水性層を有する印刷版材料において、該顔料粒子の平均粒子径が０．１５μｍ以上、１．０μｍ未満であり、かつ、親水性層の表面粗さＲａが０．２μｍ以上、１．５μｍ未満であることを特徴とする印刷版材料。 - 特許庁 - To solve the problems of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device and to provide a negative resist composition which satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and few development defects particularly in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray.
半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、ラインエッジラフネス、現像欠陥の特性を満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition capable of stably forming a resist micropattern high in precision especially, without causing film surface roughness and sensitive to many kinds of radiations and superior in sensitivity, resolution, PED stability, and pattern forms by incorporating a specified copolymer and a radiation sensitive acid generator.
紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、Ｘ線の如き各種の放射線に有効に感応し、感度、解像度、ＰＥＤ安定性、パターン形状に優れるとともに、特に「ナノエッジラフネス」あるいは「膜面荒れ」を生じることがなく、高精度の微細なレジストパターンを安定して形成することができる化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The polyimide film for forming metallic thin film by evaporation method on a surface treated with a vacuum discharge treatment is provided, wherein at least one surface of the polyimide film is treated with the vacuum discharge treatment and has concavo-convex form of the treated surface having 0.03-0.1 μm Ra (average roughness).
ポリイミドフィルムの減圧放電処理面に蒸着法により金属薄膜を形成するためのポリイミドフィルムであり、ポリイミドフィルムの少なくとも一方の表面に減圧放電処理を行ない、減圧放電処理した面のＲａ（平均粗さ）が０．０３〜０．１μｍの凹凸形状であることを特徴とする蒸着法による金属薄膜形成用のポリイミドフィルム。 - 特許庁 - This laminated polyester film is characterized in that the gross film thickness by gravimetry is 6.0 μm or less and the arithmetic mean roughness(Ra) of at least one of the sides of the film is 0.050 μm or less and further, at least two polyester layers are laminated.
重量法による総フィルム厚みが６．０μｍ以下であり、少なくとも片面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５０μｍ以下であり、かつ、少なくとも２つのポリエステル層からなることを特徴とする積層ポリエステルフィルムであり、好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）の両面の差異が０．０３０μｍ以下であることを特徴とする積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁 - The porous ceramic film is one whose aggregate particles that constitute its surface are a zirconia (ZrO_2) and whose surface roughness Ra is 1 μm or smaller, or one whose aggregate particles that constitute its surface are a zirconia (ZrO_2) and whose ζ potential of the film surface is from -40 to 40 mV at pH 7.
表面を構成する骨材粒子がジルコニア（ＺｒＯ_２）であって、その表面粗さがＲａで１μｍ以下であるセラミック多孔質膜、または、表面を構成する骨材粒子がジルコニア（ＺｒＯ_２）であって、その膜表面ゼータ電位がｐＨ７において−４０ｍＶから４０ｍＶであるセラミック多孔質膜である。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when F_2 excimer laser light (157nm) is used and ensuring improved line edge roughness, few development defects and improved heat resistance of a resist pattern formed on a substrate.
１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及び基板上に形成されたレジストパターンの耐熱性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁 - The method for manufacturing the photocatalyst sheet is characterized by causing fluoride of a metal element of the group IIa, IIb or IVa to react with a substrate having an aluminum surface roughened so that the surface roughness of the center line becomes 0.1 μm or more to form metal oxide particles on the substrate.
中心線表面粗さが０．１μｍ以上になるように粗面化されたアルミニウム表面を有する基材に周期律表のＩＩa、ＩＩｂ、ＩＶa族の金属元素のフッ化物を作用させることにより金属酸化物粒子を前記基材上に形成させることを特徴とする光触媒シートの製造方法。 - 特許庁 - The method for depositing a conductive thin film having the texture structure further includes a step of depositing the conductive thin film formed of Ag containing aluminum oxide by using a vacuum film deposition process such as sputtering and vacuum vapor deposition, and a step of laminating a plurality of conductive thin films of different composition, and the mean surface roughness and the shape of the texture structure can be controlled.
スパッタまたは真空蒸着などの真空成膜プロセスを使用して、酸化アルミニウムを含有したＡｇからなる導電性薄膜を形成すること、および異なる組成の導電性薄膜を複数積層する工程をさらに含み、テクスチャー構造の平均表面粗さおよび形状を制御することを特徴とするテクスチャー構造を有する導電性薄膜の形成方法。 - 特許庁 - Thus, as a result of using the liquid crystal layer in which the alignment directions of the liquid crystal molecules are controlled so as to be different from one another in the pixel in order to secure a wide viewing angle, the liquid crystal display device 1 having high display quality without roughness can be realized, even though not only the edge region of a pixel electrode but also the boundary region of domains existence.
これにより、広視野角確保のために、液晶分子の配向方向が画素中で互いに異なるように制御される液晶層を用いた結果、画素電極のエッジ領域だけではなく、ドメインの境界領域が存在しているにも拘らず、ザラツキがなく、表示品位の高い液晶表示装置１を実現できる。 - 特許庁 - The method of manufacturing the printed circuit board is characterized in that it includes a step of providing a pair of conductive layers formed so as to make surface roughness different from each other; and a step of stacking a pair of conductive layers on an insulating layer so that a surface of each of the pair of conductive layers faces a surface and another surface of the insulating layer.
本発明による印刷回路基板の製造方法は、一面の粗さが互いに異なるように形成された一対の導電層を提供するステップと、一対の導電層のそれぞれの一面が絶縁層の一面及び他面を向くように絶縁層に一対の導電層をそれぞれ積層するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - To establish a manufacturing method for a roller having a buffer tire at the periphery of a hub of a roller core capable of ensuring roller manufacturability of the specified quality and preventing attachment of a molten substance to the hub caused by leaking to the area not required even in case the cast hub remains in as-cast surfaces and there is dispersion in the accuracy of the surface roughness.
ローラ芯金のハブ部材の外周に緩衝タイヤを有するローラの製造方法において、鋳物製のハブ部材が鋳肌面のままで面粗さ精度にばらつきがあるような場合でも、所要の品質のローラが製造でき、溶融材料の不必要個所への漏出によりハブ部材に付着するのを防止させるローラの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To solve problems that, in a polyelectrolyte fuel cell constituted of a gas diffusion layer in which conventional carbon fiber woven fabric is used as the base material, a large pressure is locally loaded on a polyelectrolyte membrane due to roughness and fineness distribution resulting from weaving within the face of the carbon fiber woven fabric, and the polyelectrolyte membrane is broken with the passage of time, and pin holes are formed ultimately.
従来のカーボン繊維織布を基材とするガス拡散層から構成される高分子電解質型燃料電池においては、カーボン繊維織布の面内における織りに起因する大きな粗密分布により、高分子電解質膜に局所的に大きな圧力がかかり、経時的に高分子電解質膜が破壊し、最終的にはピンホールが発生することを解消する。 - 特許庁 - A mold wherein projectioned or recessed parts are provided to a portion of the surface of a resin flow channel is used to perform extrusion at melting temp. or higher and the surface roughness of the obtained molded object is measured and the height of the projected or recessed parts provided to the mold is compared with the height of the recessed or projected parts of the molded object to evaluate long-term running stability.
樹脂流路面の一部分に凸部又は凹部を設けた金型を用いて、溶融温度以上で押し出しを行い、得られる成形体の表面粗さを計測することにより、金型に設けた凸部の高さ又は凹部の深さと、成形体の凹部の深さ又は凸部の高さとを比較することを特徴とする長期ランニング安定性の評価方法。 - 特許庁 - In the pressure-sensitive adhesive film for the protection of an optical sheet having a pressure-sensitive adhesive layer on one side of a plastic film, the total luminous transmittance of the pressure-sensitive adhesive film is ≥80% and, simultaneously, a polyolefin-based resin film having a surface roughness of ≤0.1 μm is laminated on the pressure-sensitive adhesive layer as the separator.
プラスチックフィルムの片面に粘着剤層を設けてなる粘着フィルムにおいて、粘着フィルムの全光線透過率が８０％以上であり、かつ、粘着剤層面に表面粗さが０．１μｍ以下であるポリオレフィン系樹脂フィルムを、セパレータとして貼り合わせていることを特徴とする光学シート保護用粘着フィルム。 - 特許庁 - In the radiation image conversion panel which has a support, a phosphor layer containing storage phosphor particles and a protective layer in this order, the median particle diameter D_m of the storage phosphor particles is 1.0 to 3.5 μm and the surface roughness Ra on the surface of the protective layer of the panel is 0.03 to 0.3 μm.
支持体、蓄積性蛍光体粒子を含有する蛍光体層および保護層をこの順に有する放射線像変換パネルにおいて、該蓄積性蛍光体粒子のメジアン粒径Ｄ_mが１．０〜３．５μｍで、そして該パネルの保護層表面の表面粗さＲａが、０．０３〜０．３μｍである放射線像変換パネル。 - 特許庁 - The glass substrate having ultra fine surface roughness is manufactured by using a mixed liquid of water, abrasive grains and potassium hydroxide and further a mixed liquid of water and potassium hydroxide as a grinding liquid in a stage for grinding the surface of the substrate included in the method for manufacturing the glass substrate for magnetic recording medium, and the magnetic recording medium excellent in recording density is manufactured by using the glass substrata.
磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法に含まれる基板表面研磨工程の研磨液として、水と研磨砥粒と水酸化カリウムとの混合液、さらにまた、水と水酸化カリウムとの混合液を用いることにより、表面粗さの極微細なガラス基板を作製し、そのようなガラス基板を用いることにより高記録密度の優れた磁気記録媒体を作製する。 - 特許庁 - The method for manufacturing a silicon nitride sintered compact comprises sintering a planar silicon nitride compact, which is obtained by compacting a powdery mixture obtained by adding a magnesium compound and the oxides of at least one metal selected from the group of yttrium and lanthanide group to silicon nitride powder and has 0.3 μm or smaller surface roughness (Ra value), in pressurized nitrogen atmosphere at 1,750-1,900°C.
窒化珪素粉末に、マグネシウムの化合物と、イットリウム及びランタニド族の群からなる１種以上の酸化物とを添加した混合粉末を成形してなる表面粗さ（Ｒａ値）が０．３μｍ以下である平板状の窒化珪素質成形体を用い、窒素加圧下、１７５０〜１９００℃の所定の焼成温度下で焼結する窒化珪素焼結体の製造方法。 - 特許庁 - The liquid crystal display panel includes an array substrate overlaid with an alignment layer by covering a polymer layer and a transparent electrode formed on the polymer, and 5 nm or more of surface roughness Ra by roughening the polymer layer overlaying the array substrate and the surface of the alignment layer in the IPS (In-Plane Switching) liquid crystal display panel sealing a liquid crystal layer between the array substrate and a color filter substrate.
本発明の液晶表示パネルは、ポリマー層及び該ポリマー層上に形成した透明電極を覆って配向膜を積層したアレイ基板と、該アレイ基板とカラーフィルタ基板との間に液晶層を封止したＩＰＳ（In−Plane Switching）液晶表示パネルであって、前記アレイ基板上に積層したポリマー層や配向膜の表面を荒らして表面粗さＲａを５ｎｍ以上とした。 - 特許庁 - The separator for a cell having a porous layer mainly composed of polyolefin base resin, includes β-activeness, an arithmetic mean roughness Ra on at least one side of surfaces is 0.3 μm or more, a Gurley value is 10 to 1,000 seconds/100 ml, a thickness is 5 to 50 μm, and a sticking intensity is 1.5N or more.
ポリオレフィン系樹脂を主成分とする多孔質の層を有する電池用セパレータであって、β活性を有し、少なくとも片方の表面の算術平均粗さＲａが０．３μｍ以上、ガーレ値が１０〜１０００秒／１００ｍｌ、厚さが５〜５０μｍであり、かつ、突き刺し強度が１．５Ｎ以上である電池用セパレータからなる。 - 特許庁 - To provide a photo acid generator which has excellent solubility in resist solvents and excellent compatibility with resins and is used for resist materials not producing foreign matters when forming a pattern after developed and when peeling a resist, scarcely causing adverse effects such as edge roughness and the like, giving an excellent pattern shape, and having excellent PED stability, and to provide a light-emitting acid.
レジスト溶剤に対する溶解性及び樹脂との相溶性に優れた光酸発生剤であって、現像後のパターン形成時、更にレジスト剥離時に異物を生じず、エッジラフネスなどの影響が少なく、パターン形状に優れ、ＰＥＤ安定性に優れたレジスト材料に用いられる光酸発生剤及び光発生酸を提供する。 - 特許庁 - This packaging film comprises a biaxial oriented film of a polyethylene/2,6-naphthalene dicarboxylate containing 0.1-3 mol% of a diethylene glycol component (based on the total amount of glycols) and a surface roughness of the film Ra of 60 nm or less, a haze of 20% or less, a total transmittance of 75% or more and a transmittance at 350 nm 20% or less.
ジエチレングリコール成分を０．１モル％〜３モル％（全グリコール成分の総量に対し）含有するポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートの二軸配向フィルムからなり、フィルムの表面粗さがＲａ６０ｎｍ以下、ヘーズが２０％以下、全光線透過率が７５％以上、３５０ｎｍでの光線透過率が２０％以下である包装用フィルム。 - 特許庁 - To obtain a skin care preparation composition having excellently ameliorating effect on unevenness on the surface of the skin, preventing and ameliorating actions on granulation, roughness, blackness, dryness, etc., of the skin, solving slight solubility of a hydroxypyridone derivative in water, in the case of formulation with a skin care preparation composition such as a cosmetic, capable of improving its stability and solubility and sufficiently exhibiting an expected effect.
皮膚表面の凹凸を改善する効果に優れ、肌のブツブツ、ザラツキ、黒ずみ、かさつき等を予防・改善する作用を有するヒドロキシピリドン誘導体の水に対する難溶性を解決して、化粧品等の皮膚外用剤組成物に配合した場合に、その安定性、溶解性を向上させて、所期の効果を十分に発揮することができる皮膚外用剤組成物を提供する - 特許庁 - This temper rolling mill is a two-stand temper mill, and a first stand incorporates a work roll to have a chrome plated layer formed on a roll barrel surface layer and having almost partially spherical protrusions to have surface roughness Ra of 0.3-2.0 μm and Hv of ≥1000, and a second stand incorporates a bright roll subjected to cylindrical polishing.
２スタンドの調質圧延機であって、第１スタンドに表面粗さＲａが 0.3〜 2.0μm でかつＨｖ；1000以上の略部分球形状の突起を有するクロムめっき層をロールバレル表層に形成したワークロールが組み込まれ、第２スタンドに円筒研磨されたブライトロールが組み込まれている調質圧延機。 - 特許庁 - The optical fiber array formed by forming a plurality of grooves at part of the top surface of a substrate, housing optical fibers in the grooves, and fitting the lid part which covers the optical fibers onto the substrate across the adhesive layer is characterized by that a rough-processed surface is formed on the part of the lid part which faces the substrate and is roughened to 5 to 1,000 nm mean roughness.
基板上面の一部に複数の溝が形成され、上記溝に光ファイバが収納されており、上記基板上に上記光ファイバを覆う蓋部が接着層を介して取り付けられた光ファイバアレイであって、上記蓋部の基板と対向する部分には粗化面が形成されており、上記粗化面は、平均粗さが５〜１０００ｎｍである光ファイバアレイ。 - 特許庁 - In the electrophotographic photoreceptor including at least a photosensitive layer on a conductive support, a surface layer of the photosensitive layer comprises a crosslinked layer formed by curing at least a tri- or higher functional radical-polymerizable monomer not having a charge transporting structure and a monofunctional radical-polymerizable compound having a charge transporting structure, and a surface roughness Rz of the crosslinked surface layer is ≤1.3 μm.
導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層の表面層が少なくとも電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を硬化した架橋層からなり、該架橋表面層の表面粗さＲｚが１．３μｍ以下であることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁 - On the surface of a nozzle plate 21 previously subjected to surface roughening (oxygen plasma processing or sand blasting) to have a surface roughness (Ra) of 0.01-0.1, a plasma polymerization film having a thickness of 0.5 μm or less is formed by plasma CVD using a compound containing fluorine or silane as a material and then it is coated with fluororesin to form an ink repellent film.
予め粗面化処理（酸素プラズマ処理又はサンドブラスト処理）により表面粗さ（Ｒａ）０．０１〜０．１とされたノズルプレート２１表面に、フッ素含有化合物又はシラン化合物を原料としてプラズマＣＶＤ法により０．５μｍ以下のプラズマ重合膜を形成し、その皮膜上にフッ素樹脂を塗布し、撥インク膜を形成する。 - 特許庁 - The photosensitive resin printing original plate has a photosensitive resin layer (A) containing a monomer that is soluble or dispersible in water and curable by UV rays, a thermosensitive mask layer (C) and a protective layer (E) having a surface roughness Ra of 0.1 to 0.6 μm on the face in contact with the thermosensitive mask layer, successively layered in this order on a support.
支持体上に、水に溶解または分散可能な樹脂および紫外光により硬化可能なモノマーを含有する感光性樹脂層（Ａ）、感熱マスク層（Ｃ）、感熱マスク層に接する面の表面粗さＲａが０．１〜０．６μｍである保護層（Ｅ）をこの順に有することを特徴とする感光性樹脂印刷版原版。 - 特許庁 - This surface covered cemented carbide cutting tool is constituted by depositing the diamond type carbon coat having hydrogen contents:10 to 15 atomic %, hardness:25 to 35GPa, surface roughness (R):less than 30nm and average layer thickness:06 to 1.5μm in a magnetic field by plasma CVD on a surface of a cemented carbide base body constituted of tungsten carbide group cemented carbide.
表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金で構成された超硬基体の表面に、プラズマＣＶＤにて、水素含有量：１０〜１５原子％、硬さ：２５〜３５ＧＰａ、表面粗さ（Ｒ）：３０ｎｍ以下、平均層厚：０．６〜１．５μｍ、を有するダイヤモンド状炭素被膜を磁場中成膜してなる。 - 特許庁 - In the cold tandem rolling method for a metallic strip having a proof stress of 390 N/mm^2 or more on the inlet side of the first stand of a cold tandem mill, the surface roughness of the work roll of the first stand is set to be 0.20-0.50 μm and Teflon (R) powder is sprayed or applied onto the surface of the metallic strip.
冷間タンデム圧延機の第１スタンド入側における耐力が３９０Ｎ／ｍｍ^２以上の金属ストリップの冷間タンデム圧延方法において、第１スタンドのワークロールの表面粗度を、０．２０μｍＲａ以上、０．５０μｍＲａ以下とし、さらに、該金属ストリップの表面に、テフロンパウダーを噴霧あるいは塗布することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a turret type tape lapping device in which a tape holder integrated cassette shoe assembly unit including a plurality of faces for machining a first workpiece, and a tape holder integrated cassette shoe assembly unit including a plurality of second faces for machining a second workpiece, which is of a different type in shaft diameter or shaft width, surface roughness of an abrasive coated tape, are automatically changed to each other.
第１の被加工物を加工する１面の複数個からなるテープホルダ一体型カセットシュー組立体ユニットと、軸径又は軸幅、研磨材被覆テープの面粗さが互いに異なる異種の第２の被加工物を加工する他の１面の複数個からなるテープホルダ一体型カセットシュー組立体ユニットとを自動段取替えするタレット式テープラップ装置を提供。 - 特許庁 - The carbon fiber has ≥1 nm to ≤20 nm arithmetic average surface roughness (Ra), ≥0.5 m^2/g to ≤1.5 m^2/g BET specific surface area determined from gaseous krypton adsorption and an oxygen concentration ratio O/C of ≥0.01 to <0.13 on the surface of the carbon fiber which is determined by X-ray photoelectron spectrometry.
本発明の炭素繊維は、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であって、クリプトンガス吸着から求めたＢＥＴ法比表面積が０．５ｍ^２／ｇ以上１．５ｍ^２／ｇ以下で、かつＸ線光電子分光法によって求められる炭素繊維表面の酸素濃度比Ｏ／Ｃが０．０１以上０．１３未満であることを特徴とするものである。 - 特許庁 - To solve a problem wherein a circumferential velocity difference between an inner circumference part and the outer circumference part of a carrier causes an accuracy difference in the surface roughness, parallelism and flatness in a single work in a conventionally used polishing pad whose diameter of openings on the surface is same and whose carrier of a planetary gear type polishing device executes circular movement of autorotation and revolution.
従来より使用している研磨パッドは、表面開口径が同一のもので、遊星歯車式研磨装置でのキャリヤは、自転及び公転の円運動をおこなうため、キャリヤの内周部と外周部との周速差により１枚のワーク内での面粗度や平行・平面度の精度差が出てしまう - 特許庁 - The biting of silicon is suppressed, the generated stress is easily liberated, the residual amount of internal strain in silicon is reduced, and the photoelectric conversion efficiency of the polycrystalline silicon is improved by making the inner surface of the vessel into such a flat surface that the undulation is ≤3 mm and the surface roughness Ra is ≤10 μm, preferably ≤6 μm.
また、容器内面のうねりを３ｍｍ以下、表面粗さＲａを１０μｍ以下、更に好ましくは６μｍ以下の平滑な表面とすることによってシリコンの食い込みを低減して発生応力を逃げ易くし、シリコン内部歪の残留を軽減し、多結晶シリコンの光電変換効率を向上させる。 - 特許庁 - In the barrel 10 of the writing utensil molded by injection molding plastic, at least one end of the barrel comprises an axially slanting surface 21 and the arithmetic mean roughness (Ra) of the surface of the slanting surface 21 is ≥10 and ≤70 μm under the condition that the barrel has a portion, the inner diameter and outer diameter of which expand themselves towards this one end of the barrel.
プラスチックの射出成形により形成される筆記具の軸筒10であって、その少なくとも一端が、軸方向に対する傾斜面21で構成され、前記一端に向かってその内径及び外径が拡大していく部分を有しているとともに、前記傾斜面21の表面の算術平均粗さ(Ra)が１０μｍ以上かつ７０μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁
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