「Roughneſs」を含む例文一覧(6432)
＜前へ 1 2 .... 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129- The Ag-based conductor paste forming the address electrode of the PDP is configured by adding and mixing: Ag fine powder of 0.5-2 μm in average particle size; and a roughing material increasing the surface roughness of a conductor film formed by baking the conductor paste to a vehicle.
本発明によると、ＰＤＰのアドレス電極を形成するためのＡｇ系導体ペーストであって、平均粒径０．５μｍ〜２μｍのＡｇ細粉末と、本導体ペーストを焼成して形成される導体膜の表面粗さを上昇させる粗化材とをビヒクルに添加混合してなる導体ペーストが提供される。 - 特許庁 - To reduce an unintentionally produced fine surface roughness of a substrate by irradiating ultraviolet rays on an original plate with a photo resist having an embossed pattern or a transferred substrate for optical discs.
フォトレジスト付き原盤からニッケルメッキによりスタンパを複製し、このスタンパから表面に光ヘッド案内溝及びアドレス等を表わすピットやセクタ・マークあるいは記録情報などの凹凸パターンを有する光ディスク用基板を複製する方法においては、フォトレジスト膜表面およびニッケルメッキ膜表面に意図せずに生じる微細な凹凸が、複製された基板の表面に複製される。 - 特許庁 - To those who receive such presents from the East, I may just say that this and such like materials gradually undergo a change which gives them on the surface a dull and dead appearance; but they may easily be restored to their original beauty, if the surface be rubbed with a clean cloth or silk handkerchief, so as to polish the little rugosity or roughness: this will restore the beauty of the colours.
ちなみに東洋からこんなプレゼントを受け取る方に申し上げておくと、これとか、これに似た物質はだんだん変化してきて、表面がだんだんどんより濁った外見になってきます。でもきれいな布か、絹のハンカチで表面をこすってやって、表面にこびりついたものというか、かたまったものを磨いてやると、すぐにもとの美しい状態に戻ります。これで美しい色彩が戻ってきます。 - Michael Faraday『ロウソクの科学』 - Black and navy was used for the make-up of 'Kugeare' (wild kuge (noble)), who was the villain (FUJIWARA no Sihei of "Sugawara Denju Tenarai Kagami") that schemed to overthrow the government, female that turned into ogre with jealousy ('hannya-guma' (makeup like hannya, female demon) (Shirabyoshi (a women who play Shirabyoshi (Japanese traditional dance)) Hanako of "Musume Dojoji" (Young Woman) whose real name was Kiyohime (Princess Kiyo)), female monster 'kijo-kuma' (makeup like a female ogre) (female ogre that gathered autumn leaves or ogre that disguised itself as the female of Modori-bashi bridge, 'borei-guma' (ghost make-up) that expressed the grudge of crazed evil spirit (TAIRA no Tomomori of Funa Benkei) that roughness equaled that of crimson colored Kumadori, but used on villains who were cruel or used spiritual power.
黒・藍色系統では、「公家荒」と呼ばれる国家転覆を狙う大悪人（菅原伝授手習鑑の藤原時平）の隈や、嫉妬の鬼と化した女性の「般若隈」（道成寺の白拍子花子、その本性は清姫）、女妖怪に使う「鬼女隈」（紅葉狩の鬼女紅葉や戻橋の女に化けた鬼など）、荒れ狂う悪霊の怨念を表した「亡霊隈」（船弁慶の平知盛）など猛々しさは紅色の隈取に匹敵するが、冷酷であったり妖力を使う悪役のものである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - The surface of a developer carrier 8, 11 has concavo-convex pattern with an average pitch Sm of 60 μm or more and 200 μm or less and a ten-point average roughness Rz (μm) of 5.0 μm or more and 25.0 μm or less based on JIS B0601 (1994).
現像剤担持体８、１１表面のＪＩＳ Ｂ０６０１（１９９４年）に基づく凹凸の平均間隔Ｓｍが６０μｍ以上２００μｍ以下であり、十点平均粗さＲｚ（μｍ）が５．０μｍ以上２５．０μｍ以下であり、且つ、トナーは、４０℃，９５％ＲＨ、７２時間放置後の示差走査熱量計（ＤＳＣ）により測定される昇温１度目のＴｇ１（℃）と、降温後、昇温２度目のＴｇ２（℃）との関係が、下記式（１）を満たすことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a polyether polyol type hyperbranch polymer that is simply produced, inexpensive, and chemically stable even under acid and alkali environment, and that controls hydrophile-lipophile balance and degree of roughness and fineness of branching point of core by selection of monomer used in synthesis of core part and change of reaction molar ratio, and contains an active ingredient, and to provide an active ingredient support using the hyperbranch polymer as a supporting body.
簡便に製造できて安価であり、酸やアルカリ環境下でも化学的に安定で、且つ、コア部分の合成に用いるモノマーの選択や反応モル比を変えることにより親水・疎水的バランスやコアの分岐点の粗密の程度を制御可能な、有効成分を内包できるポリエーテルポリオール型ハイパーブランチポリマー及び該ハイパーブランチポリマーを保持主体として用いた有効成分保持体を提供する。 - 特許庁 - As for the achromatic lens, the refractive lens is made of a refractive lens material being at least one selected from a group consisting of lithium fluoride and magnesium fluoride and the diffraction lens is made of a diffraction lens material being at least one selected from a group consisting of lithium fluoride and magnesium fluoride, wherein the mean square deviation value (rms value) of the surface roughness of the grating of the diffraction lens is 5 nm or less.
この色消しレンズでは、屈折レンズは、フッ化リチウム、フッ化マグネシウムからなる群から選ばれる少なくとも一種である屈折レンズ材料を用いて形成されており、回折レンズは、フッ化リチウム、フッ化マグネシウムからなる群から選ばれる少なくとも一種である回折レンズ材料を用いて形成されており、回折レンズの格子の表面粗さの平均二乗偏差値（ｒｍｓ値）は、５ｎｍ以下である。 - 特許庁 - To provide a photoacid generator for preparing a resist composition forming an excellent pattern shape because of excellent resolution, a wide margin of depth of focus (DOF), a small line edge roughness (LER) and further high sensitivity, and to provide a polymerizable monomer for preparing the photoacid generator in the resist composition composed of a resin having an acid unstable group and functioning as a positive resist, the acid generator and a solvent, etc.
酸不安定性基を有しポジ型レジストとして機能する樹脂、酸発生剤および溶剤などからなるレジスト組成物において、解像度に優れ、焦点深度余裕（ＤＯＦ）が広く、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が小さく、さらには感度が高いことから優れたパターン形状を形成できるたレジスト組成物を調製するための光酸発生剤およびそれを調製するための重合性単量体を提供する。 - 特許庁 - In the method of printing a pattern part on a substrate by an inkjet system using an ink containing a catalyst and drying it, and forming the metal pattern by electroless plating processing on the pattern part, the catalyst is a soluble palladium metal complex, the ink containing the catalyst has a pH of 10.0-14.0, and the printed pattern part before the electroless plating processing has a surface roughness Ra of 30 to 45 nm.
基板の上に、触媒を含有するインクをインクジェット方式でパターン部を印字、乾燥し、該パターン部の上に無電解めっき処理によって金属パターンを形成する方法において、該触媒が可溶性パラジウム金属錯体でかつ該触媒を含有するインクｐＨが１０．０〜１４．０であり、前記無電解めっき処理前の印字パターン部の表面粗さＲａが３０ｎｍ以上４５ｎｍ以下であることを特徴とする金属パターン形成方法。 - 特許庁 - The copper foil for the printed wiring board is set to be used while stuck on a surface of the insulating substrate 4, and a flattening copper plating layer 2 which gives a kurtosis Rku of ≤4 and a skewness Rsk of ≤0 to a roughness curve, defined by JIS B0601-2001, of a surface set to be stuck on the insulating substrate 4 is provided on an original foil 1.
絶縁性基板４の表面に対して張り合わされて用いられるように設定されたプリント配線板用銅箔であって、前記絶縁性基板４に対して張り合わされるように設定された面のＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１で定義される粗さ曲線のクルトシスＲｋｕを４以下にすると共にＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１で定義される粗さ曲線のスキューネスＲｓｋを０以下にする平坦化銅めっき層２を、原箔１上に設ける。 - 特許庁 - To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.
遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Substances which are supplied to a portion to be laser irradiated and its peripheral part through an atmosphere around illuminated laser light during laser irradiation in the marking step, and which generate minute surface roughness generated on the surface of a concavity by forming the concavity by laser irradiation are eliminated from the portion to be laser irradiated and its peripheral part, and marking by laser irradiation is carried out in this state.
前記マーキング工程おけるレーザ照射中に、レーザ照射光周辺の雰囲気を介してレーザ照射部及びその周辺部に供給される物質であって、かつ、レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する微細な表面荒れを生じさせる原因物質を、レーザ照射部及びその周辺部から排除した状態とし、かつこの状態でレーザ光照射によるマーキングを実施する工程を備える。 - 特許庁 - The surface of the outer coating layer 2 is structured, and a recessed part 3 formed by structuring is filled with filler 4 made of an easily evaporable metal or metal alloy to obtain the surface with a small roughness.
金属、導電セラミック等を放電侵食加工により切断するためのワイヤ電極であって、金属又は金属合金から成る単一の芯１または複合芯が設けられており、侵食加工の際に消耗する少なくとも１つの被覆層２が設けられている形式のものにおいて、外側の被覆層２の表面が構造化されて形成されていて、構造化により形成された凹部３に、粗さの小さい表面を得るために、容易に蒸発可能な金属から成る充填材４もしくは金属合金が充填可能である。 - 特許庁 - The surface 1B on the reverse side of the surface 1A where the oxide superconductive layer 3 is laminated and composed of a nickel alloy has a surface roughness Ra from 50 nm to 1 μm.
本発明の酸化物超電導線材用基材１は、金属基材１の一方の面上に中間層２と酸化物超電導層３と保護層４がこの順に積層されて超電導積層体７が構成され、この超電導積層体７の周囲に金属安定化層５が形成されて酸化物超電導線材１０を構成するための金属基材１であって、ニッケル合金よりなり、酸化物超電導層３が積層される側の面１Ａとは反対側の面１Ｂの表面粗さＲａが５０ｎｍ以上１μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - In the solid polymer fuel cell, in which the porous metal body is arranged at least one side of the gas diffusion layer, comprising a polymer electrolyte membrane, and pairs of catalyst layers and gas diffusion layers arranged by sandwiching the polymer electrolyte membrane, boehmite alumina with an average roughness Ra of 5 nanometers or more to 1 micrometer or less is arranged at least a part of the surface of the porous metal body.
高分子電解質膜と、該高分子電解質膜を挟持して配置された一対の触媒層及びガス拡散層とを備え、さらに前記ガス拡散層の少なくとも一方の側に多孔質金属体を配置した固体高分子型燃料電池であって、前記多孔質金属体の表面の少なくとも一部に平均粗さＲａが５ｎｍ以上１μｍ以下のベーマイトアルミナが設けられている固体高分子型燃料電池。 - 特許庁 - The image forming element includes an image forming layer and a base, the base includes a closed-cell foam core sheet and upper and lower flange sheets bonded to the core sheet, the upper flange sheet contains an oriented polystyrene or polypropylene polymer, the modulus of the upper flange sheet is 1,000-3,500 MPa and the roughness of the upper surface of the base is <0.4 μm Ra.
画像形成層とベースとを含んで成る画像形成要素であって、前記ベースが、独立気泡フォームコアシートとそれに接着された上部および下部フランジシートとを含んで成り、前記上部フランジシートが配向ポリスチレンまたはポリプロピレンポリマーを含んで成り、前記上部フランジシートのモジュラスが１０００〜３５００ＭＰａの間であり、前記ベースの上部表面の粗さが０．４μｍＲａ未満である画像形成要素。 - 特許庁 - To provide a positive type photoresist composition less liable to a sensitivity change with the lapse of time in the production of a semiconductor device and having improved density dependency, a positive type photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in the formation of a contact hole pattern and less liable to generate particles in a resist solution and a positive type photoresist composition ensuring improved edge roughness of a resist pattern and excellent in shelf stability.
半導体デバイスの製造において、経時での感度変動が少なく、また、疎密依存性が改善されたポジ型フォトレジスト組成物、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、また、レジスト液中のパーティクルの発生が少ないポジ型フォトレジスト組成物、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、また、保存安定性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition which is improved in line edge roughness, pattern profile, EUV light exposing sensitivity, and dissolution contrast, and is used in manufacturing processes of semiconductors such as ICs, circuit boards for such as liquid crystals and thermal heads, and in other photofabrication processes, and also provide a pattern forming method using this composition.
ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The proton conductive film is manufactured without lowering its strength by effectively introducing a proton conductive group in a film-shaped polymer compound having indentations with a surface roughness Ra of 0.5 μ to 2 μ, by the above, the proton conductive film having high uniformity of inner surface, high proton conductivity, and a high methanol blocking property, can be manufactured in a simple manner.
表面粗度Ｒａが０．０５μ〜２μの凹凸を持つフィルム状の高分子化合物にプロトン伝導性基を導入することを特徴とするプロトン伝導性膜の製造方法とすることで、フィルムの強度の低下を生じることなく、有効にプロトン伝導性基を導入できるので、高いプロトン伝導度かつ高いメタノール遮断性を有するプロトン伝導性膜を、簡便な方法で面内の均一性高く製造することができる。 - 特許庁 - In the method of producing copper foil, one or both surfaces of copper or copper alloy foil which is produced by electrolysis or rolling and in which the average surface roughness of at least one side lies in the range of 0.1 to 10 μm in terms of Rz are electrochemically dissolved and smoothened, and if required, the smoothened face is subjected to copper plating or Ni plating.
本発明は、少なくとも片面の平均表面粗度がＲｚ：０．１〜１０オｍの範囲内にある電解又は圧延にて製造した銅又は銅合金箔の片方もしくは両方の表面を電気化学的に溶解、平滑化させ、必要により該平滑面に銅めっき又はＮｉめっきを行うことを特徴とする銅箔の製造方法たことを特徴とする銅箔の製造方法、並びに該製造方法で製造された銅箔である。 - 特許庁 - To provide a method and a device for smoothly finishing the surface of a micro structural body at an optical level by improving a micro roughness on the surface of the micro structural body by defects of mask edge shape and a reaction in a resist when the micro structural body is finished by X-ray lithography or photo lithography including a lithography step in a LIGA process.
ＬＩＧＡプロセスにおけるリソグラフィ工程を含むＸ線リソグラフィやフォトリソグラフィ等により微小構造体を加工した際において、マスクエッジ形状の欠陥や、レジスト内に生じる反応等によって発生する微小構造体の表面の微小な荒れを改善し、当該微小構造体の表面を光学レベルで平滑にすることができる表面加工方法及び表面加工装置等を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a source of light with 157 nm is used, having a wide defocus latitude, less liable to cause line edge roughness, free of concern for negative formation because a resist film is substantially thoroughly dissolved when developed with a developer and ensuring slight trailing of a line-and-space pattern.
１６０ｎｍ以下、特にＦ２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、デフォーカスラチチュードが広く、ラインエッジラフネスが発生し難く、現像液で現像した際にレジスト膜が実質的に完全に溶解してネガ化の懸念がなく、ラインアンドスペースパターンの裾引きが小さいポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - A bipolar battery 100 forms a power generation element 160 by alternately stacking a bipolar electrode 230 in which a positive electrode layer 210 is formed on one surface of a current collector 200 and a negative electrode layer 220 on the other side and an electrolyte layer 240 conducting ion exchange between the bipolar electrodes, and the surface roughness of an electrode layer forming part and that of a sealing member sticking part of the current collector are made different.
集電体２００の一方の面には正極層２１０が形成されその他方の面には負極層２２０が形成されたバイポーラ電極２３０と、バイポーラ電極相互間でイオン交換を行う電解質層２４０とを交互に複数積層して発電要素１６０を形成するバイポーラ電池１００であって、集電体の電極層形成部分とシール部材貼付部分２００Ａとの表面粗度が異なっている。 - 特許庁 - In the laminated polyester film continuously formed using a coextrusion method and containing three or more polyester layers, light transmittance at a wavelength of 370 nm is not more than 3%, haze is not more than 3%, a refractive index in a thickness direction is 1.490-1.505, surface roughness Ra is 3-30 nm and the concentration of an ultraviolet absorber in each of layers satisfies a specific range.
共押出法を用いて連続製膜された３層以上のポリエステル層を含んだ積層ポリエステルフィルムにおいて、波長３７０ｎｍでの光線透過率が３％以下、ヘーズが３％以下、厚み方向の屈折率が１．４９０以上１．５０５以下、表面粗さＲａが３ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、層中の紫外線吸収剤濃度が特定範囲を満足することを特徴とする積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus for rapidly and reliably drying a substrate by drying process that is performed after wet washing process, and to quickly remove an unneeded thin film formed at and adhered to the bevel and edge sections of the substrate while obtaining a steel slope edge profile even if the film is hard, and to restrain surface roughness at the bevel and edge sections after removing the unneeded thin film.
ウェット洗浄処理後に行われる乾燥処理で、基板を迅速かつ確実に乾燥できるようにした基板処理装置、並びに、基板のベベル部乃至エッジ部に成膜乃至付着した不要な薄膜を、例え硬質な膜であっても、急勾配なエッジプロファイルを得た状態で、短時間で除去でき、しかも、不要な薄膜を除去した後のベベル部乃至エッジ部における表面粗さを小さく抑えることができるようにする。 - 特許庁 - A surface coat layer 3 is formed on the surface, where an electronic part is mounted, which comprises an organic insulating resin comprising an inorganic insulating filler, with a saturation water-absorption coefficient 0.2% or less and a surface roughness Rmax being 5 μm or less.
有機樹脂を繊維基材に含浸させた複数の絶縁層１からなる絶縁基板２と、この絶縁基板２の表面および内部に配設された回路導体４とを具備してなり、少なくとも一方の表面に電子部品が実装される多層配線基板５において、電子部品が実装される表面に、無機絶縁物フィラーを含有した有機絶縁性樹脂からなり、飽和吸水率が0.2％以下でありかつ表面粗さＲmaxが５μｍ以下である表面被覆層３を形成したことを特徴とする多層配線基板５である。 - 特許庁 - Besides, the image forming method comprises a latent image forming process, a developing process, a transfer process and a cleaning process, and the surface of the latent image carrier is ground while maintaining the relation between the surface roughness Rz and the wear velocity W of the latent image carrier shown by the aforesaid inequality.
Ｒｚ（ｎｍ）＜３．６×Ｗ＋３０Ｒｚ：原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による８０μｍ長さでの１０点平均粗さＷ ：磨耗速度（ｎｍ／１０００回転）、ただし１＜Ｗ＜２０又は、潜像形成工程と、現像工程と、転写工程と、クリーニング工程とを具備し、前記潜像担持体の表面粗さＲｚ及び磨耗速度Ｗを前記式の関係を保たせながら、前記潜像担持体の表面を研磨することを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁 - The cleaning tape having a lower coating layer containing principally non-magnetic inorganic powder and a binder and a cleaning layer containing at least ferromagnetic inorganic powder and a binder in this order on a substrate made of an aromatic polyamide is characterized in that the surface of the cleaning layer has 3 to 6 nm surface roughness Ra and 0.4 to 2.0 mm projecting curl at room temperature.
芳香族ポリアミド製支持体上に、主として非磁性無機粉末及び結合剤を含有する下層塗布層と、少なくとも強磁性粉末による無機粉末及び結合剤を含有するクリーニング層とをこの順に有してなるクリーニングテープにおいて、前記クリーニング層表面の表面粗さＲａが３〜６ｎｍであり、前記クリーニング層面が室温において凸向きに０．４〜２．０ｍｍの範囲のカールを有していることを特徴とするクリーニングテープ。 - 特許庁 - This polarizing plate includes a polarizer, and a cycloolefin polymer resin film bonded onto at least one surface of the polarizer, an average surface roughness Ra is 10 to 200 nm, in a bonded face of the cycloolefin polymer resin film onto the polarizer, and a transmission-axis-directional shrinkage rate of the polarizer is 20% or less, after standing for 10 hours under the atmosphere of 105°C.
偏光子と、該偏光子の少なくとも一方の表面に貼合される環状オレフィン系樹脂フィルムとを含み、該環状オレフィン系樹脂フィルムの前記偏光子との貼合面の平均表面粗さＲａが、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、及び前記偏光子を温度１０５℃の雰囲気中に１０時間放置した後の偏光子の透過軸方向収縮率が２０％以下であることを特徴とする偏光板である。 - 特許庁 - The polypropylene resin foamed sheet laminate comprises a polypropylene resin film, the print layer, a polypropylene resin layer, a polypropylene resin foamed sheet sequentially laminated from a surface in such a manner that a centerline mean roughness of the polypropylene resin film surface side of the laminate is in a range of 1 to 6 μm and releasing strengths of the polypropylene resin film and the print layer are 4.3 N/25 mm or more.
本発明のポリプロピレン系樹脂発泡シート積層体は、表面からポリプロピレン系樹脂フィルム、印刷層、ポリプロピレン系樹脂層、ポリプロピレン系樹脂発泡シートが順に積層されている発泡シート積層体であって、該積層体のポリプロピレン系樹脂フィルム面側の中心線平均粗さが１〜６μｍの範囲内であり、ポリプロピレン系樹脂フィルムと印刷層との剥離強度が４．３Ｎ／２５ｍｍ以上に形成されている。 - 特許庁 - To provide a mirror polishing method for grinding silicon wafer without causing machining damage such as scratching and forming a deteriorated layer by machining on a grinding silicon wafer surface, causing little surface roughness, generating little rolled edge, obtaining a high flatness easily, needing little amount of polishing, improving a throughput, having no problem in treating etching waste liquid and causing no damage to a polishing device and jigs.
研削シリコンウエハ表面にスクラッチや加工変質層の形成などの加工ダメージを与えることがなく、表面粗さが小さく、エッジ部ダレの発生も少なく、高平坦度が容易に得られ、必要研摩量も少なくて済み、スループットが向上し、しかも、エッチング廃液の処理問題もなく、さらにアルカリ廃液の処理問題ならびに研摩装置および治具の損傷等もない研削シリコンウエハの鏡面研摩方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The polyester film roll is obtained by winding the polyester film wherein the three-dimensional average surface roughness of one surface (A) of the polyester film is ≤10 nm while the surface resistivity (Ω) of the other surface (B) is within the range represented by the formula 1: logΩ≥12.
ポリエステルフィルムの一方の表面（Ａ）の三次元平均表面粗さが１０ｎｍ以下であり、もう一方の表面（Ｂ）の表面固有抵抗値（Ω）が下記式１で示される範囲であるポリエステルフィルムを巻きとってなるポリエステルフィルムロールであって、前記ポリエステルフィルムロールから前記ポリエステルフィルムを０ｍ／分を超え１５０ｍ／分以下の巻き出し速度で巻き出した際の前記ポリエステルフィルムにおける巻き出し帯電量（Ｅ）が下記式２で示される範囲であって、かつ前記ポリエステルフィルム上の高低差３ｍｍ以上の隆起状欠点が５個／５０００ｍ^２以下であることを特徴とするポリエステルフィルムロール。 - 特許庁
- 特許庁
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- 原題：”THE CHEMICAL HISTORY OF A CANDLE”
邦題：『ロウソクの科学』 - This work has been released into the public domain by the copyright holder. This applies worldwide.
(C) 1999 山形浩生
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- 原題：”THE CHEMICAL HISTORY OF A CANDLE”
