「SCRATCH」を含む例文一覧(4213)
＜前へ 1 2 .... 71 72 73 74 75 76 77 78 79 .... 84 85 次へ＞- To provide a manufacturing method of a substrate for magnetic disk and a manufacturing method of a magnetic disk by which the occurrence of scratch can be reduced by eliminating efficiently grinding scrap in grinding slurry, grinding pad scrap, or glass scrap, when a glass substrate is ground by grinding slurry including grinding grain.
ガラス基板を砥粒を含む研磨スラリーで研磨する場合に、研磨スラリー中の研磨くず、研磨パッドくずもしくはガラスくずを効率的に除去することにより傷の発生を低減しうる磁気ディスク用基板の製造方法、ならびに磁気ディスクの製造方法、を提供するものである。 - 特許庁 - To provide a laminated polyester film exhibiting excellent heat resistance enough not to cause deterioration in flatness, excellent also in oligomer deposition-inhibiting property even when subjected to a heat treatment at a high temperature in a processing step for applying it to various uses, further excellent in scratch resistance and applicable to various uses.
種々の用途で使用するための加工工程において高温熱処理された場合でも、平面性が悪化せずに耐熱性に優れ、またオリゴマーの抑止性にも優れ、さらに耐傷性にも優れ、各種用途への展開可能な積層ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁 - Since the second mask used to adhere a plurality of times by moving does not come into direct touch with the organic light emitting material, a scratch does not occur, mask matching becomes easy, a back face electrode mask by the first mask is fixed to dispense with new mask matching, and a process becomes simple.
移動して複数回付着するのにもちいる第二のマスクは有機発光材料に直接タッチしないので傷がつかない、またマスク合わせが容易であり、第一のマスクによる背面電極マスクは固定されあらたなマスク合わせは不要であり、工程が簡単になる。 - 特許庁 - To provide a decorative sheet which has high design properties caused by applying an uneven pattern on the surface and exhibits excellent surface physical properties such as scratch resistance and does not generate chlorine compd. etc., even when incineration means is used as a processing means for destruction rubbishes and is inexpensive.
表面に凹凸模様が施されることによる高意匠性を有し、耐スクラッチ性等の表面物性に優れるとともに、廃材の処理手段として焼却手段を利用する際にも塩素化合物等の発生のない低価格の化粧シートを提供することにある。 - 特許庁 - To provide a resin for an aqueous ink for printing on films, which is intended for obtaining the aqueous ink for printing on films having improved characteristics such as scratch resistance, water resistance, shelf stability and adhesion to a substrate film compared to conventional ones, and a resin composition for the aqueous ink for printing on films.
耐擦傷性や耐水性、保存安定性、基材フィルムに対する付着性等の各特性において、従来よりも改善されたフィルム印刷用水性インクを得るためのフィルム印刷水性インク用樹脂及びフィルム印刷水性インク用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an antireflection film which has an excellent antireflection function having no irregularity of reflected colors, which has high film strength after a forced deterioration test which becomes the index of durability in particular, and which has an antistatic function excellent in scratch resistance, and to provide a polarizing plate and an image display device.
本発明の目的は、反射色ムラのない優れた反射防止機能を有し、特に耐久性の指標となる強制劣化試験後の膜強度が強く、耐傷性に優れた耐電防止機能を有する反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置を提供することにある。 - 特許庁 - To eliminate a scratch in the external periphery of a piston rod caused by a coil spring, and avoid closing of a lateral hole in a bypass oil path provided in the piston rod for adjusting damping force, in a hydraulic shock absorber performing damping action at extending-out time by a main rebound unit and the coil spring.
主リバウンド体とコイルスプリングによって伸び切り時の緩衝をする油圧緩衝器において、コイルスプリングによってピストンロッドの外周を傷つけることがなく、また減衰力調整のためにピストンロッドに設けたバイパス油路の横孔を塞ぐことを回避すること。 - 特許庁 - To provide a polymer composition for an aqueous inkjet ink that is low viscous, exhibits good jetting stability and permits preparation of an aqueous inkjet ink capable of preparing printed matter excellent in gloss, scratch resistance and water resistance even when printed on a plastic base material.
低粘度であるとともに吐出安定性が良好であり、かつ、プラスチック基材に印字する場合であっても、光沢、耐擦性、及び耐水性に優れた印字物を作製可能な水系インクジェットインクを調製することのできる水系インクジェットインク用ポリマー組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a CMP device, polishing method for CMP, a semiconductor device, and its manufacturing method which are capable of suppressing the generation of dust or polishing scratch generated on a wafer due to the drying of a polishing pad or slurry under storage, in the CMP device having automatic exchanging function of the polishing pad.
研磨パッドの自動交換機能を有するＣＭＰ装置において、保管中の研磨パッドやスラリーが乾燥することによる発塵やウエハに発生する研磨傷を抑制することのできるＣＭＰ装置、ＣＭＰ研磨方法、半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photoreceptor having good wear resistance and an extended lifetime, wherein a scratch of an imaging member in one or more surface layers of the member (which causes an observable undesirable print defect on a produced final print) is reduced or minimized.
良好な耐摩耗性および延長した寿命を有し、部材の単数又は複数の表面層における撮像部材の傷（これは生み出された最終印刷物上で目視できる望ましくない印刷欠陥を生じる）が減少または最小化した感光体を提供する。 - 特許庁 - To provide a permanent protection hard mask for protecting the dielectric characteristics of a main dielectric layer that has undesired low permittivity of a semiconductor device due to undesired increase in permittivity, undesired increase in current leakage, and a low device yield caused by surface scratch, when a continuous treatment processing is conducted.
誘電率の不所望な増大による半導体デバイスの不所望な低誘電率，不所望な電流漏洩の増大，および連続処理工程の際の表面スクラッチによる低いデバイス歩留まりを有する主誘電体層の誘電体特性を保護する永久的保護ハードマスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a contact/separating mechanism for a developing unit, which eliminates possibility of leakage of developer or the occurrence of scratch of a photoreceptor or a developing roller when removing a few objects to be cleaned which is held between a photoreceptor drum and a cleaning blade by rotating the photoreceptor drum in reverse.
感光ドラムを逆回転させて、感光ドラムとクリーニングブレードとの間に挟み込まれた僅かな被清掃物を除去するにあたり、現像剤漏れや感光体または現像ローラの傷の発生の恐れを払拭した現像ユニットの接離機構を提供すること。 - 特許庁 - Since an antistatic function is obtained by electrostatic plantation processing for the surface of the base member 1a, the generation of static electricity is suppressed even if friction is caused between the placed record disk 2 and the mat by scratch performance operation or the like, the sticking of dust to the record disk 2 is suppressed.
ベース部材１ａ面への静電植毛処理により帯電防止機能が得られることから、スクラッチパフォーマンス操作等により、載置されたレコード盤２との間にたとえ摩擦が生じたとしても、静電気発生は抑制され、レコード盤２へのごみ付着は軽減される。 - 特許庁 - To provide a photocurable ink composition exhibiting an excellent close adhesion in printing on various plastics, glasses and metal media, and also capable of obtaining a printed matter excellent in hardness and scratch resistance, and the printed matter printed by using the same.
本発明の目的は、種々のプラスチック、ガラス、金属媒体上に印刷した際に、優れた密着性を発現し、かつ硬度、耐擦傷性に優れた印刷物を得ることができる光硬化性インク組成物、及びそれによって印刷された印刷物を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a slitter capable of cutting beltlike sheets having various thicknesses and made of various materials into various widths without using a grooved roll causing a scratch and dust adhered to a sheet face and without causing improper cutting causing ear rising of a winding roll in a sheet dividing and winding device.
シート分割巻取装置において、厚みや材質が多種多様な帯状シートを、シート面に傷やゴミをつける原因となる溝付きロールを用いず、しかも巻取ロールの耳立ちの原因等になる切断不良が生じないように、多様な幅に切断できるスリッターを提供する。 - 特許庁 - To provide ink for an inkjet pigment which has excellent dispersion stability, realizes high discharge stability even when an inkjet recording method for discharging ink by applying thermal energy is employed, and enables image formation having realized sufficient scratch-proof properties even when glossy paper is used.
優れた分散安定性を有し、熱エネルギーをインクに加えて吐出させるインクジェット記録方法に用いた場合にも、高い吐出安定性が実現され、光沢紙を用いた場合でも、十分な耐擦過性を実現した画像形成ができるインクジェット用顔料インクの提供。 - 特許庁 - To provide a pad and method for chemical mechanical polishing which can establish high flatness when chemically and mechanically polishing a semiconductor device that is provided with two layers of insulator having different hardness and hardly generates surface defect such as peeling or scratch of a material.
硬度の異なる二層の絶縁体層を有する半導体装置の化学機械的研磨において高度の平坦性が得られ、材料の剥がれやスクラッチ等の表面欠陥が発生することのない化学機械研磨パッドおよび化学機械研磨方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an active energy ray curable composition giving an organic-inorganic hybrid resin coating film having excellent curability and scratch resistance and highly balanced hardness and shrinking resistance and enabling easy impartment of various functions such as antistaticity and stainproofness.
硬化性、耐擦傷性に優れ、さらに硬度および耐収縮性のバランスにも優れた有機無機ハイブリッド樹脂塗膜を形成することができ、さらに、帯電防止性や防汚性などの種々機能を容易に付加することができる活性エネルギー線硬化性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide an antireflection film which is improved in scratch resistance, cracking resistance, haze light resistance and coating evenness, to provide a method of manufacturing the antireflection film, and to provide a polarizer and a display device which are excellent in visibility by using the antireflection film.
本発明の目的は、耐傷性、クラック、ヘイズ耐光性、塗布むらが改善された反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法を提供することにあり、更に該反射防止フィルムを用いることにより視認性に優れた偏光板、表示装置を提供することにある。 - 特許庁 - The ink for a jet printer having not only good adhesiveness but also good resistance to scratch, rubbing by hands, and alcohols and further having quick-drying properties is achieved by combining a chlorinated polyolefin resin with a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin and also using a specific solvent.
塩素化ポリオレフィン樹脂と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂とを組み合わせるとともに、特定の溶剤を使用することで、付着性だけでなく、擦過および手もみ耐性、アルコール耐性が良好であり、さらに、速乾性も持つジェットプリンター用インクとすることができた。 - 特許庁 - To provide a nonaqueous inkjet ink having print adaptability (scratch resistance, and resistance against alcohol wiping) to a recording medium made of plastic such as polyvinyl chloride, excellent safeness and no problem of odor in use, particularly excellent fast drying property, and to provide an inkjet recording method using the ink.
ポリ塩化ビニルなどのプラスチック製の記録媒体に対する印字適性（耐擦性、アルコール拭き取り耐性）を有し、安全性に優れ、臭気の問題が無く使用でき、特に速乾性に優れる非水系インクジェットインクとそれを用いたインクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a touch panel with which the generation of scratch of a transparent electrode being manufactured and the release of the transparent electrode can be prevented by forming the transparent electrode in a partition wall of an extra transparent projection part and to provide a manufacturing method of the touch panel.
別途の透明突出部を採用して透明電極を透明突出部の隔壁内に形成することにより、製造工程中の透明電極へのスクラッチ発生および透明電極の剥離を防止することが可能なタッチパネルおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a polymer composition for an aqueous binder that is low viscous, exhibits good dispersibility of a filler and enhances binding properties of the filler to permit preparation of a filler dispersion such as an aqueous ink capable of forming a coating film excellent in scratch resistance and water resistance.
低粘度であるとともにフィラーの分散性が良好であり、かつ、フィラーの結着性を向上させて耐擦性及び耐水性に優れた塗膜を形成可能な水系インク等のフィラー分散液を調製することのできる水系バインダー用ポリマー組成物を提供する。 - 特許庁 - An aqueous copolymer containing a polyorganosiloxane with a hydroxyl group and modified with a specific kind of silane in combination with an inorganic nano-particles is suitable for manufacturing a coated material with remarkably improved anti-scratching properties, a superior gloss very low cloud (clouding degree) and thus having a remarkably improved scratch resistance.
ヒドロキシル基を含有するポリオルガノシロキサンを含有し、特定の種類のシランで修飾されている水性コポリマーは、無機ナノ粒子との組み合わせで、優れた光沢および非常に低い曇り（曇り度）での著しく向上した耐引掻性を有する被覆物の製造に適していることを見出した。 - 特許庁 - To provide a slot-in type disk device in which scratch on the signal recording surface of a disk during insertion and ejection of the disk is prevented, excessive load being exerted on a disk carrying-out mechanism during disk ejection is especially prevented and the insertion and ejection operations of the disk are facilitated.
スロットイン方式のディスク装置において、ディスクの挿入・排出時にディスクの信号記録面が傷付くことを防止し、特にディスクの排出時にディスク搬出機構に過大な負荷がかかることを防止して、ディスクの挿入・排出を容易にしたディスク装置を提供する。 - 特許庁 - To obtain a composition for polishing, capable of polishing a material having a high hardness such as a glass substrate material or a semiconductor substrate material at a high polishing rate, and providing no problem in the smoothness of the polishing, the uniformity, the generation of scratch wound and the residue of abrasive grains of the polishing agent.
ガラス基板材料又は半導体基板材料等の硬度の大きい材料に対する研磨速度が高く、かつ研磨の平滑性、均一性、スクラッチ傷の発生、被研磨物の表面に研磨剤砥粒が残留する等の問題のない研磨用組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a inexpensive spinning nozzle enduring a continuous use at a high temperature and under a high pressure for a long time without leaking a resin, having rigidity for enduring a grinding an mirroring finish at the ejecting hole of the nozzle and having a hardness for enduring a scratch by wiping.
安価でありながら樹脂を漏出させずに長時間の高温高圧下での連続使用に耐え、ノズルと口金の噴出孔側の研磨と鏡面仕上加工に耐える固定力があり、ワイピングによって傷が付かない硬さがある紡糸口金とその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a lithographic printing method which uses the same lithography support for a plurality of printing jobs, does not need an alkaline chemical for treating an image recording layer, gives a high operation length, and meets such requests for a lithographic printing material as scratch resistance and chemical resistance.
複数の印刷ジョブに同じ平版支持体を使用し、像記録層がアルカリ性化学品による処理を必要とせず、高い運転長さを与え、引っかき抵抗及び耐薬品性の如き平版印刷版材料の要求を適える平版印刷の方法を提供する。 - 特許庁 - To achieve improvement in polishing rate, decrease in scratch, reduction of variation in polishing level in a wafer surface, and decrease in consumption of polishing slurry, and furthermore to achieve appropriate holding of the slurry between an object and a polishing pad, with a value of polishing rate kept appropriate, and with in-plane uniformity of the object improved after polishing.
研磨レートの向上、スクラッチの低減、研磨量のウエハ面内でのバラツキを小さくし、研磨スラリの消費低減、更に被研磨体と研磨パッドとの間の適切なスラリの保持、研磨レートの適正値維持、被研磨体における研磨後の面内均一性の向上を図る。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus capable of producing high quality flawless image by preventing any scrubbed scratch on a photoreceptor body caused by magnetic particles attaching to a belt shaped body holding a record material, even when a magnetic brush charger employing magnetic particles is used for charging the photoreceptor body.
感光体の帯電に磁性粒子による磁気ブラシ帯電器を用いても、ベルト状記録材担持体に付着した磁性粒子による感光体の摺擦傷を防止して、傷等の欠陥のない良好な画像を得ることを可能とし画像形成装置を提供することである。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which is cured by radiation, has high hardness, is excellent in scratch resistance, adhesiveness and transparency, has excellent performance of wiping off permanent ink of the Magic Marker (R) and a low refractive index and exhibits low reflectance when used for forming an antireflection film and to provide the antireflection film having a cured film of the photosensitive resin composition.
放射線によって硬化し、高硬度、耐擦傷性、密着性、透明性に優れ、マジック拭取り性が良く、低屈折率で反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有する反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for polishing the surface of a glass plate capable of suppressing the expansion of the scratch existing on the surface of glass plate and having a diameter of 40 μm or more to a diameter of 100 μm or more and to provide a glass substrate for the flat panel display polished by the method and the flat panel display using the glass substrate.
ガラス板表面に存在する直径４０μｍ以上の傷が１００μｍ以上に拡大することを抑制してガラス板表面を研磨する方法、この方法により研磨されたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板、及びこのガラス基板を使用したフラットパネルディスプレイの提供。 - 特許庁 - To provide an electromagnetic wave shielding sheet with a new structure, which has a novel grounding structure which makes direct connection to an outer earth terminal possible, which achieves reduction in the cost of a plasma display device without applying a special design to and giving a consideration to the plasma display, and on which a scratch is not easily made in a manufacturing process.
外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供する。 - 特許庁 - To provide an optical recording medium having excellent scratch resistance and antifouling properties of the surface of the optical recording medium on a recording and reproducing laser beam incident side, to provide its manufacturing method, to provide a recording and playback method of the optical recording medium and to provide an optical recording and reproducing apparatus.
記録及び再生レーザ光線が入射する側の光記録媒体表面の耐擦傷性や防汚性に優れた光記録媒体及び該光記録媒体の製造方法、並びに、光記録媒体の記録再生方法及び光記録再生装置の提供。 - 特許庁 - To provide a load cell that has strain gauges attached to metal plates fixed at both ends and excels in linearity between a displacement magnitude and a load value, as a detector for a scratch type tester for scratching a thin film applied to a surface of a solid to measure a surface dynamic characteristic such as adhesive strength.
固体の表面に施された薄膜を引っ掻いて密着強度などの表面力学特性を測定するスクラッチ式試験機の検出器として、両端を固定された金属板にひずみゲージを貼り合わせた、変位量と荷重値との直線性に優れたロードセルを提供する。 - 特許庁 - To provide a processing method for a silver halide color photosensitive material in which when continuous processing is carried out under low replenishment conditions, stain attributed to a sensitizing dye is reduced, excellent white background stability and image preservability are ensured, precipitation, and occurrence and accumulation of sludge are suppressed, and excellent scratch resistance is ensured.
低補充条件で連続処理を行った際に、増感色素に起因するステインが低減されて、白地安定性及び画像保存性に優れ、かつ析出やスラッジの発生、蓄積が抑制され、耐擦過性に優れたハロゲン化銀カラー感光材料の処理方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL element which can uniformize thickness of an adhesive when sticking an organic EL base board and a sealing member together, and prevent the laminated organic EL element from damage, scratch, and influence of oxygen and hydrogen.
有機ＥＬ基板と封止部材を貼り合わせる際、接着剤の厚さを所定の厚みに均一に設けることができ、積層された有機ＥＬ素子において破損や傷つきを防止でき、水分や酸素の影響を防止できる有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electric washing machine with high efficiency in washing laundry by repeatedly executing a tank rotating operation to rotate a spinning tub up to a predetermined number of rotations and a scratching-off operation to scratch off laundry clung to the inner wall surface of spinning tub after the tank rotating operation.
洗濯兼脱水槽を所定回転数まで回転させる槽回転動作と、その後に洗濯兼脱水槽の内壁面に張り付いた洗濯物を掻き落とす掻き落とし動作とを繰り返し実行することで、洗濯物の洗浄効率の高い電気洗濯機を得る。 - 特許庁 - To provide a coating resin composition without generating a scratch or scrape on the surface of a hardened film irrespective to curing temperatures and rubbing conditions, obtaining a good alignment function and a high picture quality in a liquid crystal display device, a liquid crystal-alignment layer, a liquid crystal-nipping substrate and the liquid crystal-display device.
液晶表示装置において、硬化温度、ラビング条件によらず硬化膜表面にキズ・削れが発生せず、良好な配向機能が得られる、高画質を示すコーティング樹脂組成物、液晶配向膜、液晶挟持基板及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - The laser beam L2, which is emitted into the nozzle 11 by passing through the through-hole 21 formed from the outer wall machining part 21a of the nozzle 11 to the inner wall machining part 21b, is emitted to the opposite part 22a of the inner wall facing the through-hole 21 of the inner wall in the nozzle 11 to cause a scratch 22.
ノズル１１の外壁加工部２１ａから内壁加工部２１ｂへ形成された貫通孔２１内を通過してノズル１１内に照射されるレーザ光Ｌ２は、ノズル１１の内壁の貫通孔２１に対向する内壁対向部２２ａに照射されて傷部２２が生じる。 - 特許庁 - To provide a floor material hardly influenced by water, having excellent surface properties such as scratch resistance and untifouling floor as a matter of course, hardly formed with a flaw or a recess on the surface particularly when load is applied to casters or the like, and also having excellent fall impact resistance.
水の影響を受け難く、耐擦傷性や耐汚染性等の表面物性に優れることは言うに及ばず、特に、キャスター等に荷重が掛かった場合においても、表面に傷や凹みが付き難く、耐落下衝撃性においても優れる床材を提供することである。 - 特許庁 - To provide a planographic printing plate applying a silver complex salt diffusion transfer process, excellent in various printing characteristics, excellent particularly in resistance to the stain of the non-image area and scratch stain (the stain of a scratched part of the plate surface) and having enhanced handleability.
本発明は銀錯塩拡散転写法を応用した平版印刷版は印刷諸特性に優れ特に非画像部分の汚れ及びスクラッチ汚れ（版面の引っ掻き傷部分の汚れ）に優れ取り扱い性の向上した平版印刷版を提供する事を目的とする。 - 特許庁 - To provide a polishing method, a polishing device, and a manufacturing method of a polishing tool for excellently exhibiting a polishing characteristic for various kinds of polishing objects by reducing a defect such as a scratch and sticking of resin caused on a polishing object surface of the polishing objects of a semiconductor wafer.
半導体ウェーハの研磨対象物の被研磨面に発生するスクラッチ等の欠陥および樹脂の付着を低減し、各種の研磨対象物に対してその研磨特性を良好に発揮できる研磨方法、研磨装置、および研磨工具の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce the occurrence of a scratch of a storage medium caused by contact of a head with the storage medium while securing stable access to a disk type storage medium regarding a disk drive, for example, a magnetic disk drive or the like which rotates a disk-shaped storage medium and accesses the storage medium.
本発明は、ディスク状の記憶媒体を回転させてその記憶媒体をアクセスする、例えば磁気ディスク装置等のディスク装置に関し、ディスク型記憶媒体への安定的なアクセスを確保しつつヘッドと記憶媒体との接触による記憶媒体の傷の発生を低減する。 - 特許庁 - To provide a pigment ink that gives excellent scratch resistance to an image formed on a recording medium having a coated surface, to a level that the coloring material of the image is free from abrasion even when rubbed with a material having a rough surface such as cleaning paper, even when the ink has a low content of the pigment.
顔料の含有量が低い場合においても、表面がコーティングされた記録媒体に形成した画像の耐擦過性を、シルボン紙などの表面の粗いもので擦っても色材が削れることがない程度に優れたものとできる顔料インクを提供すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a glass substrate for magnetic recording medium, which includes a step of end surface polishing capable of removing a processing scratch on the end surface in a short time and smoothing the end surface to achieve a high quality product, without transfer of the glass substrate between end surface polishing devices or brush replacement.
磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の端面研磨装置間の移動やブラシの交換をすることなく、端面の加工傷を短時間で除去し、かつ端面を高品質に平滑化することが可能な端面研磨工程を提供する。 - 特許庁 - To provide a solar battery backside protective sheet which overcomes a problem of the prior art, and which is less expensive and excellent in scratch resistance, solvent resistance, long-term outdoor weathering resistance, long-term moist heat resistance, and steam barrier property, and to provide a solar battery module with the solar battery backside protective sheet used therein.
本発明の課題は、従来の問題点を克服し、安価で、耐擦傷性、耐溶剤性、長期屋外耐候性、長期耐湿熱性、水蒸気バリア性に優れる太陽電池裏面保護シート、及び該太陽電池裏面保護シートを用いてなる太陽電池モジュールを提供することである。 - 特許庁 - To provide a thermocurable aqueous coating agent which contains no formaldehyde, has excellent storage stability, scratch resistance and excellent transporting property, and further forms a coated film having balanced properties of surface lubricity, processing and hardness after retort processing.
ホルムアルデヒドを含有せず、貯蔵安定性が良好であるとともに、耐傷つき性、搬送性に優れ、さらには、レトルト処理後においても塗膜の表面潤滑性、並びに加工性及び硬度のバランスに優れた塗膜を形成可能な熱硬化性缶用水性コーティング剤を提供すること。 - 特許庁 - The Prime Minister apparently has strong feelings about this reform promotion headquarters. He insisted that he will decide the appointment of all its staff and promised not to assemble a scratch team of members from various government organizations as has been done traditionally, so I respect his decision.
総理は、この改革推進本部については、大変深い思い入れがあるようでございまして、すべての職員に至るまで自分で決める、従来型の役所寄せ集め人事はやらないということでございましたので、総理の御決断に従ったということでございます。 - 金融庁 - To provide a method for manufacturing an epitaxial substrate that can reduce problems, such as occurrence of uneven peel of passivation film or watermark and impurity adsorption onto a Si substrate, thereby effectively preventing occurrence of white scratch defects due to dark current when making a solid state imaging device with the substrate.
表面保護膜の剥離ムラやウォーターマークの発生、及びＳｉ基板への不純物吸着等の問題を抑制することにより、固体撮像装置を作製した場合に暗電流の白傷欠陥の発生を効果的に防止可能なエピタキシャル基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
