「Sem」を含む例文一覧(400)

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  • Maximum number of semaphores per semid: implementation dependent (on Linux, this limit can be read and modified via the first field of /proc/sys/kernel/sem ).
    semid あたりのセマフォの最大数: 実装依存(Linux では、この制限値は/proc/sys/kernel/semの第1フィールドに対応し、読み出しも変更もできる)。 - JM
  • System wide maximum number of semaphores: policy dependent (on Linux, this limit can be read and modified via the second field of /proc/sys/kernel/sem ).
    システム全体のセマフォの最大数: 方針依存(Linux では、この制限値は/proc/sys/kernel/semの第2フィールドに対応し、読み出しも変更もできる)。 - JM
  • If SEM images are obtained by scanning of the electron beams, the probes in the SEM images can also be specified.
    電子ビームの走査によりＳＥＭ画像を取得していれば、ＳＥＭ画像中におけるプローブを特定することも可能である。 - 特許庁
  • In SEM, secondary electrons can traverse only short distances through a material because they have little energy.
    SEMでは、二次電子は、物質の中の短い距離しか進めない(ジグザグに); なぜなら、二次電子は僅かなエネルギーしか持たないからである。 - 科学技術論文動詞集
  • In a SEM, the conductivity which is induced by the electron beam can be investigated by applying a potential across the specimen.
    SEMでは、電子ビームにより誘起された導電度は、試料を横断して電位を印加することによって調べることができる。 - 科学技術論文動詞集
  • An instrument that combines an FE-SEM and a nanomanipulator system surpasses the limitation of manipulation with conventional optical microscopes.
    FE-SEMとナノマニュピレータ(操作)システムを結合した装置は、従来(通常)の光学顕微鏡によるマニュピレーション(操作)の限界を越えている。 - 科学技術論文動詞集
  • To acquire an SEM image of a high resolution while suppressing damage to a sample caused by electron beam irradiation accompanied by SEM imaging, regarding the acquisition of an image of a semiconductor pattern using SEM.
    ＳＥＭを用いた半導体パターンの画像の取得に関して、ＳＥＭの撮像に伴う電子線照射による試料へのダメージを抑えつつ、高分解能なＳＥＭ画像を取得することである。 - 特許庁
  • To provide a method of measuring a SEM shrink amount and a SEM distance measurement system capable of measuring the precise SEM shrink amount even though a base film is a film tends to accumulate charges.
    下地膜がたとえ電荷のたまりやすい膜であっても、正確なＳＥＭシュリンク量を計測することができるＳＥＭシュリンク量測定方法および測長ＳＥＭ装置を提供する。 - 特許庁
  • To inspect target defects without fail in a review SEM.
    レビューＳＥＭにおいて、目標とする欠陥を間違いなく検査する。 - 特許庁
  • SEM-TYPE DEFECT-REVIEWING DEVICE AND METHOD AND INSPECTION SYSTEM
    ＳＥＭ式欠陥レビュー装置およびその方法並びに検査システム - 特許庁
  • SAMPLE FOR SEM OBSERVATION AND ITS PREPARATION METHOD
    ＳＥＭ観察用サンプル及びＳＥＭ観察用サンプルの調製方法 - 特許庁
  • System wide maximum number of semaphore sets: policy dependent (on Linux, this limit can be read and modified via the fourth field of /proc/sys/kernel/sem ).
    システム全体のセマフォ集合の最大数: 方針依存(Linux では、この制限値は/proc/sys/kernel/semの第4フィールドに対応し、読み出しも変更もできる)。 - JM
  • To provide an SEM and its measuring method capable of quantitatively expressing quality of a sample image and improving measurement accuracy.
    サンプル画像の良否を定量的に表すことができ、測定精度を向上することができるSEM及びその測定方法を提供する。 - 特許庁
  • The spatial resolution of X-ray microanalysis in a SEM is degraded more significantly than are secondary and backscattered electron images.
    SEMにおけるX線微小分析の空間分解能は、二次電子および反射電子像の空間分解能よりも著しく低下させられる。 - 科学技術論文動詞集
  • In an SEM, it is necessary to place a permanent magnet in front of an EDS detector to deflect the backscattered electrons for electron energies above 25 keV.
    SEMの中では、25keVより大きなエネルギーの後方散乱電子を偏向させるため、EDS検出器の前に永久磁石を置く必要がある。 - 科学技術論文動詞集
  • An upper layer pattern and a lower layer pattern are subjected to pattern matching between SEM (Scanning Electron Microscope) images, to thereby generate an upper layer correlation map and a lower layer correlation map.
    上層パターンと下層パターンをそれぞれSEM画像の間でパターン・マッチングを行ない、上層相関マップと下層相関マップを生成する。 - 特許庁
  • The variation of shape is compensated using information of the edge in every direction and a smoothing method in the case a matching process between design data and a SEM image is carried out.
    また、設計データとSEM画像のマッチング処理を行う場合に方向別のエッジ情報とその平滑化により形状変化分を補う。 - 特許庁
  • An aperture with a plurality of openings is used to determine correction condition of aberration from a SEM images and feed back to adjust the aberration correction device.
    複数開口をもつ絞りを使用することにより、収差の補正状態をSEM画像から判定して、収差補正手段の調整にフィードバックする。 - 特許庁
  • IMPROVEMENT OF SEM IMAGE USING NARROW-BAND DETECTION METHOD AND COLOR ASSIGNMENT METHOD
    狭帯域検出法とカラ—アサインメント法を用いたＳＥＭ画像の改良 - 特許庁
  • SEM-AIDED APPEARANCE INSPECTION APPARATUS, REVIEW APPARATUS, AND ALIGNMENT COORDINATE SETTING METHOD
    ＳＥＭ式外観検査装置，レビュー装置、およびアライメント座標設定方法 - 特許庁
  • To provide a space-saving, inexpensive and high-response secondary electron detector, capable of acquiring TV-Scan rate images for VP-SEM which uses gas amplification in a low-vacuum sample chamber and a positive induced current detection system.
    低真空試料室内で起こるガス増幅を利用し、正の誘導電流検出方式を用いたVP-SEMにおいて、省スペースで安価でかつTV-Scanレート画像の取得が可能な高速応答のVP-SEM用二次電子検出器を提供する。 - 特許庁
  • A SEM 8 is arranged inside of the chamber 3, and this SEM 8 scans the wafer 2 with the electron beam, and observes a secondary electronic image emitted from a surface of the wafer 2, and generates an image (SEM image) of the surface of the wafer 2.
    チャンバー３内にはＳＥＭ８が配設され、このＳＥＭ８は、ウェハ２上に電子ビームを走査させ、その時にウェハ２の表面から放出される２次電子像を観察し、ウェハ２表面の画像（ＳＥＭ画像）を生成する。 - 特許庁
  • The external electromagnetic radiation causes random errors in measurement by an SEM 40.
    外部電磁放射は、ＳＥＭによる測定において、ランダムな誤差を発生させる。 - 特許庁
  • METHOD OF GENERATING FALSE SEM IMAGE DATA AND METHOD OF EXAMINING DEFECT OF PHOTOMASK
    擬似ＳＥＭ画像データの生成方法およびフォトマスクの欠陥検査方法 - 特許庁
  • The surface observation device 1 includes a shroud 11 and a SEM unit 13.
    表面観察装置１は、シュラウド１１及びＳＥＭユニット１３を有している。 - 特許庁
  • To simplify steps through collecting a sample piece for a TEM or SEM observation from an original sample up to molding it and setting an observation holder, and carry out the steps consistently in a sample treatment chamber.
    元試料から、TEMまたはSEM観察のための試料片の採取、成形および観察ホルダ設置までの工程を簡素化し、試料処理室において一貫して行なう。 - 特許庁
  • For the front side, normal scanning image (SEM image) is displayed, while for the back side, horizontally flipped SEM image is displayed, and both sides are fine processed by FIB device.
    表面の場合は、通常の走査像（ＳＥＭ像）を、裏面の場合は、左右反転したＳＥＭ像を表示し、そしていずれの場合も、その後ＦＩＢ装置で微細加工する。 - 特許庁
  • After the observation face 106 is observed by the SEM 107, the observation face 106 is removed so as to be sliced, and a new observation face is observed by the SEM 107.
    観察面１０６をＳＥＭ１０７で観察した後、観察面１０６をスライスするように除去し、再びＳＥＭ１０７により新たな観察面の観察を行なう。 - 特許庁
  • In the pattern inspection method, a SEM image in a prescribed area of the substrate surface is obtained, and thereafter the pattern density (coarseness and minuteness) in the SEM image is judged.
    本発明のパターン検査方法では、まず、基板表面の所定領域のＳＥＭ画像を取得した後、そのＳＥＭ画像内のパターン密度（疎密）の判定を行なう。 - 特許庁
  • Template matching is performed between the synthetic image with the interlayer deviation and the SEM image.
    この層間ズレ付き合成画像とＳＥＭ画像の間でテンプレート・マッチングを行う。 - 特許庁
  • When a desired image is selected and designated from among the SEM images, the electronic optical system or the like is set to the simulated conditions and such an SEM image can be actually observed.
    該ＳＥＭ像の中から所望の像を選択し指定すると、電子光学系等がシミュレーションした条件に設定されてそのようなＳＥＭ像が実観察できる。 - 特許庁
  • An operator can easily judge the direction and the deviation of this SEM image from the initial SEM image.
    オペレータは両ＳＥＭ像の格子グリッドを参照することによって、今回のＳＥＭ像が初期ＳＥＭ像からどの方向にどれだけずれているかを容易に判断できる。 - 特許庁
  • With this, the mass analysis of a fine organic foreign body can be performed without extracting the foreign body observed in the SEM from a vacuum chamber of the SEM.
    こうすることにより、ＳＥＭ中で観察した異物をＳＥＭの真空チャンバから取り出すことなく、そのまま微小有機異物の質量分析が可能となる。 - 特許庁
  • CORRECTION METHOD AND APPARATUS FOR BEAM IRRADIATION POSITION IN SEM-FIB COMPOSITE APPARATUS
    ＳＥＭ−ＦＩＢ複合装置におけるビーム照射位置の補正方法及び装置 - 特許庁
  • In TEM and STEM, the diffraction conditions constitute the most important factors in influencing the contrast, whereas in SEM, these factors are generally not important.
    TEMとSTEMにおいては、回折条件がコントラストに影響を及ぼす最も重要な要素を構成するのに対して、SEMにおいては、これらの要素は一般的に重要ではない。 - 科学技術論文動詞集
  • In a SEM, electrons which are emitted or backscattered from the specimen are collected to provide topological information, and atomic number or orientation information.
    SEMでは、試料から放出または後方散乱される電子が集められ、表面凹凸の(地形図的な)情報および、原子番号または方位の情報を提供する。 - 科学技術論文動詞集
  • The charged particle beam device includes means for obtaining a plurality of SEM images in which the focus is changed in accordance with a depth of focus, means for determining the SEM image having the maximum image sharpness in a partial region including a dimension measurement region from among the obtained SEM images, and means for measuring the dimension of a predetermined region in the SEM image having the maximum image sharpness.
    焦点深度に対応してフォーカスを変化させた複数のＳＥＭ像を取得する手段と、取得したＳＥＭ像から寸法測定領域を含む部分領域の画像鮮鋭度が最大となるＳＥＭ像を決定する手段と、画像鮮鋭度が最大のＳＥＭ像から所定領域の寸法を測定する手段を備えた。 - 特許庁
  • The SEM image data is binarized by using the threshold to perform defect detection.
    そして、このしきい値を用いてＳＥＭ画像デ−タを二値化処理し、欠陥を検出する。 - 特許庁
  • To provide a stencil mask that facilitates backside observation by SEM.
    ＳＥＭによる裏面観察を容易に行なう事が出来るステンシルマスクを提供すること。 - 特許庁
  • Imaging recipes of the length-measuring SEM and the AFM are generated automatically by using design layout data.
    設計レイアウトデータを用い，測長ＳＥＭとＡＦＭの撮像レシピを自動作成する。 - 特許庁
  • Moreover, fluctuation LER in the line width in the target pattern is measured with SEM (S4).
    そして、ＳＥＭにより、ターゲットパターンにおける線幅ばらつきＬＥＲを測定する（Ｓ４）。 - 特許庁
  • This solid matter is broken by shearing force and the broken surfaces of the solid matter are observed by SEM.
    この固形物に剪断力を加えて破断し、その破断面をＳＥＭにより観察した。 - 特許庁
  • wherein N2 SA represents nitrogen adsorption specific surface area, and SEM represents EM specific surface area.
    （但し、Ｎ_2ＳＡは窒素吸着比表面積、ＳＥＭはＥＭ比表面積を表す。） - 特許庁
  • To simplify the processes including the collection and molding of a sample piece for a transmission electron microscope(TEM) or scanning electron microscope(SEM) observation from an original sample and the installation of an observation holder and to consistently conduct the processes in a sample processing chamber.
    元試料から、TEMまたはSEM観察のための試料片の採取、成形および観察ホルダ設置までの工程を簡素化し、試料処理室において一貫して行なう。 - 特許庁
  • The control part determines the field of vision of the SEM image, on the basis of a flaw position and specifies the flaw candidate pattern from the image data of the pattern displayed on the SEM image within the field of vision.
    制御手段は、欠陥位置を基にＳＥＭ画像の視野を決定し、視野内のＳＥＭ画像に表示されているパターンの画像情報から欠陥候補パターンを特定する。 - 特許庁
  • Data of edge roughness are acquired over a sufficiently long area, and components corresponding to a spatial frequency range set by an operator on a power spectrum are integrated and displayed on a length measuring SEM.
    エッジラフネスのデータは十分長い領域に渡って取得し、パワースペクトル上で操作者が設定した空間周波数領域に対応する成分を積算し、測長SEM上で表示する。 - 特許庁
  • An SEM scanning of the region provides defect information (determining whether open or short, positions of the defect electrode) of the electrode patterns based on an SEM image light-dark arrangement state of the respective extension wirings.
    この領域をＳＥＭ走査して、各延伸配線のＳＥＭ像明暗配列状態から、電極パターンの欠陥情報（オープン・ショートの判定、欠陥電極の位置など）を得る。 - 特許庁
  • A first coordinate data 20 measured by a general-purpose particle counter, and a second coordinate data 22 measured by an SEM or an equivalent high accurate measuring device concerning particles on the same wafer, are input (S11 and S12).
    同じウェーハ上の粒子につき、汎用パーティクルカウンタで測定した第１座標データ２０と、SEMまたは相応の高精度測定機で測定した第２座標データ２２とを入力する（S11、S12）。 - 特許庁
  • To provide a system with an FIB tube and a SEM tube, wherein influence of a secondary electron excited by an FIB does not come out as noise in a SEM image, when performing SEM observation of FIB processing on a real time basis.
    本発明が解決しようとする課題は、ＦＩＢ鏡筒とＳＥＭ鏡筒を備えたシステムにおいて、ＦＩＢ加工をリアルタイムでＳＥＭ観察する際に、ＦＩＢによる励起二次電子の影響がＳＥＭ画像中でノイズとして出ないようなシステムを提供することにある。 - 特許庁
  • Thereafter, when a domain instruction information for instructing display of an enlarged SEM image is inputted in the enlarged CAD image, the designated domain is irradiated with a prescribed electron beam, and the enlarged SEM image of the domain is acquired, and the enlarged SEM image is displayed on a display device 15.
    その後、その拡大ＣＡＤ画像の中で、拡大ＳＥＭ画像の表示を指示する領域記指定情報が入力されたときには、指定された領域に所定の電子ビームを照射し、その領域の拡大ＳＥＭ画像を取得し、その拡大ＳＥＭ画像を表示装置１５に表示する。 - 特許庁
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