「To process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 906 907 908 909 910 911 912 913 914 .... 999 1000 次へ＞- The manufacturing process of an acrylic film relates to the process for forming a melt film of a thermoplastic resin consisting mainly of a non-crystalline acrylic polymer having a cyclic structure, wherein a horizontal sidewall part 11 of a die is ejected from the top edge of the cap of the blocking body.
環構造を持つ非晶性のアクリル系重合体を主成分とする熱可塑性樹脂を溶融製膜する方法であって、ダイの幅方向の側壁の部位１１が、本体ブロックの口金先端部よりも先に出ている事を特徴とする、アクリル系フィルムの製造方法。 - 特許庁 - On the painting process, the suspension 36 filled in the glass tube is exhausted by turning the other end of the glass tube 22 downward, and on the drying process, the drying air 38 is started to blow at least 30 seconds after the start of exhaustion of the suspension 36.
前記塗布工程は、ガラス管２２の他端を下に向けた状態で、ガラス管２２の内部に充填された懸濁液３６を排出することで行い、乾燥工程における乾燥用エア３８は、懸濁液３６の排出を開始してから少なくとも３０秒経過後に吹き込まれる。 - 特許庁 - In this method for manufacturing of a semiconductor device including a grinding process of grinding a surface of a wafer on the side opposite to a circuit forming surface thereof, cutout parts of which the depth is smaller than the thickness of the wafer is formed by laser irradiation on the surface of the wafer on the circuit formation side before the grinding process.
回路形成面とは反対側のウエハ面を研削する研削工程を有する半導体装置の製造方法であって、 前記研削工程の前に、前記回路形成側のウエハ面に、その深さがウエハ厚より浅い寸法の切欠部を、レーザ照射によって形成する。 - 特許庁 - This correction coefficient α is calculated, based on an arrival scheduled time T(k) to a progress k of the manufacturing process of each lot, existing in a production line at a certain T and the operation information of a facility x configuring the manufacturing process and a facility halt completion time Tc(x).
この補正係数αは、ある時刻Ｔにおける生産ラインに存在する各ロットの製造工程の工程ｋへの到着予定時刻Ｔ（ｋ）と、製造工程を構成する設備ｘの稼動情報と、設備停止完了時刻Ｔｃ（ｘ）とに基づいて算出される。 - 特許庁 - A temperature adjustment controller 23 comprises a mother board 23 mounted with a computer which processes information for adjusting temperature of a plurality of process chambers 1A, 1B,..., and a plurality of interface boards 41-47 for inputting/outputting of sensor signal and control signal to the process chambers 1A, 1B,....
温度調節コントローラ２３は、複数の処理チャンバ１Ａ，１Ｂ，…の温度調節のための情報処理を行うコンピュータを搭載したマザーボード２３と、処理チャンバ１Ａ，１Ｂ，…に対してセンサ信号や制御信号の入出力を行う複数枚のインタフェースボード４１〜４７とを有する。 - 特許庁 - By focusing the attention on rounding of a calculation result in a compression encoding process, a rounding method is changed according to the detected feature of a block, so that an adaptive compression encoding is realized only with the process at encoding, without recording/transmitting an additional information.
圧縮符号化処理における演算結果の丸めに着目し、検出されたブロックの特徴に応じて丸めの方法を変更する方式とすることで、追加の情報を記録・伝送することなく符号化時の処理のみで適応的な圧縮符号化を実現する。 - 特許庁 - A pattern with high accuracy is formed by carrying out a step (S12) of subjecting the design data to proximity correction; a step (S13) of extracting a portion where the process margin deteriorates; and a step (S14) of correcting a pattern in the extracted portion where the process margin deteriorates.
設計データに対して近接効果補正を施す工程（Ｓ１２）と、プロセス余裕度が劣化する箇所を抽出する工程（Ｓ１３）と、抽出されたプロセス余裕度が劣化する箇所に対してパターン補正を行う工程（Ｓ１４）とを行うことにより高精度なパターン形成を実現する。 - 特許庁 - The control part 18 carries out a primary output process, in which only an index part in the translation source document is extracted and an index list showing its translation sentence is outputted, and a secondary output process, in which main text corresponding to the index part selected from the index list by the user is translated and outputted.
制御部１８は、翻訳元文書中のインデックス部のみを抽出して、その翻訳文を表示したインデックスリストを出力する１次出力工程と、インデックスリストに対してユーザが選択したインデックス部に対応する本文を翻訳して出力する２次出力工程とを行う。 - 特許庁 - To provide a semiconductor wafer transfer apparatus where a semiconductor wafer can be sucked and fixed on a suction table side in a flat state when conveying the wafer among each process such as an alignment for positioning the wafer, a UV irradiation, a protective tape peel-off or the like, in a process for manufacturing the wafer.
ウェハの製造工程において、ウェハ位置決めを行うアライメント、ＵＶ照射、保護テープ剥離などの各工程の間をウェハを搬送する際に、半導体ウェハを吸着テーブル側に平坦な状態で吸着固定することのできる半導体ウェハの移載装置を提供する。 - 特許庁 - The position of each cartridge is detected based on previously measured each time required for each cartridge from the exposure process to the toner image detection process by the density sensor 110, and the received light amount obtained by receiving the reflected light from a detection pattern by the specular-reflected light receiving part and the diffused-reflected light receiving part.
各カートリッジにつき予め計測された露光から濃度センサ１１０によるトナー像の検出までの各時間と、検出用パターンからの反射光を正反射光受光部および拡散反射光受光部で受光して得られた受光量とから、各カートリッジの位置を検出する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a thin film solar cell, by which the thin film solar cell capable of having a Cd-free buffer layer formed without using a wet process and is extremely low in toxicity can be manufactured inexpensively through an all-dry process of superior productivity, and which is extremely superior in practicality.
ウェットプロセスを用いることなくＣｄを含まないバッファ層を形成でき、量産性に秀れるオールドライプロセスで極めて毒性の低い薄膜太陽電池をコスト安に製造可能な極めて実用性に秀れた薄膜太陽電池の製造方法の提供。 - 特許庁 - To execute a temperature rise acceleration process of a catalyst 5 disposed in an exhaust gas passage 4 of an internal combustion engine 1 and a temperature rise acceleration process of cooling water of the internal combustion engine 1 as the need arises while keeping a structure as simple as possible in an exhaust heat recovery device 18 for the internal combustion engine 1.
内燃機関１の排気熱回収装置１８において、可及的に簡素な構成としながら、内燃機関１の排気通路４に設けられる触媒５の昇温促進処理と、内燃機関１の冷却水の昇温促進処理とを必要に応じて実行可能とする。 - 特許庁 - To provide a disassembling method of optical cable and a disassembling apparatus thereof, capable of removing foreign matters, such as water absorption tape on the process of stripping of a cable jacket, reducing the equipment and man-hours required for foreign matter removal on the reclamation process, enhancing the profitability and securing recycle articles having stable quality.
ケーブル外被の剥ぎ取りの段階で吸水テープ等の異物が除去でき、再生化段階での異物除去に要する設備、マンアワーの低減を図り採算性を向上させると共に、品質の安定したリサイクル品の確保を可能とした光ケーブルの解体方法と解体装置を提供する。 - 特許庁 - A single semiconductor heat treating device is constituted by disposing a process tube 12 which can house a wafer 10 in a horizontal state and has a rectangular cross section, a susceptor 14 which covers the process tube 12 and has an oblong cross section, and an induction heating coil 16 which covers the susceptor 14 and has a shape similar to that of the susceptor 14.
枚葉型半導体熱処理装置であって、ウェハ１０を水平に内装可能な矩形断面のプロセスチューブ１２と、前記プロセスチューブ１２を覆う断面形状を長円とするサセプタ１４と、前記サセプタ１４を覆う相似形状の誘導加熱コイル１６とを配置してなる。 - 特許庁 - The fireproof decoration method comprised of (1) a first process for coating a skeleton with a foam fireproof sheet and (2) a second process applying a stone-like finish paint containing at least one sort of natural stone grinding matter and colored aggregate and a bonding agent provides fire resistance to the skeleton.
耐火性を付与すべき躯体に対し、（１）発泡耐火シートにより躯体を被覆する第一工程、（２）天然石粉砕物及び着色骨材の少なくとも１種ならびに結合材を含有する石材調仕上 塗材を塗布する第二工程からなる耐火化粧工法。 - 特許庁 - The quality control support server 1, when receiving information about the details of inspection from a print checker 5, specifies information about a corresponding state after the printing process, determines whether the product after the printing process corresponds to a non-defective product, based on the information, and calculates a defective fraction.
品質管理支援サーバ１は、印刷検査機５から検査内容に関する情報を受信すると、これに対応する印刷工程後の状態に関する情報を特定し、これらの基づいて、印刷工程後の製品が良品に該当するか否かを判別し、不良率を算出する。 - 特許庁 - This method for reducing the activity to maltose in the glucose measurement including the process of reacting the PQQGDH is provided by comprising a process of making pH in the measuring reaction as acidic.
ピロロキノリンキノン依存性グルコース脱水素酵素を反応させる工程を含むグルコース測定方法において、測定反応時のｐＨを酸性にする工程を含む、ピロロキノリンキノン依存性グルコース脱水素酵素を反応させる工程を含むグルコース測定においてマルトースに対する作用性を低減させる方法。 - 特許庁 - A manufacturing method of the SAW device comprises a pattern formation process for forming a conductor pattern including an interdigital electrode on a piezoelectric wafer in which the SAW device should be formed, and providing the alignment mark on the piezoelectric wafer; and a cutting process for cutting the piezoelectric wafer to divide the piezoelectric wafer.
ＳＡＷ装置を形成すべき圧電ウェハ上に櫛形電極を含む導体パターンを形成すると共に、圧電ウェハ上にアライメントマークを設けるパターン形成工程と、圧電ウェハを切断して圧電ウェハを分割する切断工程とを含むＳＡＷ装置の製造方法である。 - 特許庁 - To provide a solid-state imaging element, having a structure capable of optimizing the film thickness of an antireflection film formed on a photodiode, without causing deterioration of image sensor characteristics or being restricted on a manufacturing process, even if a general CMOS manufacturing process is applied.
一般的なＣＭＯＳ製造プロセスを適用した場合においても、イメージセンサ特性の劣化を生じさせず、また、製造プロセス上の制約を受けることなく、フォトダイオード上に形成された反射防止膜の膜厚を最適化できる構造を有する固体撮像素子を提供する。 - 特許庁 - The video signal receiving apparatus includes: a frequency discrimination unit (31A) for discriminating the frequency of a synchronizing signal of an input analog video signal; and a video signal processing circuit (31B) for determining scanning line conversion process and an angle of view and executing the process according to a discrimination result.
入力アナログ映像信号の同期信号の周波数判別を行う周波数判別器（３１Ａ）と、判別結果にしたがって前記入力アナログ映像信号に対する走査線変換処理、画角調整を決定して実行する映像信号処理回路（３１Ｂ）とを有する。 - 特許庁 - To provide an information transmission device, an information transmission method, an information transmission process program and an information transmission system which can reduce a process load by reducing the number of times of acquisition of a stock quantity when transmitting information such as a Web page displaying a stock quantity.
在庫数を表示するＷｅｂページなどの情報を送信する際に、在庫数を取得する回数を減少させて処理負担を軽減することを可能とする情報送信装置、情報送信方法、情報送信処理プログラム及び情報送信システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing process of a rubber laminate, which allows a short time cementing of a rubber layer and a hard plate, affords uniform geometry of rubber layers and brings the height of a total rubber laminate into a specified value; and the rubber laminate manufactured by the process.
ゴム層と硬質板との接着時間が早く、ゴム層の形状寸法を均一にすることができ、かつ、ゴム積層体の全体の高さを設定値通りの高さとするゴム積層体の製造方法およびその製造方法により製造されたゴム積層体の提供。 - 特許庁 - A process of measuring the gradient of the imaging unit and a process of storing at least one of the gradient and top-and-bottom direction, when the measured gradient is larger than a specified value are performed repeatedly, until a direction in which the imaging unit faces the object to be imaged is determined.
画像撮像装置の傾斜度の測定処理と、測定された傾斜度が所定値以上の場合に傾斜度および天地方向の少なくとも一方の情報が記憶される処理とが、撮像対象に対する画像撮像装置の正対方向が決定されるまで、繰返し行なわれる。 - 特許庁 - The method for liquefying onion husk power comprises a process of pulverizing an outermost thin husk and a second husk of an onion dried after being washed in water so as to have a powder particle diameter of 30-150 μm, and making the powder disperse in distilled water, and a process of acting carbohydrate splitting enzyme on the dispersion solution.
玉葱外皮粉末の液化方法は、水洗乾燥した玉葱の最外薄皮および第二外皮を、その粉末粒径が３０〜１５０μｍとなるよう粉砕して、該粉末を蒸留水中に分散させる工程と、該分散液に糖質分解酵素を作用させる工程とを含む。 - 特許庁 - To realize a semiconductor chip which is manufactured by a manufacturing method including a cutting process by a dicing process using laser light and can prevent a fine piece of a reformed region from peeling from a cut surface of the semiconductor chip, and its manufacturing method.
レーザ光を用いたダイシング工程により割断する工程を含んだ製造方法により製造される半導体チップであって、半導体チップの割断面から改質領域の微少片が剥離することを防止可能な半導体チップ及びその製造方法を実現する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the graphite material for the lithium secondary battery anode comprises a graphitization treatment process for obtaining a graphite material by putting a carbon material with a boron compound added under a graphitization treatment, and a heat treatment process of heat-treating the graphite material under an oxidizing gas atmosphere at 400 to 700°C.
リチウム二次電池負極用黒鉛材料の製造方法は、硼素化合物を添加した炭素材料を黒鉛化処理して黒鉛化材料を得る黒鉛化処理工程と、黒鉛化材料を酸化性ガス雰囲気下で４００〜７００℃の温度で熱処理する熱処理工程と、を有する。 - 特許庁 - To provide a p-type GaN series semiconductor element which enhances productivity and reduces a cost while reducing an operating voltage of the element, by manufacturing the GaN series semiconductor element without executing a separate heat treating process after a lamination process of a semiconductor layer.
半導体層の積層工程後に別途の熱処理工程を行うことなくｐ型ＧａＮ系半導体を作製することで、生産性の向上およびコストの低下を図りつつ、素子の動作電圧を低くすることが可能な、ＧａＮ系半導体素子の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To obtain a method for manufacturing a semiconductor device which can reduce process margin necessary for control adjustment of CMP polishing by preventing exposure of a capacitor and short circuit of wiring which become a problem in a surface flattening process of a multilayer wiring type semiconductor device having a DRAM region and a logic region.
ＤＲＡＭ領域とロジック領域とを有する多層配線型の半導体装置の表面平坦化工程で問題となるキャパシタの露出および配線のショートを防止し、ＣＭＰ研磨の制御調整に要するプロセスマージンを低減できる半導体装置の製造方法を得ること。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a reinforcing material for rubber goods, in which the reinforcing material for rubber goods which is composed of a metallic filament bundle having a flat shape in a cross section can be manufactured without requiring a process for rolling the reinforcing material and a process for bundling the reinforcing material and embedding it in the rubber.
補強材の圧延加工の工程や、補強材を束ねてゴム中に埋設する工程を要することなく、断面扁平形状の金属フィラメント束からなるゴム物品用補強材を製造することのできるゴム物品用補強材の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Brightness data of each pixel of a point defect or a strain defect having a smaller area than an irregular defect in the image data acquired in the inspection image acquisition process is replaced with an interpolation value based on brightness data of a peripheral pixel, to thereby repair the non-evaluation object defect species (point/strain defect repair process ST200).
検査画像取得工程にて取得された画像データ中でムラ欠陥よりも面積が小さい点欠陥、シミ欠陥の各画素の輝度データを周囲の画素の輝度データに基づく補間値で置き換えてこの非評価対象欠陥種を修補する（点・シミ欠陥修補工程ＳＴ２００）。 - 特許庁 - After electrolyte solution is injected in the lead storage battery using a ready-to-use electrode transformed beforehand in a transformation tub, either a process of discharging and initial charging or an ensuing activation charging/discharging process or both processes are carried out under a condition of an ambient temperature of the lead storage battery at 40°C or more.
化成槽において予め化成した即用極板を用いた鉛蓄電池に電解液を注液後、放電と初充電の工程、又はその後の活性化充放電工程のいずれか一方又は両方で鉛蓄電池の周囲温度を４０℃以上とした環境下で行うこと。 - 特許庁 - The process of measuring the resistance value of the thermal head 42b to make a driving circuit 71 of a printing part store the amount of correction of the amount of electricity energization becomes unnecessary thereby in the assembly process when a tape printing apparatus 10 is manufactured, and manufacturing the tape printing apparatus 10 can be made rapid and highly reliable.
よって、テープ印刷装置１０の製造時の組立工程において、サーマルヘッド４２ｂの抵抗値を計測して印刷部駆動回路７１に通電量の補正量を記憶させる等の工程が不要となり、テープ印刷装置１０の製造を迅速で信頼性の高いものとできる。 - 特許庁 - That is to say, when a ball enters the first start Chucker 108, a big win process executes game specifications using primarily a large winning hole 111 and, when the ball enters the second start Chucker 109, the big win process executes game specifications using primarily a wing member 202.
すなわち、第１のスタートチャッカ１０８に入賞した場合は、大当たり処理が、主として大入賞口１１１を用いた遊技仕様を実行し、第２のスタートチャッカ１０９に入賞した場合は、大当たり処理が、主として羽根部材２０２を用いた遊技仕様を実行する。 - 特許庁 - A distance A between the inside circumferential corner section and outside circumferential corner section is compared with a reference value X set in advance in an area having an plane L-shaped bending section among wall surfaces, if it is A≥X, a notch process (a) or if it is A<X, a partition process (b) is selected to execute.
壁面のうち平面Ｌ字形の屈曲部を有する領域で、屈曲部の内周角部と外周角部との距離Ａと予め設定された基準値Ｘとを比較し、Ａ≧Ｘであれば切欠工程(a) 、Ａ＜Ｘであれば分割工程(b) を選択して実行する。 - 特許庁 - In a replacement process P10 after a residual stress-applying process P9, a fixed roller 42 and mobile roller 44, between which a belt-like metal member 12 is extended, are replaced with replacement rollers 92 and 94 in a state that a predetermined tension is applied to the belt-like metal member 12.
残留応力付与工程Ｐ９に次ぐ架け替え処理工程Ｐ１０において、帯状金属部材１２に一定の張力が付与された状態で、帯状金属部材１２を固定ローラ４２および移動ローラ４４から架け替えローラ９２、９４への架け替えが行われる。 - 特許庁 - To provide a method for producing a cast-coated paper less in reduction of white paper gross and excellent in surface state in finishing processes such as a winder treatment process, conveying process, etc., after its cast mirror surface finishing and also excellent in ink drying and blocking resistance in the production of the cast-coated paper by a coagulation method.
凝固法キャスト塗被紙の製造において、キャスト鏡面仕上げ後のワインダー処理工程、搬送工程等後工程において白紙光沢度の低下が少なく面状に優れ、インキ乾燥性や耐ブロッキング性に優れたキャスト塗被紙の製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - By a layout managing method of homogeneous carrier, a plurality of processors in a production line are divided into a single or a plurality of sequential process groups to set a segment, while a process starting range of a carrier is limited within the segment for a longer homogeneous length.
また、同質キャリアのレイアウト管理方法により、生産ライン内の複数の処理装置を一つまたは複数の一連の工程群に分割してセグメントを設定し、同質長を管理するグループのキャリアの着工範囲を前記セグメント内に制限することにより、同質長を長くするものである。 - 特許庁 - The method comprises an underfill molding process of filling a gap between terminals, connecting a semiconductor chip 1 to a board 2 with a flowing liquid resin 4 and an overmolding process of sealing the surface of the board with resin before the surface layer of the liquid resin 4 is cured.
半導体チップ１と基板２とを接続する端子間の隙間に液状樹脂４を流下させて充填するアンダーフィルモールド工程と、液状樹脂４の表層が硬化する前に半導体チップ１を覆って基板面を樹脂封止するオーバーモールド工程とを有する。 - 特許庁 - The reference magnification process part 76 achieves its function using a software, and applies the electronic magnification process to raster data at a reference magnification rate that is set based on the average value of deviation amount from the reference size of the drawn object 14, as an external setup operation which is done before exposure of the drawn object 14.
基準変倍処理部７６は、ソフトウエアでその機能が実現され、被描画体１４に露光を行う前の外段取りの作業として、被描画体１４の基準サイズからのずれ量の平均値を元に設定される基準変倍率で、ラスターデータに電子変倍処理を施す。 - 特許庁 - The simulation method is provided with a process S1 for fetching the two-dimensional background data into the control means, a process S2 for displaying the fetched background data on the display means and processes S4, S5 for mapping the object to be simulated on the object part on the displayed background image.
２次元の背景データを制御手段に取込む工程Ｓ１と、取込まれた背景データを表示手段に表示する工程Ｓ２と、表示された背景画像上の対象部に被対象物をマッピングする工程Ｓ４，Ｓ５とを備えたシミュレーション方法であることを特徴とする。 - 特許庁 - In this wet processing method wherein semiconductor wafers W are immersed in a process liquid, the semiconductor wafers W are immersed with their surfaces W1 facing upward, with the wafers W inclined at 3-45° or 10-20° relative to the process liquid surface H.
半導体ウェーハＷを処理液に浸漬してウエット処理する方法であって、半導体ウェーハＷを処理液に浸漬する際に、半導体ウェーハＷの表面Ｗ１が上側になるようにして、処理液面Ｈに対して３°〜４５°または１０°〜２０°傾いた状態とする。 - 特許庁 - While it is recognized that the amount of toner is sufficient, it is judged that it is not the time when the process cartridge 1 is replaced and the stopper control part 4 turns off a solenoid 5 according to the judgement that it is not the time when the process cartridge 1 is replaced, thereby making a stopper function effective.
トナー量が十分であると認識された状態では、プロセスカートリッジ１の交換時期では無いと判断され、プロセスカートリッジ１の交換時期ではないという判断結果から、ストッパー制御部４では、ソレノイド５をオフすることにより、ストッパー機能が有効化される。 - 特許庁 - When the injection abnormality occurs in a period from starting the injection process till finishing the injection process, the inline screw type injection molding machine performs a measuring operation and, after finishing the measuring operation, controls to stop the operation of the machine.
インラインスクリュ式の射出成形機において、射出工程が開始されてから射出工程が完了する前までの間に、射出動作異常が発生した場合には、計量動作を実行させて、計量動作が完了した後に、マシンの運転を停止させるように制御する。 - 特許庁 - To provide a process for producing an aqueous dispersion of a finely divided isocyanate-terminated prepolymer particle in high concentration even when a high-viscosity prepolymer is used, and a process for producing in a short time an aqueous dispersion of a finely divided polyurethane resin particle in high concentration by extending the chain of the prepolymer.
高粘度のプレポリマーを用いても、高濃度、かつ微細粒子のイソシアネート末端プレポリマーの水性分散体を製造する方法、およびさらに鎖伸長させて高濃度、かつ微細粒子ポリウレタン樹脂の水性分散体を短時間に製造する方法を提供する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the porous composite metallic material includes a process (a) of obtaining a composite metallic material with the carbon material dispersed in metal and a process (b) of removing the metal from the composite metallic material while allowing the coating layer formed around the carbon material to remain.
多孔質複合金属材料の製造方法は、炭素材料が金属中に分散した複合金属材料６を得る工程（ａ）と、複合金属材料６から、炭素材料の周りに形成された被覆層を残して金属を除去する工程（ｂ）と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The coloring method comprises a process of coating the outer surface of the goods with the coloring ink containing an organic solvent of at least one kind or more, and a process of igniting the coloring ink, wherein the coloring ink is swiftly dried by subjecting the coloring ink to self-combustion.
少なくとも１種以上の有機溶剤が含有される着色インクを物品の外表面に塗布する工程と、当該着色インクに着火する工程とを備え、当該着色インクを自己燃焼させることにより、当該着色インクが速やかに乾燥する。 - 特許庁 - A method for circuit simulation for obtaining a DC operating point comprises: (a) a process of setting a power supply voltage to a predetermined value after the power supply voltage increases monotonously as a sine function, and (b) a process of performing unsteady circuit simulation based on the power supply voltage.
直流動作点を求める場合の回路シミュレーションの実行方法であって、（ａ）電源電圧が時間の正弦関数として単調増加した後、一定値となるように設定する工程と、（ｂ）前記電源電圧に基づいて非定常回路シミュレーションを実行する工程と、を含む。 - 特許庁 - To provide a semiconductor chip manufactured by a method including a fracturing process through a dicing process using laser beam, along with its manufacturing method, wherein minute pieces in a reform region are prevented from being peeled from a fracture surface of the semiconductor chip.
レーザ光を用いたダイシング工程により割断する工程を含んだ製造方法により製造される半導体チップであって、半導体チップの割断面から改質領域の微小片が剥離することを防止可能な半導体チップ及びその製造方法を実現する。 - 特許庁 - This method comprises a process wherein a porous ink receiving layer containing a pigment and a binding agent and being in the coating amount of 1-100 g/m2 is formed on one surface of a paper base constituted mainly of pulp and a process wherein a resin layer in the covering amount of 1-100 g/m2 is formed on the opposite surface to the above.
パルプを主成分とする紙基材上の片面に、顔料と結着剤とを含有する塗布量１〜１００ｇ／ｍ^２の多孔質インク受容層を形成する工程と、該片面の反対面に被覆量１〜１００ｇ／ｍ^２の樹脂層を形成する工程とからなる。 - 特許庁 - The process unit 14 can be slid relatively into both of left and right directions against the printing unit 12 with respect to the central part 50 of the printing unit 12 whereby one of the opening parts 20, 22 of the printing unit 12, which is positioned at the opposite side of the sliding direction of the process unit 14, is exposed.
前記製版ユニット１４は、前記印刷ユニット１２の中央部５０を基準として前記印刷ユニット１２に対して相対的に左右両方向にスライド可能であり、前記スライドした方向とは逆の前記印刷ユニット１２の開放部２０，２２が露出する。 - 特許庁
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