「To process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 935 936 937 938 939 940 941 942 943 .... 999 1000 次へ＞- To provide an apparatus for detecting defects of optical fiber, which corrects the positional misalignment of the optical fiber and can surely detect the internal defects of the optical fiber in an inspection process.
光ファイバの位置ズレを修正し、検査工程で光ファイバの内部欠陥を確実に検出することが可能な光ファイバの欠陥検出装置を提供する - 特許庁 - The process monitoring and controlling method and device, in the further processing of the products of the printing machine, are based on a plurality of image processing modules 1.1 to 1.5.
印刷機のプロダクトのさらなる処理において、プロセスを監視および制御するこの方法および装置は、複数の画像処理モジュール１．１ないし１．５に基づく。 - 特許庁 - To provide a substrate cooling device capable of providing excellent cooling efficiency, and capable of maintaining in-plane temperature distribution uniformity of a circular substrate in the process of cooling.
良好な冷却効率が得られ、しかも冷却中の円形基板の面内温度分布均一性を維持することができる基板冷却装置を提供する。 - 特許庁 - During a process of cleaving the film from the substrate, shear in the cleave region is carefully controlled to achieve controlled propagation by either KII or energy propagation control.
基板から膜を劈開するプロセス中に、劈開領域のせん断は、ＫIIまたはエネルギーの伝搬制御のいずれかにより制御伝搬を実現するために慎重に制御される。 - 特許庁 - To provide a high quality semiconductor ingot wherein the mixing amount of foreign matter is low by suppressing the contact between a semiconductor melt and the foreign matter in an apparatus in a manufacturing process.
製造過程における半導体融液と装置内異物との接触を抑制して、異物混入量が低く高品質の半導体インゴットを提供する。 - 特許庁 - Some embodiments of the article and the process bring a number of advantages and benefits to an article comprising a silicon-containing substrate having the environmental barrier coating (EBC).
物品およびプロセスのいくつかの実施形態は、環境障壁コーティング（ＥＢＣ）を有するシリコン含有基材を含む物品に関して多数の長所および利点をもたらす。 - 特許庁 - To provide an electrode paste capable of improving characteristics of an electrode film by expressing a high temperature sintering restraining action and a low temperature sintering restraining action in a baking process.
焼成過程において高温焼結抑制作用と低温焼結抑制作用を発現して電極膜特性を改善できる電極ペーストを実現する。 - 特許庁 - The particular color compensating unit 72 executes, based on the smear level, picture process for lowering saturation of color within the predetermined hue range to the picture data adjusted in the white balance thereof.
特定色補正処理部７２は、スミアレベルに基づいて、所定色相範囲内の色の彩度を低下させる画像処理をホワイトバランスが調節された後の画像データに施す。 - 特許庁 - To provide a semiconductor micro relay of vertical open/close type together with its manufacturing method, which is manufactured in a relatively simple manufacturing process with no constraint on a structure design.
構造設計上の制約を受けることなく比較的簡便な製造工程にて製造可能な縦開閉型の半導体マイクロリレー及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a preparation process of an aluminate fluorescent substance which does not add any fluorine compound, improves the crystallinity of the aluminate fluorescent substance and controls the particle size and the shape.
弗素化合物を添加せず、アルミン酸塩蛍光体の結晶性を向上させ、粒径及び形状を制御したアルミン酸塩蛍光体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electrode for solid high polymer fuel cells, which can form a catalyst layer, which has the vacancy structure of high power-generating efficiency, without adding a complicated process.
煩雑な工程を付加することなく、発電効率の高い空孔構造を有する触媒層を形成できる固体高分子型燃料電池用電極を提供する。 - 特許庁 - In the process of manufacturing the water-containing rubber-coagulated product, a rubber latex RL is contacted continuously with a coagulating liquid CL to manufacture the water-containing lengthy rubber-coagulated product LC.
含水長尺ゴム凝析体製造工程では、ゴムラテックスＲＬが凝析液ＣＬに連続的に接触させられて含水長尺ゴム凝析体ＬＣが製造される。 - 特許庁 - To provide a process for fabricating a semiconductor device in which the time required for forming the film of first and second semiconductor layers by SBSI method can be shortened.
ＳＢＳＩ法において第１半導体層及び第２半導体層の膜形成の所要時間を短縮できるようにした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The substrate surface by a plating metal formed by an electrolytic plating process is etched by a chemical liquid for dissolving a plating metal to reduce the irregularities on the substrate surface.
電解めっき工程によって形成されためっき金属による基板表面を、めっき金属を溶解する薬液によってエッチングし、基板表面の凹凸を低減する。 - 特許庁 - To greatly reduce greenhouse gases which have been conventionally produced in a large volume, in a process of smelting molten steel by melting and refining a cold iron source such as an iron scrap in an arc furnace.
アーク炉で鉄スクラップなどの冷鉄源を溶解精錬して溶鋼を溶製する際に、従来、大量に発生していた温室効果ガスを大幅に削減する。 - 特許庁 - To estimate bearing capacity of a pile with high reliability by easily implementing a dynamic loading test of the pile at a low cost with high controllability without needing a complicated analysis process.
杭の動的載荷試験を制御性良く容易で安価に実施して、複雑な解析処理を必要とすることなく、杭の支持力を信頼性良く推定する。 - 特許庁 - The DAC 142 outputs an analog signal obtained from the D/A conversion to an analog mixer 124, which performs a mixing process of the analog signal and outputs the resulting signal.
ＤＡＣ１４２は、Ｄ／Ａ変換して得たアナログ信号をＡＦＥ１２０のアナログミキサ１２４に出力し、アナログミキサ１２４はこのアナログ信号をミキシング処理して出力する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a metal powder capable of directly and efficiently manufacturing a high purity metal from a metallic compound and also preferably facilitating continuation of a process.
金属化合物から直接高純度の金属を効率よく製造することができ、好ましくはプロセスの連続化も容易な金属粉末の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A socket control means 5 issues a maximum reception buffer size revision instruction for designating a communication process identifier, a socket identifier, and a maximum reception buffer size to be extended.
ソケット制御手段５は、通信プロセス識別子，ソケット識別子および拡張する最大受信バッファサイズを指定する最大受信バッファサイズ変更指示を発行する。 - 特許庁 - It is preferable that the sintering is carried out by means of discharge plasma sintering process, and each bearing is perferably formed out of powder material 7 of an average grain size of 1 to 10 mm by means of sintering.
前記焼結は放電プラズマ焼結法であることが好ましく、軸受は平均粒径１〜１０mmの粉末材料７を焼結して形成されることが好ましい。 - 特許庁 - If an interruption factor is generated at this time, the processing is shifted to the interruption process part and the interruption factor decision part decides the interruption factor.
タスク切替え装置で特定の割込レベル未満のみを禁止する割込マスクレベル設定部を設ける事で、タスク切替え装置内で特定の割込要因を受理する事ができる。 - 特許庁 - The manufacturing processes of the method of manufacturing the microstrip filter comprises a process for adjusting the length of a resonator in response to the thickness and the capacitance of a substrate measured in advance.
マイクロストリップフィルタの製造方法として、予め測定した基板の厚みやキャパシタンスに応じて、製造工程において共振器長を調整する工程を設ける。 - 特許庁 - That means, if a printing process is performed based on the next printing instruction following the previous printing instruction, an image corresponding to the second printing instruction is formed on regular paper.
したがって、先の印字命令に続いて次の印字命令に基づき印字処理を実行したのでは、普通紙に第２印字命令に対応する画像を形成してしまう。 - 特許庁 - To provide a new manufacturing method of electric wire/cable using water bridging method, disusing a bridge promotion process using hot water and water vapor requiring big cost and long time.
多大なコストと長時間を要する温水・水蒸気による架橋促進工程を省略した新規な水架橋方式による電線・ケーブルの製造方法の提供。 - 特許庁 - Also, since it is not necessary to process the image being displayed, the quality of the display image is not degraded and thus user's viewing of the image is not disturbed.
また、表示中の画像に対する加工は必要ないから、表示画像の画質が低下してしまうこともなく、この点でもユーザの鑑賞の妨げとなることはない。 - 特許庁 - After this 2nd process, a glass substrate 30 is mounted on the substrate-less filters 11, 12, 13, and is spliced to the substrate-less filters 11, 12, 13 by irradiating with light.
この第２の工程の後、基板レスフィルタ１１，１２，１３にガラス基板３０を載せ、接着剤５０に光を照射して基板レスフィルタ１１，１２，１３に接合する。 - 特許庁 - To provide a process for stably producing a hydrogenated norbornene ring-opened polymer which is free from inferior hydrogenation and gives a molded article free from discoloration and a reduction in strength.
水素添加不良や成形体にしたときの着色や強度低下のないノルボルネン系開環重合体水素添加物を安定して製造する方法を提供する。 - 特許庁 - Thereafter, film formation is carried out by a CVD process using an WF6-H2-based gas to form a W film 15 having a uniform thickness all over the entire film.
その後、ＷＦ_6 −Ｈ_2 系のガスを用いたＣＶＤ法により成膜を行なうことによって全体に渡って均一な膜厚を有するＷ膜１５が形成される。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display and its manufacturing method by which a lightweight and thin display can be obtained and the manufacturing process can be simplified.
本発明の目的は軽量化及び薄型化と共に製造工程を単純化することができる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - A plasma treatment process is carried out in which treatment gas f_G containing a halogen-content compound such as fluorocarbon is passed through a plasma space 22 to have it in contact with the surface of the SiN layer 12.
フッ化炭素等のハロゲン含有化合物を含む処理ガスｆ_Ｇをプラズマ空間２２に通し、ＳｉＮ層１２の表面に接触させるプラズマ処理工程を行なう。 - 特許庁 - To provide a plant state index management device, for appropriately and efficiently manage process data and improving efficiency of performance evaluation or soundness confirmation of a plant.
プロセスデータを適正且つ効率よく管理でき、プラントの性能評価や健全性確認の効率向上に寄与するプラント状態指標管理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide petroleum washing process liquid for dry-cleaning and a dry-cleaning method slowing rise of an aniline point, decreasing reverse stain rate and capable of increasing conductivity as well.
アニリン点の上昇を緩やかとし、かつ、逆汚染率を低下し、通電性も向上し得る石油系ドライクリーニング用洗浄加工液及びドライクリーニング方法を提供する。 - 特許庁 - To improve working efficiency of an aligner by eliminating conditioning working and shortening TAT in a transfer process of a circuit pattern of an exposure layer in semiconductor device manufacture.
半導体デバイス製造における露光層の回路パターンの転写工程において、条件出し作業を省き、ＴＡＴの短縮，露光装置の稼動効率向上を図る。 - 特許庁 - To provide a process by which when a transparent resin structure is formed on a three-dimensional substrate, the transparent resin structure can be formed with good dimensional accuracy.
立体基板上に透明樹脂構造体を形成する場合に、寸法精度よく透明樹脂構造体を形成することができる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To freely change/set the procedure and contents of a defective acceleration operation sequence in the initializing sequence and burn-in process after applying a power while decreasing the control signals.
制御信号を少なくして、電源投入後の初期化シーケンスおよびバーンイン工程の不良加速動作シーケンスの手順と内容とを自由に変更・設定する。 - 特許庁 - To provide a method for producing tea beverage group packed in container, by which the content of methylated catechin is kept at a prescribed value, in the production process of the tea beverage packed in a container.
容器入り茶飲料の製造工程において、メチル化カテキンの含有量を所定の値に保つことが可能な容器入り茶飲料群の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device that has a fixed crystal face orientation, can perform relatively high-densely integration, and has a comparatively simple process.
結晶面方位が一定であり、相対的に高密度に集積が可能であり、かつ、比較的簡単なプロセスを有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To realize a signal level change detection circuit by which stable edge detection is realized by suppressing the effects of process dependence and of fluctuations in a power supply voltage and temperature or the like.
プロセス依存性、電源電圧および温度などの変動による影響を抑制でき、安定したエッジ検出を実現可能な信号レベル変化検出回路を実現する。 - 特許庁 - The correction processing part 6 receives images for a page from the page memory 4, specifies a document in a predetermined process and stocks a processing command corresponding to the document in a correction processing memory 5.
加筆処理部６は、ページメモリ４からページ分の画像を受け取り、所定のプロセスで帳票を特定し帳票に応じた処理コマンドを加筆処理メモリ５に蓄積する。 - 特許庁 - (3) A process for introducing a gel precursor solution including capture probes into the hollow part of each hollow fiber and causing the gelled substance including the capture probes to be held in the hollow part of each hollow fiber.
(3) キャプチャープローブを含むゲル前駆体溶液を各中空繊維の中空部に導入し、キャプチャープローブを含むゲル状物を中空繊維の中空部に保持する工程。 - 特許庁 - To provide an organic light emitting display device having higher luminance and higher resistance uniformity in a pad part and manufactured through a simpler process, and a manufacturing method for the organic light emitting display device.
製造工程が単純化され、パッド部での抵抗均一度が向上して輝度が向上した有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - An image processing can be started by a process using a small block before completing a scan of a whole image or before loading the whole image to a memory or a buffer.
小さなブロックによる処理により、画像全体のスキャンの終了前にまたは画像全体がメモリもしくはバッファにロードされる前に画像処理を開始することができる。 - 特許庁 - In the second ink ejection process, the ink is ejected from the nozzles while the head is moved in a second direction that intersects the conveyance direction and is opposite to the first direction.
第２インク吐出工程では、搬送方向とは交差し第１方向とは反対の第２方向にヘッドを移動させつつ、前記ノズルからインクを吐出させる。 - 特許庁 - Thus, the change of the electric characteristics of the device is prevented and simultaneously the electrostatic attraction of the wafer W to the suspecter 5 at a process finishing time can be sufficiently alleviated.
これにより、デバイスの電気的特性の変動を防止すると同時に、プロセス終了時点でのＳｉウェハＷとサセプタ５との静電吸着を十分に緩和できる。 - 特許庁 - Rinse liquid adhered on the substrate surface Wf is substituted by the liquid mixture by supplying a liquid mixture (IPA+DIW) to the substrate surface Wf after a rinsing process.
リンス処理後に基板表面Ｗｆに混合液（ＩＰＡ＋ＤＩＷ）を供給して基板表面Ｗｆに付着しているリンス液を混合液に置換する。 - 特許庁 - To provide a gamma correction method, capable of executing an inverse gamma correction process with sufficient accuracy for making the gamma characteristics of a digital input signal and match those of a display apparatus.
ディジタル入力信号のガンマ特性と表示装置のガンマ特性とを合わせるために、十分な精度で逆ガンマ補正処理を行えるガンマ補正方法を提供する。 - 特許庁 - Information is inputted from each of facilities 41-45 provided in an electronic component mounting process 4 through a LAN5 to an information receiving part 2a of a server 2 (step S1).
電子部品実装工程４に設けられている各設備４１〜４５からＬＡＮ５を介してサーバ２の情報受信部２ａに情報が入力される（ステップＳ１）。 - 特許庁 - To solve a problem wherein a film thickness control method when preparing an NBPF is different from an evaluation method after the NBPF is prepared, in a conventional NBPF manufacturing process.
従来のＮＢＰＦの製造工程におけるＮＢＰＦ作成時の膜厚制御法とＮＢＰＦ作成後の評価法が異なるための問題点を解決する。 - 特許庁 - To provide a solid-state imaging apparatus which is produced by almost the same production process for usual solid imaging apparatuses and has a plurality of resolution areas.
通常の固体撮像装置とほぼ同一の製造プロセスにより製造可能な、複数の解像度領域を有する固体撮像装置を実現できるようにする。 - 特許庁 - To provide a process for manufacturing a ceramic foundry core having at least one thin region with a thickness "e", in the trailing edge of a turbomachine blade.
ターボ機械のブレードの後縁において、厚さ「ｅ」の少なくとも１つの薄肉領域を有するセラミック製鋳物用中子を製造するためのプロセスを提供する。 - 特許庁
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