「X-R」を含む例文一覧(870)

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  • In the formula, R is selected independently from the groups consisting of a hydrogen atom, a hydrocarbon group, a heteroatom and their combination; n is the number of recurring units ranging from 1 to about 35,000; and x is an integer of 1 to about 5.
    式中、Rは、無関係に、水素原子、炭化水素基、ヘテロ原子、およびそれらの組合せからなる群より選ばれ、nは1から、およそ35,000までの繰返し単位の数を表し、および式中、xは1から、およそ5までの整数を表す。 - 特許庁
  • R-CH(OX^2)CH_2OX^1 In the formula R is a linear or branched 6-34C alkyl group or alkenyl group, at least one of X^1 and X^2 is -(CH_2)_nCOOM, and the rest is optionally H.
    Ｒ−ＣＨ（ＯＸ^2）ＣＨ_2ＯＸ^1 式中、Ｒは炭素数６〜３４の直鎖もしくは分岐のアルキルまたはアルケニル基、Ｘ^1およびＸ^2のうち少なくとも一方は−（ＣＨ_2）nＣＯＯＭであり、残りは水素原子でもよい。 - 特許庁
  • The first step is introducing a silicon-containing hydrocarbon compound expressed by a general formula SiαOα-1(R)2α-β+2(OCnH2n+1)β (where α, β, x and y are integers) and then introducing the vaporized compound to the reaction chamber of the plasma CVD apparatus.
    第１段階は，一般式Si_αO_α-1(R)_2α-β+2(OC_nH_2n+1)β（式中，α,β,x,yは整数）で表されるシリコン系炭化水素化合物及び気化された化合物をプラズマＣＶＤ装置の反応チャンバに導入することである。 - 特許庁
  • The silicate composition is obtained by modifying an alkyl silicate with a compound of formula(1):R-X-(CH_2CH_2O)_3-H(wherein, R is a 4-18C hydrocarbon group; and X is -O- or -COO-).
    アルキルシリケートを下記式（１）；Ｒ−Ｘ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_３−Ｈ （１）（式中、Ｒは、炭素数４〜１８の炭化水素基を表す。Ｘは、−Ｏ−又は−ＣＯＯ−を表す。）で表される化合物で変性して得られるシリケート組成物。 - 特許庁
  • In the case of off-line set-up (YES in S01) or in the case of on-line set-up even if mounting coordinate data X, Y, R of coordinate data 79 are not fixed (NO in S02), teaching of the mounting coordinate data X, Y, R is performed (S03).
    外段取りの場合（Ｓ０１がＹＥＳ）、又は内段取りでも座標データ７９の搭載座標データＸ、Ｙ、Ｒが確定していない場合は（Ｓ０２がＮＯ）、搭載座標データＸ、Ｙ、Ｒのティーチングを行う（Ｓ０３）。 - 特許庁
  • To provide a display apparatus capable of reducing the dispersion of pixel deterioration among unit pixels of R, G, B, and X (X is an optional color other than R, G and B) and capable of suppressing the generation of sticking.
    この発明は、ＲＧＢＸ（ＸはＲＧＢ以外の任意の色）の単位画素間の画素劣化のばらつきを低減でき、焼き付きの発生を抑えることができるようになる表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The fluorine-containing polyether compound is produced by reacting a fluorine-containing dicarboxylic acid fluoride compound [II] (wherein l and m are each independently an integer of at least 10; and l+m is 30-200) with an aniline compound [III] (wherein R^1 is hydrogen, 1-3C alkyl or phenyl group; R^2 is hydrogen or a trimethylsilyl group; and X is bromine or iodine).
    含フッ素ジカルボン酸フルオリド化合物(ここで、lおよびmはそれぞれ独立に10以上の整数であり、l+mは30〜200である)を、アニリン化合物(ここで、R^1は水素原子、炭素数1〜3のアルキル基またはフェニル基であり、R^2は水素原子またはトリメチルシリル基であり、Xは臭素原子またはヨウ素原子である)と反応させ、含フッ素ポリエーテル化合物を得る。 - 特許庁
  • (In the formula, R^1 through R^4 are each a methyl group; R^5 through R^21 are each hydrogen or a methyl group; X^1 through X^3 are each chlorine or a methyl group; J is silicon; and M is titanium).
    工程１：式（１−３）に代表される遷移金属錯体と有機アルミニウム化合物とを接触させる触媒成分の調製工程工程２：更に、ホウ素化合物とを接触させて得られる触媒の存在下、エチレンを三量化させる工程Ｒ^１〜Ｒ^４はメチル基、Ｒ^５〜Ｒ^２１は水素又はメチル基、Ｘ^１〜Ｘ^３は塩素又はメチル基、Ｊはケイ素、Ｍはチタン - 特許庁
  • Based on a clip range obtained by using a reduced image, the R(x, y) is normalized for obtaining a normalized reflectance (normalized Retinex value) refle(x, y) (S12).
    次に、縮小画像を用いて求めたクリップ範囲に基づいて、Ｒ（ｘ，ｙ）を正規化し、正規化反射率（正規化レティネックス値）ｒｅｆｌｅ（ｘ、ｙ）を得る（Ｓ１２）。 - 特許庁
  • The reagent for oxidation reaction of an alcohol comprises a compound represented by the formula: P-X^1-SR (I) (wherein P is a polymer residue; X^1 is a spacer; R is H or CH_3).
    式： Ｐ−Ｘ^1−ＳＲ（I）（式中：Ｐはポリマー残基；Ｘ^1はスペーサー；Ｒは、ＨまたはＣＨ_3）で示される化合物（I）を含有する、アルコールの酸化反応用試薬。 - 特許庁
  • Also coordinates X are determined by compensating the point Q(0) with the preceding bias error estimation value Y, and coordinates R(0) on the nearest road from the coordinates X are calculated.
    この他、本装置は、地点Ｑ（０）を前回のバイアス誤差推定値Ｙで補正して座標Ｘを求め、座標Ｘから最短の道路上の座標Ｒ（０）を算出する。 - 特許庁
  • The user corrects the white balance adjustment by using a cross-cursor wherein B-R is located onto the X axis and G-Mg is arranged onto the Y axis.
    ホワイトバランス調整の補正は、Ｘ軸にＢ−Ｒ、Ｙ軸にＧ−Ｍｇを配置した十字カーソルで実行する。 - 特許庁
  • The relief profile (R), the superimposition function (M) and also the diffraction structure (S;S*;S**) are functions of the co-ordinates x and y.
    レリーフ・プロファイル（Ｒ）、重畳関数（Ｍ）、および回折構造体（Ｓ；Ｓ^＊；Ｓ^＊＊）は座標軸ｘおよびｙの関数である。 - 特許庁
  • In the formulas, X denotes a halogen atom; R denotes a 1-10C hydrocarbon group; n denotes 1 or 2.
    （式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒは炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、ｎは１又は２を表す。） - 特許庁
  • At least two spokes of each group (R), viewed in the direction of the axis (X) of the wheel, cross over one another.
    各スポーク群（Ｒ）における少なくとも２本のスポークは、車輪の軸心（Ｘ）の方向から見て互いに交差している。 - 特許庁
  • The new substance is a β-glucuronidase inhibitor comprising a lysophospholipid represented by the general formula(1)( wherein, R is a 10-30C saturated or unsaturated aliphatic acyl; and X is H or a polar group ).
    下記一般式（１）で示されるリゾリン脂質を含むことを特徴とするβ−グルクロニダーゼ阻害剤。 - 特許庁
  • Thus, the X-R shaft drive unit 23 conducts the relative position adjustment of the substrate 1 in relation to the mask 51.
    このようにＸ・Ｒ軸駆動ユニット２３によりマスク５１に対する基板１の相対位置調整を行っている。 - 特許庁
  • Simultaneous automated deriving of a cylinder radius r (θ) and an X axis correcting amount δx (ψ) from y (θ) is possible.
    更に、ｙ（θ）より円筒半径ｒ（θ）、Ｘ軸補正量δｘ（ψ）を求めることも同時に自動化可能である。 - 特許庁
  • In the general formula (I), R^1, R^2, R^3 and R^4 are each independently either one selected from a hydrogen atom and 1-3C hydrocarbon groups, and M is a metal atom forming a planar tetracoordination type coordination structure, and X is a halogen atom.
    なお、一般式（Ｉ）中のＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^４は、それぞれ独立に、水素原子及び炭素数１〜３の炭化水素基から選択されるいずれかであり、Ｍは、平面四配位型の配位構造を形成する金属原子であり、Ｘはハロゲン原子である。 - 特許庁
  • The flame retardant is obtained by mixing a phosphonium salt represented by general formula (wherein, R^1, R^2, R^3, R^4 respectively independently denote a 1 to 8C alkyl group which may be branched; and X denotes an anion), tetraalkoxysilane, silicon dioxide and alkali.
    難燃性付与剤は、下記一般式で表されるホスホニウム塩、（上記式中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^４はそれぞれ独立して炭素数１〜８の分岐していてもよいアルキル基を表し、Ｘはアニオンを表す。） テトラアルコキシシラン、二酸化ケイ素及びアルカリを混合してなる。 - 特許庁
  • This new compound is a 2,6-dichloro-4-cycloaminomethylpyridine derivative represented by formula (I) (wherein R, R^1 to R^7 are the same or each independently H, 1-4C alkyl, 2-8C alkenyl or the like; n is 0 or 1; and X is O or S).
    式（Ｉ）（Ｒ，Ｒ^１〜Ｒ^７は、同一又は独立の水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニル基等、ｎは０〜１の整数、Ｘは酸素原子又は硫黄原子。）の２，６−ジクロロ−４−環状アミノメチルピリジン誘導体。 - 特許庁
  • In compound (1), R^1 and R^2 are each H, a 1-8C alkyl group, or a 5-8C cycloalkyl group, R^3 is H or a 1-8C alkyl group, and X is a single bond, S, O, a 1-8C alkylidene group or a 5-8C cycloalkylidene group.
    （式中、Ｒ^1及びＲ^2は、Ｈ、Ｃ_１〜８アルキル基、Ｃ_５〜８シクロアルキル基を表し、Ｒ^3はＨ又はＣ_１〜８アルキル基を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｏ、Ｃ_１〜８アルキリデン基又はＣ_５〜８シクロアルキリデン基を表す。） - 特許庁
  • In general formula, R is -NHR^1 or -OX (X is hydrogen or a metal ion radical); the ratio of -NHR^1 to the total R is 1-40%; and R^1 is a 10-30C aliphatic hydrocarbon group.
    式中、Ｒは、-ＮＨＲ^1又は-ＯＸ（Ｘは水素又は金属イオン根を表す）を表し、ここで、Ｒが-ＮＨＲ^1である割合は全Ｒの１〜４０％であり、Ｒ^1は、炭素数１０〜３０の脂肪族炭化水素基を表す。 - 特許庁
  • (R^1 is H, a 1-10C alkyl or a halogen atom; R^2 is H or a 1-10C alkyl or haloalkyl; R^3 is a 1-10C alkyl; X is a halogen atom; and M is an alkali metal or an alkaline earth metal).
    （Ｒ^1は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基及びハロゲン原子、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基又はハロアルキル基、Ｒ^3は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｘはハロゲン原子、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土金属） - 特許庁
  • In actual component mounting processing, component mounting position coordinates are determined to mount components based on the coordinate data 79 fixing the unitary managed mounting coordinate data X, Y, R and the mounting adjust data X, Y, R for each present device.
    部品の実搭載処理では一元管理されている搭載座標データＸ、Ｙ、Ｒが確定している座標データ７９と自装置ごとの搭載アジャストデータＸ、Ｙ、Ｒとに基づいて部品搭載位置座標を決定して部品を搭載する。 - 特許庁
  • Disclosed are a carbazole compound represented by formula (1) (wherein X^1 is a halogen atom; and R^1 is a 4-20C alkyl group) and a tetrahydrocarbazole compound represented by formula (2) (wherein X^1 and R^1 are as defined above).
    式（１）（式中、Ｘ^１はハロゲン原子を表わし、Ｒ^１は炭素数４〜２０のアルキル基を表わす。）で示されるカルバゾール化合物および式（２）（式中、Ｘ^１およびＲ^１は上記と同一の意味を表わす。）で示されるテトラヒドロカルバゾール化合物。 - 特許庁
  • The present invention provides a compound represented by the general formula (I) (wherein X, Y, Z, D and R^3 are as defined in the specification) for treating ocular hypertension or glaucoma and a derivative thereof, and a pharmaceutically acceptable salt or a prodrug thereof.
    本発明は、高眼圧または緑内障を処置するための、式I：［式中、X、Y、Z、DおよびR^3は明細書中に定義するとおりである］で示される化合物またはその誘導体、または医薬的に許容されるその塩またはプロドラッグも提供する。 - 特許庁
  • This new 3,4-dihydroxymilbemycin derivative represented by the general formula (I) (R is a 1 to 6C alkyl; X is H or 2-methoxyimino-2-phenylacetoxy; when R is methyl, X is not H).
    一般式（Ｉ）：（式中ＲはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基を示し、Ｘは水素又は２−メトキシイミノ−２−フェニルアセトキシ基を示すが、Ｒがメチル基の場合はＸは水素を示さない）で表される新規な３，４−ジヒドロミルベマイシン誘導体、及びその製造方法。 - 特許庁
  • In the formula, a specific group in R^1 to R^6 is -X-(CH_2)_m-SH (X is O, OCO, COO, NH or NHCO; and m is 1-20) and the other groups are each a hydrogen atom, a 1-6C hydrocarbon group or a 1-6C hydrocarbon group connected through an oxygen atom or a nitrogen atom.
    (Ｒ^1〜Ｒ^6の特定の基が−Ｘ−(CH_2)m−SH(ＸはO、OCO、COO、NH又はNHCO、ｍは１〜２０)であり、残りの基が、水素原子、炭素数１〜６の炭化水素基、又は酸素原子あるいは窒素原子で連結された炭素数１〜６の炭化水素基) - 特許庁
  • The rust preventive is a composition comprising: a polyfluoroalkyl group-containing mercapto compound expressed by the following formula (1), R^f1-(CH_2)n-X-(CH_2)m-SH (wherein, R^f1 is a polyfluoroalkyl group; and X is a linking group) and a fluorine-containing polymer.
    式（１）で表されるポリフルオロアルキル基含有メルカプト化合物と、含フッ素ポリマーとを含有する組成物である防錆剤、Ｒ^ｆ１−（ＣＨ_２）ｎ−Ｘ−（ＣＨ_２）ｍ−ＳＨ・・・（１） ここで、Ｒ^ｆ１はポリフルオロアルキル基、Ｘは連結基である。 - 特許庁
  • (X^1 and X^2 are each independently a chalcogen atom; n is an integer of 1-3; R^1 and R^2 are each independently a halogen atom, 1-18C alkyl groups, 1-18C alkyl groups having halogen atoms, 1-18C alkyloxy groups, 1-18C alkylthio groups or aryl groups).
    （Ｘ^1及びＸ^2はそれぞれ独立してカルコゲン原子。ｎは１〜３の整数。Ｒ^1及びＲ^2はそれぞれ独立して、ハロゲン原子、Ｃ_1-18アルキル基、ハロゲン原子を有するＣ_1-18アルキル基、Ｃ_1-18アルキルオキシ基、Ｃ_1-18アルキルチオ基またはアリール基。） - 特許庁
  • This liquid detergent composition contains a tetraalkylammonium silicate expressed by the formula; R_2O-xSiO_2 (R is a molecule to form a tetraalkylammonium cation; and 0.5≤x≤3) as an anhydride in an amount of ≥0.1 wt.% and <2 wt.% when reduced to SiO_2.
    無水物の化学組成が以下の一般式： R_2O・xSiO_2（式中、Rはテトラアルキルアンモニウムカチオンとなる分子を示し、ｘは0.5≦x≦3を満たす）で表されるテトラアルキルアンモニウムシリケートを、SiO_2換算で0.1重量%以上2重量％未満含有してなる液体洗浄剤組成物。 - 特許庁
  • The government is pushing ahead with R&D on fundamental monodzukuri technologies, such as development and promotion of public utilization of cutting-edge large R&D facilities (completing development of the X-ray free electron laser facility “SACLA” and partial startup of the next-generation K computer supercomputer “K computer”).
    また、最先端の大規模研究開発基盤の整備・共用（X線自由電子レーザー施設「SACLA」の整備完了、次世代スーパーコンピュータ「京」の一部稼働）を通じ、我が国独自の価値創造型ものづくり基盤技術の研究開発に取り組んでいる。 - 経済産業省
  • An quantitative information calculated from the fluorescence X-ray intensity is corrected based on the curvature 1/R or radius R of the surface of an analysis target 20 in a control part 11C.
    制御部１１Ｃで、分析対象２０の表面の曲率１／Ｒまたは半径Ｒに基づいて、蛍光Ｘ線強度から算出される量的情報を補正する。 - 特許庁
  • An inter-node set relevancy analysis means 1c calculates a relevancy R(R(X, Y)) between each free node included in a first target node group and each node included in a set of anchor nodes.
    ノード集合間関連性解析手段１ｃは、第１対象ノード群に含まれる各フリーノードとアンカーノード集合に含まれる各ノードとの関連性Ｒ（Ｒ（Ｘ，Ｙ））を算出する。 - 特許庁
  • The screen printing resin composition is composed of a polymer represented by formula (1) (wherein X is a trivalent organic group; Y is a divalent organic group; R^1 is an alkyl group; and R^2 is an alkyl group or an alkoxy group).
    下記一般式（Ｘは３価の有機基、Ｙは２価の有機基、Ｒ^1はアルキル基、Ｒ^2はアルキル基又はアルコキシ基。）で示されるポリマーからなるスクリーン印刷用組成物。 - 特許庁
  • l l l c lp-1.
    [ 訳注 原文では Char の部分に KOI8-R の文字があったが、日本語 EUC との併用は難しいので削除し、JIS X 0208 の同じ文字を示すようにした。 その他の文字に関しては英語版の koi8-r(7) を適切なフォントを準備して参照。 - JM
  • In the formula (1), R^1 denotes a 1-6C alkyl, R^2 a 1-6C alkyl or cyclohexyl, X a 1-4C alkyl and Y a hydrogen atom or a methyl.
    （式中、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基を、Ｒ^２は炭素数１〜６のアルキル基、シクロヘキシル基を表し、Ｘは炭素数１〜４のアルキル基、Ｙは水素原子、メチル基を表す。） - 特許庁
  • The photosensitive composition containing (A) a polyamic acid ester of formula [I] (where X is a tetravalent organic group; Y is a divalent organic group; and R and R' are each a monovalent group containing an olefinic double bond), (B) a photopolymerization initiator and (C) a solvent having a structure of formula [II] is produced.
    （Ａ）下記式[I]のポリアミド酸エステル、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）下記一般式[II]の構造を有する溶媒を含む感光性組成物を製造する。 - 特許庁
  • The mixture of dipyromethene metal chelate compounds are represented by the general formulas (1), (2) and (3) [wherein e.g. R^1 to R^5 are each hydrogen; X is bromine; M is copper].
    下記一般式（１）、（２）、及び（３）で示されるジピロメテン金属キレート化合物の混合物、該混合物からなる記録層用色素、及びこれを記録層に含有してなる光記録媒体。 - 特許庁
  • An element unit Q includes a plurality of element rows R, arranged in parallel with the Y direction, wherein in the element rows R; and a plurality of display elements E, corresponding to the plurality of signal lines 14 are arranged in the X direction.
    素子部Ｑには、複数の信号線１４の各々に対応する複数の表示素子ＥをＸ方向に配列した複数の素子行ＲがＹ方向に並置される。 - 特許庁
  • X=(R/ d)×(D/T)1/2 (where R: reduction volume, d: thickness of the unsolidified portion of 0.8 or less solid rate at the time of reducing start, D: diameter of reducing roll, T: thickness of billet after bulging, unit: mm).
    Ｘ＝（Ｒ／ｄ）×（Ｄ／Ｔ）^1/2 ・・・（Ａ） Ｒ：圧下量、ｄ：圧下開始時の固相率が０．８以下の未凝固部分の厚み、Ｄ：圧下ロールの直径、Ｔ：バルジング後の鋳片の厚み、単位：ｍｍ。 - 特許庁
  • The amide represented by general formula (1) (wherein R^1 and R^2 are same or different and they are each a lower alkyl group; X^1 is a halogen atom or hydroxy group) is used as the new compound.
    一般式（１） （式中、Ｒ^1およびＲ^2はそれぞれ同一または相異なって、低級アルキル基を表わし、Ｘ^1はハロゲン原子または水酸基を表わす。）で示されるアミド誘導体。 - 特許庁
  • When a polar coordinate by an angle of rotation θ(°) from a radius vector r and the X-axis is taken on the reference surface 18, the spiral S is expressed by r=r_0+d(2π/360)*θ (however, d is negative).
    基準面１８に、動径ｒとＸ軸からの回転角θ（°）による極座標をとると、螺旋Ｓはｒ＝ｒ_０＋ｄ（２π／３６０）・θ（但し、ｄは負数）で表される。 - 特許庁
  • In general formulae (1) and (2), R^1 and R^2 are each independently an optionally substituted hydrocarbon group and may be different; X is a halogen; x is 1 or 2; and y is a number satisfying 4-x.
    Ｒ^１_χＳｉ（ＯＲ^２）_ｙ ・・・一般式（１）Ｒ^１_χＳｉＸ_ｙ ・・・一般式（２）（一般式（１）及び一般式（２）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基を表し、各Ｒ^１及びＲ^２は異なっていても良い。また、Ｘはハロゲンを表し、χは１又は２を表し、ｙは４−χを満たす数を表す。） - 特許庁
  • Novel compounds comprising esters of antiviral phosphonomethoxy nucleotide analogs with carbonates and/or carbamates having the structure of -OC(R^2)_2OC(O)X(R)_a, wherein R^2 complies with a specific definition, are useful as intermediates for the preparation of antiviral compounds or oligonucleotides, or are useful for administration directly to patients for antiviral therapy or prophylaxis.
    抗ウイルスホスホノメトキシヌクレオチドアナログと構造-OC(R2)2OC(O)X(R)aを有するカーボネートおよび／またはカルバメートとのエステルを含む新規化合物であって、抗ウイルス化合物またはオリゴヌクレオチドの調製のための中間体として有用であり、あるいは抗ウイルス治療または予防のために患者に直接投与するのに有用である化合物（R2については明細書中の記載に従う）。 - 特許庁
  • This [R-(R*,R*)]-2-(4-fluorophenyl)-β,δ-dihydroxy-5-(1- methylethyl)-3-phenyl-4-[(phenylamino)carbonyl]-1H-pyrrol-1-heptanoic acid (atorvastatin) hydrate in a new crystalline form called form III characterized by X-ray powder diffraction and/or NMR in a solid state, and the medicine composition comprising the compound are provided.
    Ｘ線粉末回折および／または固体状態のＮＭＲによって特徴づけられる形態IIIと称せられる新規な結晶性形態の〔Ｒ−(R^*,R^*)〕−２−(４−フルオロフェニル)−β,δ−ジヒドロキシ−５−(１−メチルエチル)−３−フェニル−４−〔（フェニルアミノ）カルボニル〕−１Ｈ−ピロール−１−ヘプタン酸（アトルバスタチン）水和物、ならびに該化合物を含有する医薬組成物。 - 特許庁
  • In general formula (I), R^1 represents a monovalent substituent including an aromatic ring or a heteroaromatic ring; X^1, X^2, X^3 and X^4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group; Y represents a single bond or a carbonyl group; and Z represents a methyl group or phenyl group.
    一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は芳香環又はヘテロ芳香環を含む１価の置換基を表し、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３及びＸ^４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、Ｙは単結合又はカルボニル基を表し、Ｚはメチル基又はフェニル基を表す。 - 特許庁
  • Incident X-rays 203 of Kα of copper Cu from an X-ray tube 201 are passed through a slit 202, a reflected by a crystal surface (r) of a lumbered quartz crystal 220 at a point of incidence 204, and enter a scintillation counter 214 which is an X-ray detecting part as reflected X-rays 213.
    Ｘ線管２０１からの銅ＣｕのＫαの入射Ｘ線２０３はスリット２０２を通り入射点２０４でランバード加工水晶２２０である水晶ｒ面で反射し、反射Ｘ線２１３として、Ｘ線検出部であるシンチレーションカウンタ２１４にはいる。 - 特許庁
  • A camera 61 obtains information (X, Y and θ) on an X-axis position X and a Y-axis position Y in a work inspection region R and a rotation angle θ around an axis vertical to an X-Y plane for a tool and a workpiece W on the working inspection region by imaging them.
    カメラ６１が、加工検査領域ＲにおけるＸ軸位置Ｘ及びＹ軸位置Ｙ並びにＸ−Ｙ面に垂直の軸の回りの回転角θに関する情報（Ｘ，Ｙ，θ）を工具と加工検査領域上のワークＷについてこれらを撮影して求める。 - 特許庁
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