「X-R」を含む例文一覧(870)

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  • Incidence X rays 103 of copper Cuα1 (1.5374 Å) from an X-ray tube 101 pass through a slit 102 and is reflected from a crystal r surface that is an artificial crystal ingot 105 at an incidence point 104, and enters an X-ray detection section 112 as reflection X-rays 111.
    Ｘ線管１０１からの銅Ｃｕα_１（１．５３７４Å）の入射Ｘ線１０３はスリット１０２を通り入射点１０４で人工水晶インゴット１０５である水晶ｒ面で反射し、反射Ｘ線１１１として、Ｘ線検出部１１２に入る。 - 特許庁
  • The electronic components have a storage height W and a storage dimension X perpendicular to it, and corners with a curvature radius R.
    電子部品は、収納高さＷ及びそれに直交する収納寸法Ｘと、曲率半径Ｒの隅部とを備える。 - 特許庁
  • The operating ranges R(x) of the head units 22A and 22B moving on a printed-circuit board P are allocated at every head unit 22A and 22B.
    プリント基板Ｐ上を移動するヘッドユニット２２Ａ、２２Ｂの稼動範囲Ｒ（ｘ）をヘッドユニット２２Ａ、２２Ｂ毎に割り当てる。 - 特許庁
  • The pads 102 are carried to the releasing point R from the holding point H by lifting bags X, and are placed on and distributed to the conveyor 65.
    パッド１０２は袋Ｘを持ち上げて保持地点Ｈから解除地点Ｒに運んでコンベア６５に載置して振り分ける。 - 特許庁
  • The X and Y coordinates are smoothly joined by an arc of radius R defining airfoil profile sections at each distance Z.
    Ｘ及びＹ座標は、各距離Ｚにおける翼形輪郭断面を定める半径Ｒの円弧によって滑らかに結ばれる。 - 特許庁
  • In formula (1), R^1 represents an alkyl group; and each of X and Y independently represents a benzene ring which may have a substituent.
    （式（１）中、Ｒ^１はアルキル基を示し、Ｘ及びＹは、それぞれ独立に、置換基を有しても良いベンゼン環を表す。） - 特許庁
  • The cooling path R is also formed on the side (X direction) where the halogen lamp 10 is not attached of the lamp housing 1.
    このような冷却通路Ｒは、ハロゲンランプ１０の取り付け側ではないランプハウス１の側方（Ｘ方向）にも形成される。 - 特許庁
  • (Wherein, R is a ≥4C alkyl; X and X' are each independently H, Cl or Br; and n is an integer of ≥110 but ≤200).
    （式（１）中、Ｒは、炭素数４以上のアルキル基を表わし、Ｘ及びＸ’はそれぞれ独立に、水素原子、塩素原子又は臭素原子を表わし、ｎは、１１０以上、２２０以下の整数を表わす。） - 特許庁
  • Furthermore, the recording medium RM stores number of longitudinal and lateral pixels Y, X of the two-dimensional image, coordinates (x, y) of the circular image area IR, and a radius r of the circle as shape information.
    また２次元画像の縦と横の画素数Ｙ，Ｘと、画像領域ＩＲの円の座標（ｘ，ｙ）と、円の半径ｒとを形状情報として記録媒体ＲＭに記録する。 - 特許庁
  • The process for producing a pyrylium compound represented by formula (3) (wherein R^1, R^2, and R^3 are the same or different and are nonmetallic atom-containing groups and X is a chalcogen atom) comprises reacting a chalcogenopyrylium compound with squaric acid or croconic acid.
    カルコゲノピリリウム化合物とスクアリン酸またはクロコン酸とを反応させて、下記式（３）（式中、Ｒ^1、Ｒ^2、Ｒ^3は同一又は異なって、非金属原子含有基を示し、Ｘはカルコゲン原子を示す）で表されるピリリウム化合物を製造する。 - 特許庁
  • A 3,4-dialkoxy-2-(alkylthio)phenol expressed by compound (3) (in the formula, R^1, R^2 and R^3 are each an alkyl group; and X is a halogen atom) is produced by reacting a 3,4-dialkoxyhalobenzene expressed by formula (1) with a dialkyl sulfoxide expressed by formula (2) in the presence of a base.
    塩基の存在下、３，４−ジアルコキシハロベンゼンと、ジアルキルスルホキシドを反応させることにより、化合物（３）（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、前記と同義である。）で示される３，４−ジアルコキシ−２−（アルキルチオ)フェノールを製造することが出来る。 - 特許庁
  • Wherein, in general formula (A'), X is an electron-withdrawing group or the like; R is a hydrocarbon group; R' and R" are a group represented by a halogen atom or the like, except fluorine atom; m is an integer of 0-10; k is an integer of 0-5; l is an integer of 0-4; and k+1≥1.
    （式（Ａ'）中、Ｘは電子吸引基等、Ｒは炭化水素基、Ｒ'およびＲ''はフッ素原子を除くハロゲン原子等で表される基、ｍは０〜１０の整数、ｋは０〜５の整数、ｌは０〜４の整数、ｋ＋ｌ≧１である。） - 特許庁
  • The π-electron conjugated organic silane compound is expressed by R^1-SiX^1X^2X^3 (R^1 is an organic group containing a monocyclic heterocyclic unit having an atom forming σ^*-π^* conjugation system; and X^1 to X^3 are each a group giving a hydroxyl group by hydrolysis).
    Ｒ^１−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３（Ｒ^１はσ^＊-π^＊共役系を形成する原子を含有する単環式複素環ユニットを含む有機基；Ｘ^１〜Ｘ^３は加水分解により水酸基を与える基）で表されるπ電子共役系有機シラン化合物。 - 特許庁
  • The plane plotted result shows the shape of the probe tip with X as the distance from the maximum height and Y as the radius of the sectional portion, and the radius R of curvature and the opening angle 2a of the probe tip reflecting the surface shape of the probe tip are digitized by the calculation.
    ここで最大高さからの距離をX、断面部分半径をYとして平面プロットした結果が探針先端形状を示し、計算により探針先端表面形状を反映した探針先端曲率半径Rと探針先端開き角2αを数値化した。 - 特許庁
  • The Zr precursor is represented by general formula; Zr_x(OR)_yL_z (wherein R is an alkyl group; L is a β-diketonate group; x is 1 or 2; y is 2, 4 or 6; and z is 1 or 2), and is used for depositing thin films of or containing zirconium oxide using an MOCVD technique.
    一般式: Zr_x(OR)_yL_z (式中、Rはアルキル基であり; Lはβ-ジケトネート基であり; x = 1又は2であり; y = 2、4又は6であり; z = 1又は2である。）を有する、MOCVD法を用いて酸化ジルコニウムの薄膜又は酸化ジルコニウムを含む薄膜を堆積させるのに用いるジルコニウム前駆物質。 - 特許庁
  • The compound having the polar group is preferably organic molecules represented by R-X, wherein R is an organic group, and a functional group X is a functional group bonded by direct single bond and is any of carboxyl group, hydroxy group and amino group.
    極性基を有する化合物が、Ｒ−Ｘ（Ｒは有機基を示し、官能基Ｘは、Ｒに直接単結合により結合している官能基であって、カルボキシル基、水酸基、アミノ基のいずれかである）で表される有機分子であることが好ましい。 - 特許庁
  • The magnetostrictive material having a composition expressed by RT_x (R is one or more kinds of rare earth elements; T is one or more kinds of elements selected from the group consisting of Fe, Ni and Co; and X is the atomic ratio of T to R and satisfies 1≤X≤9) is obtained by a powder metallurgical process.
    ＲＴ_X （Ｒは一種類以上の希土類元素、ＴはＦｅ、Ｎｉ、およびＣｏからなる群より選択される一種類以上の元素、ＸはＲに対するＴの原子比で、１≦Ｘ≦９）で表される組成の磁歪材を、粉末冶金法により得る。 - 特許庁
  • In the formula: R^1 is an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or the like; R^2 is a hydrogen atom, a 1-6C alkyl group, or the like; one of X and Y is a disubstituted alkylaminocarbonyl group or the like; and the other of X and Y is a hydrogen atom, an alkyl group, or the like.
    （上記式中、Ｒ^１は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基等であり、Ｒ^２は、水素原子、Ｃ_１−６アルキル基等であり、ＸおよびＹのいずれか一方はジ置換のアルキルアミノカルボニル基等であり、他方は水素原子、アルキル基等である。） - 特許庁
  • Preferably, the compound of general formula (II) is produced from a compound I-A through compounds of formulas I-B, I-C and I-D.
    好ましくは、一般式(II)の化合物は、化合物Ｉ-Aを出発原料とし、化合物Ｉ-B、Ｉ-C、Ｉ-Dを経て製造される（式中、R^1は水素原子または置換基を表す。R^2及びR^3はそれぞれハメットの置換基定数σｐの値が0.2以上の電子吸引性基を表す。R^4、R^5は置換基を表す。R^6はアルキル基、アリール基を表わす。Xはスルホニル基またはカルボニル基を表わす。Yはこれを含む環を形成するのに必要な非金属原子群を表わす。） - 特許庁
  • The 5,5-disubstituted-3-pyrrolin-2-one derivative is produced by reacting an acrylic acid amide derivative expressed by general formula (1) [wherein, X is a halogen atom; R^1, R^2 are each a 1-8C alkyl or the like; and R^3, R^4 are each a 1-8C alkyl or the like] with a base.
    一般式（１）（式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒ^１及びＲ^２は炭素数１〜８のアルキル基等を表し、Ｒ^３及びＲ^４は炭素数１〜８のアルキル基等を表す。）で示されるアクリル酸アミド誘導体を塩基と反応させ、５，５−二置換−３−ピロリン−２−オン誘導体を製造する。 - 特許庁
  • This monomer is a polycyclic compound represented by formula (1) or (2) (wherein R^1 and R^2 are each H or an alkyl or alkoxycarbonyl group; R^3 and R^4 are each H or an alkyl group; and X is a methylene or ethylene group, O or S).
    下記一般式（１）又は（２）で表されるラクトン構造を有する多環式化合物 （Ｒ^1及びＲ^2は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアルコキシカルボニル基を示す。Ｒ^3ないしＲ^7は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示す。Ｘはメチレン基、エチレン基、酸素原子又は硫黄原子を示す。） - 特許庁
  • In general formula (1), R^1 represents a hydrogen atom or methyl group, R^2 and R^3 each represent 1-4C alkyl group, R^4 represents hydrogen atom, methyl group or benzyl group, A represents an oxygen atom or NH group, B represents a 1-4C alkylene group, and X^1 represents an anion.
    （上記の一般式（１）において、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^４は、水素原子、メチル基、ベンジル基を表し、Ａは酸素原子またはＮＨ基を表し、Ｂは炭素数１〜４のアルキレン基を表し、Ｘ^１は陰イオンをそれぞれ表す。） - 特許庁
  • The oxygen absorptive resin composition comprises (A) a thermoplastic resin having a structural unit represented by general formula (I), (B) a transition-metal salt, and (C) a matrix resin if necessary, wherein X is a methylene group or an oxygen atom, R^1, R^2, R^3, and R^4 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group.
    一般式（Ｉ）の構造単位を有する熱可塑性樹脂（Ａ）、遷移金属塩（Ｂ）、および必要に応じてマトリックス樹脂（Ｃ）を含有する酸素吸収性樹脂組成物（Ｘはメチレン基または酸素原子、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立して水素原子またはアルキル基）。 - 特許庁
  • In the formulas: R^1 and R^2 are each independently a hydrogen atom or a 1-6C alkyl group, or R^1 and R^2 form a 2-9C polymethylene group together; X is a chlorine atom or a bromine atom; n is an integer of 2-9; and M is a hydrogen atom or an alkali metal.
    （式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表すか、Ｒ^１とＲ^２とが一緒になって炭素数２〜９のポリメチレン基を表し、Ｘは塩素原子又は臭素原子を表し、ｎは２〜９の整数を表し、Ｍは水素原子又はアルカリ金属を表す。） - 特許庁
  • In the formula, Ar^1 to Ar^3 represent an aromatic residue, R^1 to R^8 represent H, an alkyl group or an aryl group, X^1 represents a substituent having 3-7C branched alkyl structure, and n^1 and n^2 represent 1 to 5.
    （Ａｒ^１〜Ａｒ^３は芳香族残基を、Ｒ^１〜Ｒ^８はＨ，アルキル基又はアリール基を、Ｘ^１はＣ３〜７の分岐アルキル構造を有する置換基を、ｎ^１〜ｎ^２は１〜５を表わす。） - 特許庁
  • In the formula, R^1 is a lower alkyl group, R^2 is a substituted or unsubstituted lower alkyl group, X is a nitroso group at 2-, 3- or 4-position, and Y is an atomic symbol N or NH.
    一般式（Ｉ）：（式中、Ｒ^１は低級アルキル基、Ｒ^２は、置換若しくは非置換低級アルキル基、Ｘは２−、３−または４−位におけるニトロソ基、Ｙは原子記号Ｎ若しくはＮＨである。） - 特許庁
  • In the general formula (1), R^1-R^4 are each independently an alkyl group, an aryl group and the like; X is a 4-16C divalent condensed aromatic ring group optionally containing a hetero atom.
    一般式（１）（式中、Ｒ^1〜Ｒ^4は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基などを表す。Ｘは、ヘテロ原子を含んでも良い炭素原子数４〜１６からなる２価の芳香族環縮合基を表す。） - 特許庁
  • When x/R is 0.1 to 0.3 where a difference between the diameter of the plate opening and the diameter R of the through-hole opening is set to 2x, and when a distance between the silicon wafer and a plate is set to 0.05 mm to 1.0 mm, the above described problem can be achieved.
    プレート開口径と貫通孔開口径Ｒの差を２ｘとしたとき、ｘ／Ｒを0.1〜0.3、シリコンウエハとプレートの距離を0.05ｍｍ〜1.0ｍｍとしたときに、前記課題を実現できる。 - 特許庁
  • Values of a wavelength parameter λ, an angle frequency parameter ω, an amplitude parameter R and a ratio between R and λare differentiated between F1 (X, t) and F2 (Z, t) and varied according to generation of an event and the passage of time.
    波長パラメータλ、角振動数パラメータω、振幅パラメータＲの値やＲとλの値の比を、Ｆ１（Ｘ、ｔ）、Ｆ２（Ｚ、ｔ）間で異ならせたり、イベント発生や時間経過に応じて変化させる。 - 特許庁
  • (In the formula, X is H or a halogen atom; R^1 is H or a 1-6C straight chain or branched alkyl group; and R^2 is a 6-18C straight chain or branched alkyl group).
    <chemistry num="1"> </chemistry>（式中、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を示す。Ｒ^１は水素または炭素数１〜６の直鎖又は分岐のアルキル基、Ｒ^２は炭素数６〜１８の直鎖又は分岐のアルキル基である。） - 特許庁
  • In the formula, Q represents an aryl or an aromatic heterocycle group; R^A and R^B each represents a hydrogen atom, an alkyl, an aryl or the like; m represents 0 to 4; n represents 0 to 7; and X^- represents a pharmacologically acceptable anion.
    （式中、Ｑは、アリール、芳香族複素環基を、Ｒ^ＡおよびＲ^Ｂは、水素原子、アルキル、アリール等を、ｍは０〜４を、ｎは０〜７を、Ｘ^−は、薬理学的に許容されるアニオンを表す） - 特許庁
  • The top of a cathode 31 is sensed, and concentricity adjustment is performed by moving the first grid 11 in the X-Y direction so that the center of a grid hole 11h-R is located identical to the top of cathode.
    カソード３１の頂上部を検出して、グリッド孔１１ｈ-Rの中心が、この頂上部となるように第１グリッド１１をＸ−Ｙ方向に移動させて同芯度調整を行う。 - 特許庁
  • The plasticizer for polyamide resin containing trimethylolpropane fatty acid ester expressed by the formula (1) and the polyamide resin compound containing the plasticizer and the polyamide resin are provided (wherein, R represents a 5-9C alkyl group or alkenyl group, and X represents a hydrogen atom or a group represented by COR (R is the same)).
    一般式（１）で表されるトリメチロールプロパン脂肪酸エステルを含有するポリアミド樹脂用可塑剤、並びにこの可塑剤と、ポリアミド樹脂とを含有するポリアミド樹脂組成物。 - 特許庁
  • The mammary-gland content rate r(x, y) is calculated for each pixel of the breast image P obtained by a radiation imaging apparatus 2.
    放射線撮影装置２により取得された乳房画像Ｐに基づいて画素毎に乳腺含有率ｒ（ｘ，ｙ）が算出される。 - 特許庁
  • Polymers comprise monomer units represented by the following structural formula, wherein R is an organic radical, and each X is independently a substituted or unsubstituted alkylene group.
    下記構造式：（式中、Ｒは有機ラジカルであり；各Ｘは（置換）アルキレン基）で表されるモノマー単位を含んで構成されるポリマー。 - 特許庁
  • The liquid crystal display is installed with the above medium (in the formula, R^1 is an alkyl group or the like; A^11 is a pyran ring or the like; A^12 is cyclohexane ring or the like; and X^1 is halogen or the like).
    （式中、Ｒ^１はアルキル基等、Ａ^１１はピラン環等、Ａ^１２はシクロヘキサン環等、Ｘ^１はハロゲン等を意味する。） - 特許庁
  • The compounds are described by the formula (II) (wherein M is Rh or Ir; X is halogen; Y is O, S or Se; R is an aromatic hydrocarbon; and a, b and n are each an integer).
    化合物は（式中、Ｍ：Ｒh,Ir、Ｘ：ハロゲン、Ｙ：Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｒ：芳香族炭化水素、およびａ，ｂ，ｎ：整数をあらわす。） - 特許庁
  • A response apparatus generates processed first data X, before signature by using a fictitious name N and random numbers r, and transmits the data to the server 1.
    回答装置は、仮名Ｎ及び乱数ｒを用いて第１の署名前処理データＸを生成し、サーバ装置１に送信する。 - 特許庁
  • The fluorine-containing nonionic surfactant is represented by formula (1): Rf-O-X-Y-(AO)_n-C(=O)-C(R)=CH_2.
    下記一般式（１）：Ｒｆ−Ｏ−Ｘ−Ｙ−（ＡＯ）_ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（Ｒ）＝ＣＨ_２ （１）で表される含フッ素ノニオン系界面活性剤。 - 特許庁
  • In the formula, G represents a heterocyclic group, R, X, Y, Z and Q represent substituents, and n represents an integer of 1-3.
    一般式（Ｙ−１）：（式中、Ｇはヘテロ環基を表し、Ｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、およびＱは置換基を表し、ｎは１〜３の整数を表す） - 特許庁
  • Important: Remember, both your video card information and your motherboard information must show the same FW capability.
    起動中のカーネルに適当なDRMモジュールを読み込ませるために、カーネルモジュールを/lib/modules/`uname-r`/kernel/drivers/char/drm/にコピーし、modules-updateを実行してXサーバを再起動してください。 - Gentoo Linux
  • In general formula [1], X denotes a halogen atom; R denotes a hydrogen atom or an alkyl group; n is an integer of 3-6; and n+m=6.
    （一般式［１］中、Ｘはハロゲン原子、Ｒは水素原子またはアルキル基を示し、ｎは３〜６の整数で、且つ、ｎ＋ｍ＝６である。） - 特許庁
  • In the general formula (1), X^1 represents oxygen atom, sulfur atom, SO_2 group or NH group, and R^1 represents alkyl group or aryl group.
    （一般式（１）中Ｘ^1は酸素原子、硫黄原子、ＳＯ_2基またはＮＨ基を表し、Ｒ^1は、アルキル基またはアリール基を表す。） - 特許庁
  • In the formula, Q is a single bond or alkylene; X is -NH- or -C-; and R^11 is hydrogen or an alkyl.
    （式中、Ｑは単結合又アルキレン基を表し、Ｘは−ＮＨ−又は−Ｃ−を表し、Ｒ^11は水素原子又はアルキル基を表す。） - 特許庁
  • To provide a laminated impedance element having characteristics of a large R component and small X component, suitable for EMI countermeasures.
    ＥＭＩ対策に適した、Ｒ成分が大きく且つＸ成分の小さい特性を有する積層インピーダンス素子を提供すること。 - 特許庁
  • The invention relates to a method for screening, from a gene library, a translational fusion partner (TFP) that induces extracellular secretion of a non-producible X-R fusion protein, which is prepared by linking a non-producible target protein gene (X) to a reporter gene (R) for automatic screening, through fusion of the X-R fusion product with other genes.
    本発明の方法は、難発現性の目的タンパク質遺伝子（Ｘ）を自動選別用レポーター遺伝子（Ｒ）に結合してＸ−Ｒの難発現性融合タンパク質を製造し、Ｘ−Ｒの融合物に別の遺伝子の融合によってＸ−Ｒ難発現性融合タンパク質の分泌を細胞外に誘導するタンパク質融合因子（ｔｒａｎｓｌａｔｉｏｎａｌ ｆｕｓｉｏｎ ｐａｒｔｎｅｒ、ＴＦＰ）を遺伝子ライブラリーから選別する方法である。 - 特許庁
  • The resin removing agent is a solution which comprises a block polyether-modified silicone compound comprising a quaternary ammonium compound expressed by the general formula (R^1)_3-N^+-R^2-X^-, a quaternary ammonium compound expressed by the general formula (R^3)_4-N^+-X^-, a silicone moiety and a polyether moiety, and a solvent.
    一般式、（Ｒ^１）_３−Ｎ^＋−Ｒ^２・Ｘ^− で表される四級アンモニウム化合物と、一般式、（Ｒ^３）_４−Ｎ^＋・Ｘ^− で表される四級アンモニウム化合物と、シリコーン部分とポリエーテル部分とから少なくとも構成されるブロック型ポリエーテル変性シリコーン化合物と、溶媒と、を含有する溶液である樹脂除去剤である。 - 特許庁
  • (In the formula, R^1 is polyether having 1-4C linear or branched alkyl, such as methoxyethoxymethyl, R^2 is polyether which is the same as or different from R^1, methyl or ethyl, and X^-is anion such as halide ion).
    （式中、Ｒ^１は、炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキル基を有するポリエーテル基を表し、メトキシエトキシメチル基等である。Ｒ^２は、Ｒ^１と同一又は異なるポリエーテル基、メチル基又はエチル基を表す。Ｘ^−は、ハロゲン化物イオン等のアニオンを示す。） - 特許庁
  • In the formulae (III-1) and (I-0), X^1-X^3 are each independently a halogen atom; R^3 is a hydrogen atom or a protective group of the carboxyl group such as a methyl group; and Z is a nitro group or an amino group.
    （式中、Ｘ^1〜Ｘ^3は、各々独立してハロゲン原子を表し、Ｒ^3は、水素原子またはメチル基のようなカルボキシル基の保護基を表し、Ｚはニトロ基またはアミノ基を表す。） - 特許庁
  • The ratio R=(at-% to X)/(at-% of Me + at-% of Me2) of the h-Me1Me2X phase is between 0.5 and 1.0, preferably between 0.75 and 1.0 and X contains less than 30 at-% of O + B.
    前記ｈ−Ｍｅ１Ｍｅ２Ｘ相の比率Ｒ＝（Ｘのａｔ％）／（Ｍｅ１のａｔ％＋Ｍｅ２のａｔ％）が、０．５〜１．０好ましくは０．７５〜１．０の間にあり、且つＸが３０ａｔ％未満のＯ＋Ｂを含む。 - 特許庁
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